化学机械平坦化用保持环的主体

    公开(公告)号:CN308638657S

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202330544512.4

    申请日:2023-08-24

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:化学机械平坦化用保持环的主体。
    2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品的整体和要求保护的局部均用作针对半导体晶片的化学机械平坦化工艺中使用的保持环。
    3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。
    4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。
    5.其他需要说明的情形其他说明:视图中以实线描绘的部分为本外观设计要求保护的部分。

    化学机械平坦化用保持环的主体

    公开(公告)号:CN308817539S

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202330365903.X

    申请日:2023-06-14

    Designer: 李衡柱 宋炫东

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:化学机械平坦化用保持环的主体。
    2.本外观设计产品的用途:整体产品和要求保护的局部均用作化学机械平坦化用保持环。
    3.本外观设计产品的设计要点:在于要求保护的局部的形状。
    4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。
    5.其他需要说明的情形其他说明:视图中以实线描绘的部分为本外观设计要求保护的部分。

    化学机械平坦化用保持环的主体

    公开(公告)号:CN308800234S

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN202330365784.8

    申请日:2023-06-14

    Designer: 李衡柱 宋炫东

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:化学机械平坦化用保持环的主体。
    2.本外观设计产品的用途:整体产品和要求保护的局部均用作化学机械平坦化用保持环。
    3.本外观设计产品的设计要点:在于要求保护的局部的形状。
    4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。
    5.其他需要说明的情形其他说明:视图中以实线描绘的部分为本外观设计要求保护的部分。

    化学机械平坦化用保持环的主体

    公开(公告)号:CN308800233S

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN202330365257.7

    申请日:2023-06-14

    Designer: 李衡柱 宋炫东

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:化学机械平坦化用保持环的主体。
    2.本外观设计产品的用途:整体产品和要求保护的局部均用作化学机械平坦化用保持环。
    3.本外观设计产品的设计要点:在于要求保护的局部的形状。
    4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。
    5.其他需要说明的情形其他说明:视图中以实线描绘的部分为本外观设计要求保护的部分。

    化学机械平坦化用保持环的主体

    公开(公告)号:CN308638656S

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202330544441.8

    申请日:2023-08-24

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:化学机械平坦化用保持环的主体。
    2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品的整体和要求保护的局部均用作针对半导体晶片的化学机械平坦化工艺中使用的保持环。
    3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。
    4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。
    5.其他需要说明的情形其他说明:视图中以实线描绘的部分为本外观设计要求保护的部分。

Patent Agency Ranking