公开(公告)号：CN109609035A

公开(公告)日：2019-04-12

申请号：CN201810329068.2

申请日：2018-04-13

Applicant: 富士胶片平面解决方案有限责任公司

Inventor： A·米什拉

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/321

Abstract: 本公开提供了相比于其他介电膜可选择性地且优选地抛光某些介电膜的抛光组合物。基于要去除及要保留的目标介电膜，这些抛光组合物包括阳离子或阴离子磨料。所述抛光组合物利用新颖的基于静电荷的设计，其中，基于磨料的电荷及其与介电膜上的电荷的静电相互作用(吸引力或排斥力)，可实现多种材料去除速率和抛光选择性。

公开(公告)号：CN107198975A

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：CN201710148083.2

申请日：2017-03-13

Applicant: 富士胶片平面解决方案有限责任公司

Inventor： 周仕斌 ,  张文宏 ,  D·马胡利卡尔 ,  T·瓦尔加 ,  A·米什拉

IPC: B01F3/00 ,  B01F5/00 ,  B01F5/10 ,  B01F15/06 ,  B01F15/00 ,  B01D37/00 ,  B01D37/04 ,  B65B3/00

CPC classification number: B01F13/1055 ,  B01F3/0861 ,  B01F3/088 ,  B01F3/1214 ,  B01F3/1221 ,  B01F3/2261 ,  B01F5/10 ,  B01F7/00633 ,  B01F15/00194 ,  B01F15/0022 ,  B01F15/00227 ,  B01F15/00285 ,  B01F15/02 ,  B01F15/0201 ,  B01F15/0202 ,  B01F15/0203 ,  B01F2215/0045 ,  B24B57/00 ,  B24B57/02 ,  C09G1/02 ,  B01F3/0092 ,  B01D37/00 ,  B01D37/043 ,  B01F5/00 ,  B01F5/0057 ,  B01F5/102 ,  B01F15/00142 ,  B01F15/00233 ,  B01F15/06 ,  B01F2005/0017 ,  B01F2005/0025 ,  B65B3/00

Abstract: 本发明提供了形成化学组合物的方法。所述方法包括(1)在混合罐中混合多个连续材料流以形成化学组合物，每个连续材料流包括所述组合物的至少一种组分；及(2)使所述化学组合物的连续流移动到所述混合罐下游的包装台。所述混合及移动步骤连续地执行。本发明还提供了可以用以执行所述方法的系统。