-
公开(公告)号:CN108602128B
公开(公告)日:2021-07-09
申请号:CN201680078723.0
申请日:2016-09-26
申请人: 株式会社丰山控股
IPC分类号: B22F9/04
摘要: 本发明涉及一种通过使用热等离子体制备具有均匀氧钝化层的铜金属纳米粉末的方法及其制备设备,更具体地,涉及一种制备用于光烧结(light sintering)的铜金属纳米粉末的方法,所述铜金属纳米粉末具有50‑200nm的平均直径和平均厚度为1‑30nm的表面氧钝化层,所述方法允许平均直径为5‑30μm的铜或铜合金粉末穿过热等离子体炬(torch)、反应容器以及氧反应区域,其中,以0.5‑7kg/hr的注入速度注入铜或铜合金粉末,对于每小时注入的每kg的铜或铜合金粉末,添加到氧反应区域的氧量在0.3‑12标准升每分钟(slpm)的范围内;还涉及一种用于制备其的光烧结铜金属纳米粉末制备设备。
-
公开(公告)号:CN108602128A
公开(公告)日:2018-09-28
申请号:CN201680078723.0
申请日:2016-09-26
申请人: 株式会社丰山控股
IPC分类号: B22F9/04
摘要: 本发明涉及一种通过使用热等离子体制备具有均匀氧钝化层的铜金属纳米粉末的方法及其制备设备,更具体地,涉及一种制备用于光烧结(light sintering)的铜金属纳米粉末的方法,所述铜金属纳米粉末具有50-200nm的平均直径和平均厚度为1-30nm的表面氧钝化层,所述方法允许平均直径为5-30μm的铜或铜合金粉末穿过热等离子体炬(torch)、反应容器以及氧反应区域,其中,以0.5-7kg/hr的注入速度注入铜或铜合金粉末,对于每小时注入的每kg的铜或铜合金粉末,添加到氧反应区域的氧量在0.3-12标准升每分钟(slpm)的范围内;还涉及一种用于制备其的光烧结铜金属纳米粉末制备设备。
-