Patent search ap:("三星电子株式会社") AND inv:"金孝娟" Page 1

1.

发明公开
制造光掩模的方法审中-公开

公开(公告)号：CN118466107A

公开(公告)日：2024-08-09

申请号：CN202410174800.9

申请日：2024-02-07

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金孝娟 , 裵硕钟 , 朴强浩 , 金俞利

IPC: G03F1/36

Abstract: 在制造光掩模的方法中，可以设计要在光掩模中形成的目标图案的布局。可以执行目标图案的位移误差的建模，并且可以基于目标图案的位移误差的建模来生成目标图案的位移误差校正图。可以在反映目标图案的位移误差校正图的空白掩模上执行曝光工艺。可以在空白掩模上执行显影工艺和蚀刻工艺以形成光掩模。

Patent Agency Ranking