挠性覆铜板以及包括其的电气器件

    公开(公告)号:CN113966074B

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN202110804951.4

    申请日:2021-07-16

    IPC分类号: H05K1/03 H05K1/09

    摘要: 本发明公开了一种挠性覆铜板和包括其的电气器件。所述挠性覆铜板可包括聚酰亚胺基材,其厚度为小于或等于20μm;结合层,其设置在所述聚酰亚胺基材的至少一个表面上;以及铜层,其厚度为2.0μm至8.7μm并且设置在所述结合层的至少一个表面上,其中,包括在所述铜层中的铜颗粒的结晶粒度为1.6μm至2.5μm,并且当用MIT式耐折度测定仪测量时,直到出现面积为4.5mm2或更大的裂缝,所述挠性覆铜板的往复折叠(folding)次数可为40次或更多。

    无纺布、无纺布层压制品及物品
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115812113A

    公开(公告)日:2023-03-17

    申请号:CN202180048343.3

    申请日:2021-07-07

    IPC分类号: D04H3/05

    摘要: 公开一种无纺布、无纺布层压制品及物品。公开的无纺布具有2.0%至65.9%的由以下数学式1表示的筛分函数值:【数学式1】筛分函数值(%)=(筛分试验后残留在无纺布上的粉末的最终重量)/(用于筛分试验的粉末的初始重量)×100。

    离型膜
    5.
    发明公开
    离型膜 审中-实审

    公开(公告)号:CN115397939A

    公开(公告)日:2022-11-25

    申请号:CN202180002518.7

    申请日:2021-06-29

    摘要: 本发明公开一种离型膜、包括所述离型膜的光学膜和电子器件。所述离型膜包括基材;和位于所述基材的至少一面上的离型层,所述离型层为用于形成离型层的组合物的固化层,所述组合物包括含氟有机聚硅氧烷和非含氟有机聚硅氧烷的共混物,所述离型层的氟原子/硅原子含量比从表面向中心方向减少,通过纳米压痕法测量的所述离型层的换算弹性模量(reduced modulus)为2GPa至6GPa,通过纳米压痕法测量的所述离型层的表面硬度(surface hardness)可以为0.3GPa至0.6GPa。

    单价阴离子选择性离子交换膜
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114423808A

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN202080065971.8

    申请日:2020-08-18

    发明人: 崔荣祐

    摘要: 公开一种单价阴离子选择性离子交换膜以及制备所述离子交换膜的方法。对于所述单价阴离子选择性离子交换膜的结构而言,表面部分的阳离子交换聚合物电解质的含量比较高,中心部分的阴离子交换聚合物电解质的含量比较高,并且,阴离子交换聚合物电解质相对于阳离子交换聚合物电解质的含量比在厚度方向上从表面向中心连续增加。由于这样的结构,与单价阴离子相比,多价阴离子交换膜渗透率显著减少,因此可以对单价阴离子具有高选择性。

    离型膜和其制造方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113480767A

    公开(公告)日:2021-10-08

    申请号:CN202110280399.3

    申请日:2021-03-16

    摘要: 公开了一种离型膜及其制造方法。在所述离型膜中,基材和离型层可以依次位置,所述离型层可以为氟改性聚硅氧烷混合物的硬化膜,所述氟改性聚硅氧烷混合物可以为在重復单位分别包括碳数为大于或等于4的氟化烷基和碳数为大于或等于4的氟化醚基的混合物,并在XPS表面分析时,F/Si的原子比可以为2.5至4.0。所述离型膜可以提供具有改善的轻剥离性和残余粘着率且坚固的含氟离型膜。