一种金属靶材的修复方法
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    发明公开

    公开(公告)号:CN118699400A

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202410988725.X

    申请日:2024-07-23

    发明人: 孔伟华 郭向东

    摘要: 一种金属靶材的修复方法,用于对钼钨合金靶材进行修复,包括:金属靶材的清洗、打磨,以及激光熔覆设备与送粉装置初始化;基于预设的交叉扫描路径,以逐层递进的方式进行激光熔覆;冷却后对熔覆层表面进行打磨,即完成对金属靶材的修复。本发明通过设置交叉扫描路径,以逐层递进的方式进行激光熔覆,形成较小的熔池,有效限制了钼钨合金的流动,减少了热影响区,避免了靶材性能劣化及热应力和变形,降低了局部开裂的风险。

    基于金属靶材制作钙钛矿薄膜的方法

    公开(公告)号:CN118360579A

    公开(公告)日:2024-07-19

    申请号:CN202410799486.3

    申请日:2024-06-20

    发明人: 孔伟华 郭向东

    摘要: 一种基于金属靶材制作钙钛矿薄膜的方法,包括:准备工作,包括:基底清洗、靶材准备与磁控溅射设备初始化;制备钙钛矿薄膜,包括:启动磁控溅射设备,进行磁控溅射沉积;以及根据激子峰的峰值强度与激子峰的宽度,控制磁控溅射设备的溅射时间;钙钛矿薄膜的退火处理,包括:基底转移与钙钛矿薄膜退火;以及根据激子峰的峰值强度与激子峰的宽度,控制退火炉的退火时间。本发明创造性的利用激子峰作为钙钛矿薄膜的表征。激子峰的强度与宽度反映了薄膜的光学活性和载流子复合效率,间接表征了薄膜的诸多性能参数。

    基于金属靶材制作钙钛矿薄膜的方法

    公开(公告)号:CN118360579B

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN202410799486.3

    申请日:2024-06-20

    发明人: 孔伟华 郭向东

    摘要: 一种基于金属靶材制作钙钛矿薄膜的方法,包括:准备工作,包括:基底清洗、靶材准备与磁控溅射设备初始化;制备钙钛矿薄膜,包括:启动磁控溅射设备,进行磁控溅射沉积;以及根据激子峰的峰值强度与激子峰的宽度,控制磁控溅射设备的溅射时间;钙钛矿薄膜的退火处理,包括:基底转移与钙钛矿薄膜退火;以及根据激子峰的峰值强度与激子峰的宽度,控制退火炉的退火时间。本发明创造性的利用激子峰作为钙钛矿薄膜的表征。激子峰的强度与宽度反映了薄膜的光学活性和载流子复合效率,间接表征了薄膜的诸多性能参数。