公开(公告)号：CN104247078B

公开(公告)日：2017-03-22

申请号：CN201280068183.X

申请日：2012-11-27

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO ,  荷兰皇家飞利浦股份有限公司

Inventor： 科恩·维尔旭仁 ,  安东尼斯·玛丽亚·B·范默尔 ,  彼得·范德韦尔

IPC: H01L51/52

CPC classification number: H01L51/5259 ,  H01L51/5253 ,  H01L51/56 ,  H01L2251/568

Abstract: 本发明涉及一种密封的薄膜器件(10，12，14，15，16，17，18)，涉及一种用于修复涂覆到薄膜器件(30)的密封层(20)以产生密封的薄膜器件的方法，涉及一种用于修复涂覆到薄膜器件的密封层以生成密封的薄膜器件的系统(200)，并且涉及一种计算机程序产品。密封的薄膜器件包括薄膜器件和用于保护薄膜器件免受环境影响而涂覆在薄膜器件上的密封层。密封层至少包括第一阻挡层和第二阻挡层(22，24)和在第一阻挡层和第二阻挡层之间设置的吸气层(25)。密封的薄膜器件还包括局部涂覆的修补材料(40；42，44)，用于密封在所述阻挡层中的外部阻挡层果是密封的薄膜器件的使用寿命得以提高。此外，生产密封的薄膜器件的成品率得以提高。(22)中的局部缺口(50)。此密封的薄膜器件的效

公开(公告)号：CN104247078A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201280068183.X

申请日：2012-11-27

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO ,  荷兰皇家飞利浦股份有限公司

Inventor： 科恩·维尔旭仁 ,  安东尼斯·玛丽亚·B·范默尔 ,  彼得·范德韦尔

IPC: H01L51/52

CPC classification number: H01L51/5259 ,  H01L51/5253 ,  H01L51/56 ,  H01L2251/568

Abstract: 本发明涉及一种密封的薄膜器件(10，12，14，15，16，17，18)，涉及一种用于修复涂覆到薄膜器件(30)的密封层(20)以产生密封的薄膜器件的方法，涉及一种用于修复涂覆到薄膜器件的密封层以生成密封的薄膜器件的系统(200)，并且涉及一种计算机程序产品。密封的薄膜器件包括薄膜器件和用于保护薄膜器件免受环境影响而涂覆在薄膜器件上的密封层。密封层至少包括第一阻挡层和第二阻挡层(22，24)和在第一阻挡层和第二阻挡层之间设置的吸气层(25)。密封的薄膜器件还包括局部涂覆的修补材料(40；42，44)，用于密封在所述阻挡层中的外部阻挡层(22)中的局部缺口(50)。此密封的薄膜器件的效果是密封的薄膜器件的使用寿命得以提高。此外，生产密封的薄膜器件的成品率得以提高。