烹饪设备
    1.
    发明公开
    烹饪设备 审中-实审

    公开(公告)号:CN116490730A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202280007682.1

    申请日:2022-03-15

    Inventor: 金庆真 金彦中

    Abstract: 烹饪设备包括:烹饪室;加热源,布置在烹饪室的下部并产生高频;主板,形成烹饪室的至少一部分并具有开放的前表面;前结合凸缘,结合于主板的前方,并且包括形成有与烹饪室联通的开口的基座。前结合凸缘从基座的内侧端部向后方弯曲而与主板卷曲结合,并且包括设置为比主板的下表面更向上方突出的一部分。

    烹饪器具
    2.
    发明公开
    烹饪器具 审中-实审

    公开(公告)号:CN114930986A

    公开(公告)日:2022-08-19

    申请号:CN202180009011.4

    申请日:2021-01-15

    Abstract: 一种烹饪器具,包括:烹饪室,被配置为在其中烹饪食物并可在第一方向上打开;搁架,被提供为在第一方向上插入烹饪室中并且食物被放置在其上;以及多个加热器,被配置为向搁架供热并设置在烹饪室的一侧。其中,搁架包括布置在与第一方向垂直的第二方向上的一侧的第一区域和布置在第二方向上的另一侧的第二区域。所述多个加热器包括设置为在垂直于第一区域和第二区域的第三方向上对应于第一区域的第一加热器和设置为在第三方向上对应于第二区域的第二加热器。所述多个加热器被配置为向第一区域比向第二区域提供更多的热。

    烹饪装置
    3.
    发明公开
    烹饪装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN115669221A

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202180035448.5

    申请日:2021-05-13

    Abstract: 一种烹饪装置,包括:烹饪室;第一加热源,被设置在烹饪室的上侧并且包括多个加热器的第一加热源;第二加热源,被设置在烹饪室下侧并且包括被配置为产生高频波的磁控管;以及搁架,被设置为可在前后方向上插入烹饪室并且被配置为在竖直方向上划分烹饪腔。其中,烹饪室包括形成在搁架上方的第一烹饪区域和形成在搁架下方的第二烹饪区域,由第一加热源和第二加热源烹饪的要烹饪的第一对象在第一烹饪区域中烹饪,以及由第二加热源烹饪的要烹饪的第二对象在第二烹饪区域中烹饪,搁架包括烹饪表面和热发生器,烹饪表面被设置为面向第一加热源并放置要烹饪的第一对象,以及热发生器被设置为面向第二加热源并且被配置为因第二加热源振荡的高频波而产生热量并将热量传递到烹饪表面,以及搁架被设置为相比距第二加热源更靠近第一加热源。

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