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公开(公告)号:CN102771184A
公开(公告)日:2012-11-07
申请号:CN201180009413.0
申请日:2011-02-18
Applicant: 三井化学东赛璐株式会社
Inventor: 中村修
IPC: H05B33/04 , G02F1/1333 , G02F1/1339 , H01L31/042 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC classification number: G02F1/1339 , H01L51/5253 , Y10T428/239
Abstract: 本发明提供一种功能元件,如液晶显示元件、有机EL等元件、面状发光体、光器件、太阳能电池等功能元件,其通过热封这样的简便的工序被可靠地密封,可使使用寿命长,并且可薄型化。本发明涉及一种密封的功能元件,其是具有基材层(W)、功能元件层(X)、密封用层合膜(Z)的密封的功能元件,其特征在于,基材层(W)与密封用层合膜(Z)的热封性热塑性树脂层(E)通过热封而密合一体化。密封用层合膜的特征在于,按叙述顺序层合有热封性热塑性树脂层(E)、吸水层(F)、气体阻隔层(G)。
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公开(公告)号:CN104379340B
公开(公告)日:2016-06-15
申请号:CN201380026125.5
申请日:2013-07-03
Applicant: 三井化学株式会社 , 三井化学东赛璐株式会社
IPC: B32B27/08 , B32B27/28 , H01L31/048 , B32B37/18
Abstract: 本发明涉及的层叠体包括基材(A)、在基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C),含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域,上述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5%以下及/或室温23℃下的相对湿度为30%以下的条件下,对在基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射,将该膜的至少一部分改性而形成的。
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公开(公告)号:CN104379340A
公开(公告)日:2015-02-25
申请号:CN201380026125.5
申请日:2013-07-03
Applicant: 三井化学株式会社 , 三井化学东赛璐株式会社
IPC: B32B9/00 , B32B27/00 , B32B37/00 , H01L31/048
Abstract: 本发明涉及的层叠体包括基材(A)、在基材(A)的至少一个面上依次层叠的含硅层(B)、和由具有聚合性基团的有机酸金属盐得到的聚合物层(C),含硅层(B)具有含有硅原子和氮原子、或硅原子和氮原子和氧原子、或硅原子和氮原子和氧原子和碳原子的氮高浓度区域,上述氮高浓度区域是通过在氧浓度为5%以下及/或室温23℃下的相对湿度为30%以下的条件下,对在基材(A)上形成的聚硅氮烷膜进行能量射线照射,将该膜的至少一部分改性而形成的。
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