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公开(公告)号：CN112345466B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202010747463.X
申请日：2020-07-30
申请人： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
摘要： 本发明涉及一种用于在测量系统中进行补偿的方法。用于补偿在光谱测量系统(10)中不同波长处的不同灵敏度的方法，包括以下步骤：在相对于一个或多个已知参考标准的波长范围内校准测量系统(10)；创建用于线性化的波长相关补偿算法；以及使用补偿算法调整测量系统(10)。本发明进一步公开了相应的测量系统(10)。
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公开(公告)号：CN118250311A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202311774397.5
申请日：2023-12-21
申请人： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
发明人： 罗曼·格里塞尔 , 马尔科·贝松 , 尼古拉-斯文·斯特罗菲尔德 , 伯恩哈德·里斯特 , 莫里斯·居特勒
IPC分类号： H04L67/125 , H04L67/289 , H04L67/303 , H04L12/40 , H04W4/38 , H04W4/80 , H04W8/20
摘要： 本发明涉及基于网络的测量系统。本发明公开了一种基于网络的测量系统(1)，包括：第一传感器(2a‑f)；至少一个第二传感器(2a‑f)；以及至少一个中间单元(5)，其中，第一传感器和/或第二传感器(2a‑f)经由连接被电连接到中间单元(5)，其中，第一传感器和第二传感器(2a‑f)经由连接被供电并且数据被双向交换，其中，连接包括基于网络的协议(10)，特别是利用TCP/IP协议，其中，中间单元(5)被连接到更高级单元(3)，其中，第一传感器和第二传感器(2a‑f)在不知道更高级单元(3)的情况下彼此交换数据。
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公开(公告)号：CN118225160A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202311708609.X
申请日：2023-12-13
申请人： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
摘要： 描述了用于测量介质的被测量的测量装置(100、200)，其具有测量单元(1)、用于保持测量单元的测量单元容座(3、3’)和用于测量被测量的测量设备(5、5’)，其中测量单元包括测量室(7)和参考室(9)，其中介质能够流过测量室或者测量室能够填充有介质，参考室与测量室分开并且能够填充参考介质或填充有参考介质。测量室和参考室相对于彼此布置，使得测量单元能够在测量位置插入到测量单元容座中，在测量位置中，对于介质的被测量的测量能够通过所述测量设备来执行，并且测量单元能够在参考位置插入到测量单元容座中，在参考位置中，对于位于参考室中的参考介质的至少一个参考变量的参考测量能够通过所述测量设备来执行。
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公开(公告)号：CN118225135A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202311653039.9
申请日：2023-12-05
申请人： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
摘要： 本发明涉及发射器、方法和计算机程序。一种测量换能器(1)包括：至少两个槽(5)；与槽(5)相关联的至少一个模块(4)；以及具有存储器(6a)的数据处理单元(6)，其中，数据处理单元(6a)被设计为读出模块(4)是否被分配槽(5)以及被分配到哪个槽(5)，并且被设计为基于模块(4)和所确定的槽(5)生成测量换能器组件的独特码(10)，其中，码(10)的一个数位被分配到每个槽。此外，本发明公开了一种具有这种测量换能器(1)的方法和一种由这种测量换能器(1)运行的计算机程序。
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公开(公告)号：CN113009165B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202011422103.9
申请日：2020-12-08
申请人： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
发明人： 乌尔里希·罗滕斯坦纳 , 伊娃-玛丽亚·佩塔 , 克里斯蒂安·克莱默
摘要： 本申请涉及用于控制分析仪的方法。本发明涉及一种用于控制分析仪的方法，包括至少以下步骤：通过至少以下子步骤确定限制热输出：通过温度传感器重复地测量反应器室的温度，将每个测量温度保存在存储器中，通过加热器以预先指定的热输出重复地加热反应器室，将所讨论的热输出保存在存储器中，基于最高的保存热输出确定限制热输出；测量反应器室的当前温度；将当前温度与最后保存的温度进行比较；将当前温度保存在存储器中；通过加热器以当前热输出加热反应器室；将当前热输出与限制热输出进行比较；将当前热输出保存在存储器中；如果当前热输出大于限制热输出并且当前温度等于最后保存的温度，则输出错误消息。
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公开(公告)号：CN118169048A
