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公开(公告)号：CN1009879B
公开(公告)日：1990-10-03
申请号：CN87101270
申请日：1987-12-23
Applicant: 株式会社东芝 , 多摩化学工业株式会社
CPC classification number: H01J29/896 , H01J9/20
Abstract: 根据本发明，通过主要由缩合硅酸烷基酯构成的聚烷基硅氧烷的缩合反应，在阴极射线管(1)屏盘(2)上形成一层SiO2薄膜，从而容易地形成一层高粘结强度的抗静电/防反射薄膜(3)。结果，能适当地设定形成抗静电/防反射薄膜(3)的烧结条件。抗静电效果得到进一步增强，外光反射减小而工作能力大大改善。
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公开(公告)号：CN1030328A
公开(公告)日：1989-01-11
申请号：CN88102520
申请日：1988-04-28
Applicant: 株式会社东芝 , 多摩化学工业株式会社
CPC classification number: H01J29/868
Abstract: 本发明为阴极射线管提供一种足够的抗静电性质，它系由含有SiO2或P2O5为主要成分，以及一种吸湿性金属盐成分，在射线管前屏外表面上形成一层玻璃膜而实现。
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公开(公告)号：CN101384680B
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN200780005966.2
申请日：2007-02-19
Applicant: 多摩化学工业株式会社 , 塔姆网络株式会社
IPC: C09D183/04 , B32B9/00 , C09D5/16 , C09D7/12 , C09D185/00
CPC classification number: C09D183/04 , C08K3/08 , C08K3/22 , C09D5/14 , C09D5/1618 , C09D7/61 , C09D7/67 , Y10T428/256 , C08L2666/54
Abstract: 本发明提供一种均匀稳定性光催化涂覆液，其中，具有光催化活性的氧化钛粒子的分散稳定性优异，而且不对环境产生负荷且操作性优异，并且，可涂布于基材的表面而在该基材的表面上形成光催化活性(防污性和/或抗菌性)、透明性以及耐久性优异的光催化涂覆液涂膜，并提供该涂覆液的制造方法以及使用其制造的光催化活性复合材料。本发明提供：在水系溶剂中含有平均一次粒径5～50nm且平均分散粒径10～100nm的氧化钛分散粒子、高分子分散剂、烷氧基硅烷水解缩聚物、有机胺类、进一步根据需要而含有银粒子的组合物；pH值在pH5～9范围内的均匀分散性光催化涂覆液及其制造方法；以及将其涂布于基材的表面而制造的具有表面防污和抗菌性的光催化活性复合材料。
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公开(公告)号：CN101384680A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200780005966.2
申请日：2007-02-19
Applicant: 多摩化学工业株式会社 , 塔姆网络株式会社 , 神奈川县政府
IPC: C09D183/04 , B32B9/00 , C09D5/16 , C09D7/12 , C09D185/00
CPC classification number: C09D183/04 , C08K3/08 , C08K3/22 , C09D5/14 , C09D5/1618 , C09D7/61 , C09D7/67 , Y10T428/256 , C08L2666/54
Abstract: 本发明提供一种均匀稳定性光催化涂覆液，其中，具有光催化活性的氧化钛粒子的分散稳定性优异，而且不对环境产生负荷且操作性优异，并且，可涂布于基材的表面而在该基材的表面上形成光催化活性(防污性和/或抗菌性)、透明性以及耐久性优异的光催化涂覆液涂膜，并提供该涂覆液的制造方法以及使用其制造的光催化活性复合材料。本发明提供：在水系溶剂中含有平均一次粒径5～50nm且平均分散粒径10～100nm的氧化钛分散粒子、高分子分散剂、烷氧基硅烷水解缩聚物、有机胺类、进一步根据需要而含有银粒子的组合物；pH值在pH5～9范围内的均匀分散性光催化涂覆液及其制造方法；以及将其涂布于基材的表面而制造的具有表面防污和抗菌性的光催化活性复合材料。
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公开(公告)号：CN101027430A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200580031217.8
申请日：2005-09-08
Applicant: 多摩化学工业株式会社
CPC classification number: C22C13/00 , C25B1/00 , C25B11/0478 , C25B11/0484
Abstract: 提供在以阳离子交换膜作为隔膜的电解槽中电解季铵的无机酸盐而制造高纯度的氢氧化季铵方面，耐腐蚀性以及耐久性优异、可长期使用、而且可降低电力消耗量、可工业上不增加成本地制造高纯度的氢氧化季铵的电解用电极。是在用阳离子交换膜作为隔膜的电解槽中电解季铵的无机酸盐而制造氢氧化季铵时使用的电解用电极，其特征在于，由导电性金属制成的电极基体被包含有电极活性物质的电极活性层被覆，在该电极基体和电极活性层之间设有中间层，所述中间层包含选自In、Ir、Ta、Ti、Ru以及Nb的至少1种金属的氧化物和Sn的氧化物的混合氧化物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1121439A
