公开(公告)号：CN1892426A

公开(公告)日：2007-01-10

申请号：CN200610098739.6

申请日：2006-07-10

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进世美肯株式会社

Inventor： 朴廷敏 ,  李羲国 ,  周振豪 ,  全祐奭 ,  郑斗喜 ,  金东敏 ,  崔基植

IPC: G03F7/012 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/022 ,  G03F7/0045

Abstract: 提供光刻胶组合物、使用该光刻胶组合物形成薄膜图案的方法、以及使用该光刻胶组合物制造薄膜晶体管阵列面板的方法。在一个方式中，光刻胶组合物包括碱溶性树脂、光敏化合物以及添加剂，用于在通道区域有利地提供均匀的光刻胶。

公开(公告)号：CN1892426B

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN200610098739.6

申请日：2006-07-10

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进世美肯株式会社

Inventor： 朴廷敏 ,  李羲国 ,  周振豪 ,  全祐奭 ,  郑斗喜 ,  金东敏 ,  崔基植

IPC: G03F7/012 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/022 ,  G03F7/0045

Abstract: 提供光刻胶组合物、使用该光刻胶组合物形成薄膜图案的方法、以及使用该光刻胶组合物制造薄膜晶体管阵列面板的方法。在一个方式中，光刻胶组合物包括碱溶性树脂、光敏化合物以及添加剂，用于在通道区域有利地提供均匀的光刻胶。

公开(公告)号：CN1975575A

公开(公告)日：2007-06-06

申请号：CN200610140353.7

申请日：2006-11-27

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金柄郁 ,  金东敏 ,  朴大然 ,  金周赫 ,  崔基植 ,  金贞元 ,  李起范 ,  卞哲基 ,  金纹秀

IPC: G03F7/016 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种用于制造液晶显示元件的电路、半导体集成电路等微细电路的光刻胶组合物，具体地涉及一种包含(a)酚醛清漆树脂、(b)重氮类感光性化合物、(c)流动性改善剂、(d)灵敏度增进剂、及(e)有机溶剂的感光性组合物。本发明所提出的光刻胶组合物通过使用流动性改善剂及灵敏度增进剂，防止了强真空干燥引起的图案变形，并提高了图案的均匀性，且具有感光速度、残膜率、显影对比度、分辨率、高分子树脂的溶解性、与基板的粘合性，及电路线宽均匀性均优异的特点。