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202311662778.4
申请日：2023-12-06
申请人： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
摘要： 本发明涉及校准容器和用于校准的方法。本发明公开了一种用于待校准的光学浸没传感的校准容器，其被设计用于测量、校准和/或调整被测量变量，包括：壳体，其具有用于引入光学浸没传感器的能够可重复紧密密封的开口，其中，壳体在其内部包括校准溶液，其中，壳体提供校准溶液的值，其中，开口包括用于在所有可能的空间自由度中对准和定位待校准的光学浸没传感器的引导件，其中，壳体被设计成使得：特别是作为散射、吸收、反射、磷光和荧光的结果的、由传感器发射和接收的光与壳体壁之间的相互作用对能够由传感器确定的测量值的影响最小，其中，校准溶液的体积同时被最小化。本发明另外公开了一种用于校准这种传感器的方法。
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公开(公告)号：CN118057147A
公开(公告)日：2024-05-21
申请号：CN202311507555.0
申请日：2023-11-13
申请人： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
摘要： 本发明涉及用于形成膜的设备和方法。本发明涉及用于在浸入管上形成用于电化学传感器的膜的方法，包括以下步骤：‑提供具有第一开口和第二开口的第一浸入管，以及具有熔化系统、定位系统、成像设备、压力供应器、控制系统的设备，其中熔化系统包括加热装置和包含熔体的坩埚，其中定位系统适合于相对于坩埚移动第一浸入管，使得第一浸入管的第一开口被浸入熔体中，其中成像设备包括第一相机，第一相机是温度敏感的并且以使得第一相机能够看到熔体的方式布置，其中压力供应器与第一浸入管的第一开口气密连接，其中控制系统与熔化系统、定位系统、成像设备和压力供应器连接。
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公开(公告)号：CN118050060A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202311503497.4
申请日：2023-11-13
申请人： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
摘要： 用于执行光学测量的测量单元，用于测量位于其中或流过其的介质的至少一个测量变量，具有：延伸穿过第一外壁的凹部，和/或延伸穿过与第一外壁相对的第二外壁的凹部；和具有透明窗口的窗口座，至少一个窗口座具有向外突出的突起且以可选自不同的安装深度的安装深度来能够插入到或被插入到分配给相应窗口座的凹部中，测量单元的包围凹部的壁在内侧上对于每个可选的安装深度分别具有接触表面组，该接触表面组被布置成相对于凹部的纵向轴线在径向方向上围绕凹部分布，使得突起可搁置在相应组的接触表面上，并且该接触表面组在轴向方向上被布置成如果突起搁置在相应组的接触表面上，则窗口座以分配给相应组的接触表面的安装深度被布置在凹部中。
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公开(公告)号：CN112305035B
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202010730127.4
申请日：2020-07-27
申请人： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
IPC分类号： G01N27/30 , G01N27/333 , G01N27/416 , G01N27/42 , G01N27/48 , G01N27/06
摘要： 本申请涉及校正来自不同分析测量装置的两个测量值的方法和测量点。本发明涉及用于校正第一/第二分析测量装置的第一/第二被测变量的第一/第二测量值的方法，第一分析测量装置对第二被测变量并且第二分析测量装置对第一被测变量具有交叉敏感性。方法包括：提供测量点，借助于第一/第二/第三分析测量装置确定第一/第二/第三测量值，通过考虑第一/第二测量值和第一分析测量装置对第二被测变量的交叉敏感性并补偿第一测量值对第三测量值的依赖性，借助于控制单元计算校正后的第一测量值，通过考虑第一/第二测量值和第二分析测量
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公开(公告)号：CN117075282A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202310544549.6
申请日：2023-05-15
申请人： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
发明人： 拉尔夫·伯恩哈特
摘要： 本发明涉及在外壳中安装一个或多个光学元件的方法。描述了在外壳的内部空间中安装至少一个光学元件的方法，在该方法中，包括被布置在堆叠中的一个或多个元件的组件被引入到内部空间中，其中，组件的元件包括将被安装的每个光学元件，组件在每种情况下都通过至少一个弹性体夹紧在垂直于定心轴线延伸的至少一个径向夹紧方向上，在该方法中，相应的弹性体被插入到凹进中，该凹进平行于定心轴线延伸并朝向内部空间敞开，并且相应的弹性体被夹紧在其中，使得弹性体在组件的元件、至少一个元件或每个元件的外边缘上施加作用在相应的径向夹紧方向上的夹紧力，所述元件、至少一个元件或每个元件在外壳的内部空间中与弹性体相邻并将被夹紧在所述外壳中。
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