公开(公告)号：CN1175292C

公开(公告)日：2004-11-10

申请号：CN00119988.9

申请日：2000-06-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金世润 ,  辛相吉 ,  金玟成

IPC: G02B6/124 ,  G02B5/18

CPC classification number: G02B6/02138 ,  G02B6/02085

Abstract: 变迹光纤光栅制造设备包括：紫外激光器；分束器；多个反射镜；相位掩模，它让反射的光束通过，以便以预定的周期在光纤内形成光栅；第一遮断装置，它位于相位掩模和反射镜之一之间，逐渐遮断两束光束之一，使之不能从一个方向投射在光纤上而向形成的光栅提供变迹；相对于光纤位于第一遮断装置对面的第二遮断装置，它逐渐遮断另一束光束，使之不能从另一个方向投射在光纤上，于是向形成的光栅提供变迹，使得在整个光栅上平均折射率的变化是恒定的。

公开(公告)号：CN1292500A

公开(公告)日：2001-04-25

申请号：CN00119988.9

申请日：2000-06-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金世润 ,  辛相吉 ,  金玟成

IPC: G02B6/124 ,  G02B5/18

CPC classification number: G02B6/02138 ,  G02B6/02085

Abstract: 变迹光纤光栅制造设备包括:紫外激光器;分束器;多个反射镜;相位掩模,它让反射的光束通过,以便以预定的周期在光纤内形成光栅;第一遮断装置,它位于相位掩模和反射镜之一之间,逐渐遮断两束光束之一,使之不能从一个方向投射在光纤上而向形成的光栅提供变迹;相对于光纤位于第一遮断装置对面的第二遮断装置,它逐渐遮断另一束光束,使之不能从另一个方向投射在光纤上;于是向形成的光栅提供变迹,使得在整个光栅上平均折射率的变化是恒定的。