公开(公告)日：1996-05-01
申请号：CN95105511.9
申请日：1995-05-26
Applicant: 多摩化学工业株式会社 , 株式会社东芝
CPC classification number: B01D53/1493 , B01D53/68
Abstract: 本发明提供了一种酸性废气的处理方法，该方法为在使废气与碱性的气体处理液接触，分离除去该废气中的酸性成分的酸性废气的处理方法中，使酸性废气与由季铵化合物的水溶液组成的气体处理液接触，从该酸性废气中分离除去酸性成分，该方法可以在不污染周围环境的清洁条件下容易而有效地处理含有酸性成分，特别是氟和氟化物的酸性废气，因此，它也可以在半导体工艺中的净室内实施，特别适用于处理半导体制造工艺中产生的含有氟和/或氟化物的酸性废气。
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公开(公告)号：CN119173476A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202380039275.3
申请日：2023-04-28
Applicant: 多摩化学工业株式会社
IPC: C01B33/141 , B24B37/00 , C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 提供微粒减少的胶体二氧化硅及其制造方法。胶体二氧化硅，其中，基于由使用电子显微镜的图像解析得到的当量圆直径(Heywood径)，具有粒径中间值的50％以下的粒径的微粒的个数分布比例为1％以下。另外，胶体二氧化硅的制造方法，其为制造该胶体二氧化硅的方法，是将易水解性有机硅酸酯供给于包含含有选自有机胺类中的1种或2种以上的混合物的水解催化剂的反应液并使其反应的方法，其中，在使易水解性有机硅酸酯的供给口浸渍在反应液面内的状态下进行供给。
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公开(公告)号：CN103189965A
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201180046403.4
申请日：2011-09-26
Applicant: 多摩化学工业株式会社 , UMS有限公司
IPC: H01L21/304 , B01J20/10 , C02F1/28 , C02F1/42
CPC classification number: B01J20/10 , B01J20/0251 , B01J20/28035 , H01L21/02052 , H01L29/1608
Abstract: 本发明提供一种半导体衬底用碱性处理液的精制方法及精制装置，其可以将为了以各种目的处理半导体衬底而使用的各种碱性处理液精制到超高纯度，特别是将Fe浓度精制到ppq水平，进而使用化学耐性及机械强度也优异的吸附精制装置。本发明提供一种碱性处理液的精制装置，用于在制造半导体衬底或半导体器件等时以各种目的处理半导体衬底，其中，使碱性处理液与吸附精制装置的碳化硅晶体表面相接触，并流过例如两面为CVD碳化硅面的吸附板层叠体（2）的间隙，使该碱性处理液中所含的金属杂质吸附于碳化硅晶体表面而被除去。
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公开(公告)号：CN1550537A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200410005562.1
申请日：2004-02-18
Applicant: 多摩化学工业株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09K3/1463 , C03C19/00 , C09G1/02 , C09K3/1409
Abstract: 一种分散稳定性优良的研磨剂浆体，包含：由一种或两种以上的氧化物构成的研磨微粒、为胶状氧化物具有比上述研磨微粒小的平均粒径的胶态微粒、使这些研磨微粒和胶态微粒分散的分散介质，以及，一种基板制造方法，包含采用这样的研磨剂浆体对无机质基板进行研磨的研磨工序。本发明的研磨剂浆体，在长时间内分散稳定性良好，另外，再分散性良好，可以尽可能地消除沉淀、凝聚问题，而且，可以在完全不采用有机类分散剂的分散剂浆体中使用，特别地，可以在工业上有利地利用CMP制造在半导体制造工艺中使用的硅基板和在静电卡盘制造工序中使用的铝基板等基板。
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公开(公告)号：CN1143862C
公开(公告)日：2004-03-31
申请号：CN00101154.5
申请日：1994-12-28
Applicant: 多摩化学工业株式会社 , GE东芝硅氧烷株式会社
CPC classification number: C08J11/18 , C07F7/0878 , C07F7/1876 , C07F7/20 , C08G77/06 , C08G77/10 , C08J2383/04 , Y02P20/582 , Y02W30/706
Abstract: 报道一种方法，该法包括使一种高分子量聚有机硅氧烷或者一种含有该组分的组合物与一种烷氧基甲硅烷和/或其部分水解缩合物在温度低于300℃有一种醇盐化合物存在下起反应，回收所得的有机烷氧基甲硅烷和除此物外至少一种可蒸馏聚有机硅氧烷低分子量化合物，一种不挥发的液态聚有机硅氧烷以及一种二氧化硅；该法包括使一种高分子量聚有机硅氧烷或一种含有该组分的组合物在无水状态下与一种醇盐化合物在温度为50-150℃下起反应，回收所得的可蒸馏聚有机硅氧烷低分子量化合物，和除此物以外至少一种有机烷氧基甲硅烷以及一种不挥发的液态聚有机硅氧烷。
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