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公开(公告)号：CN117957105A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202280062897.3
申请日：2022-09-09
Applicant: 三井化学东赛璐株式会社
Inventor： 吉田直纪
Abstract: 本发明的课题为提供一种制程用离型膜，其通过具有高脱气性，能够以超越现有技术的极限的高生产性来生产树脂密封半导体等，并且维持以往对制程用离型膜所要求的优异离型性、成形品的外观、模具跟随性等，且这些特性以超越现有技术的极限的高水平达成均衡。该课题通过制程用离型膜得到解决，该制程用离型膜于2面中的至少一面上形成有凹凸，且该形成有凹凸的面的通过激光显微镜所测定的Sdr(界面展开面积比)为4.0至50.0％。
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公开(公告)号：CN115151419B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202180016988.9
申请日：2021-02-22
Applicant: 三井化学东赛璐株式会社
Inventor： 吉田直纪
Abstract: 本发明提供一种多层离型膜，其耐断裂性、追随性、离型性、防止侧面的咬入、抑制缓冲层渗出等物性优异。该课题通过下述多层离型膜而获得解决，该多层离型膜为对包含含有非交联性树脂及自由基捕捉剂的离型层A、以及含有乙烯系聚合物的树脂层B的多层膜进行电子射线照射而使树脂层B交联而形成，其中，电子射线照射后的离型层A的对于水的接触角为90°至130°。
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公开(公告)号：CN115151419A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202180016988.9
申请日：2021-02-22
Applicant: 三井化学东赛璐株式会社
Inventor： 吉田直纪
Abstract: 本发明提供一种多层离型膜，其耐断裂性、追随性、离型性、防止侧面的咬入、抑制缓冲层渗出等物性优异。该课题通过下述多层离型膜而获得解决，该多层离型膜为对包含含有非交联性树脂及自由基捕捉剂的离型层A、以及含有乙烯系聚合物的树脂层B的多层膜进行电子射线照射而使树脂层B交联而形成，其中，电子射线照射后的离型层A的对于水的接触角为90°至130°。
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