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公开(公告)号：CN101169599A
公开(公告)日：2008-04-30
申请号：CN200710170189.9
申请日：2007-10-23
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/42
CPC classification number: H01L21/6708 , G03F7/423
Abstract: 本发明涉及利用处理液除去基板的光刻胶并用臭氧处理处理液。当处理液被喷射到基板上时，倾斜基板以从基板上除去光刻胶。因此使用处理液均匀地处理基板以及收集处理液变得很方便。收集的处理液通过臭氧进行处理然后再使用。
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