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公开(公告)号：CN117817868A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202311636238.9
申请日：2023-12-01
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
Abstract: 一种用于KDP和DKDP晶体线切割机的切削液恒温循环供给装置，包括L型的控制箱和嵌入在该控制箱内的切削液箱；在切削液箱的上方设有循环泵，用于抽取切削液，该循环泵外接进液管路，切削液箱通过隔板分为沉淀区和供给区，且沉淀区经过滤板分为上下二层，排液管道伸入至所述沉淀区的下层；切削液箱内切削液初始为装满状态，循环泵将切削液送往进液管道，进液管道直达DKDP晶体切割机的前端需要切削液冲淋的位置，切削液冲淋过后，经过排液管道回到切削液箱的沉淀区内，其中较大的杂质会通过重力的作用沉淀下去，切削液中小的杂质会被所述过滤板过滤掉，然后到达供给区。本发明具有升温速率快，切削液供给质量稳定，切削液的温度可调，切削液可循环使用。
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公开(公告)号：CN117719084A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202311636242.5
申请日：2023-12-01
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
Abstract: 本发明涉及一种用于KDP和DKDP晶体线切割机的机床线轮装置，所述装置包括左安装板、左安装架、顶部安装架、右安装架、右安装板以及若干线轮等。与本发明在切割KDP和DKDP晶体时，起到增大传动效率，减少线轮磨损，减小运转时线的抖动的作用。本发明通过张力控制系统，提高KDP和DKDP晶体切割时的稳定性，且切割的张力控制可调节，可以提高切割出的KDP和DKDP晶体切割面平整度，采用气缸提供的稳定气推力输出，可以避免或减少金刚石线在切割时的振动。
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公开(公告)号：CN113714859B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202111019961.3
申请日：2021-09-01
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
Abstract: 本发明涉及光学数控加工领域，具体为一种小磨头抛光机类光学平面加工非球面的方法，解决了三轴联动小磨头无法实现高精度加工非球面的问题，提升了这类小磨头抛光机的利用率。本发明主要利用被加工元件矢高较小，抛光头可贴合元件表面，再利用坐标变换将测量高点位置精确转换到类平面去除位置，实现收敛加工。经多次迭代抛光，可最终实现非球面元件的加工。
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公开(公告)号：CN107540372B
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN201610465700.7
申请日：2016-06-24
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
IPC: C04B35/488 , C04B35/64
Abstract: 一种中波红外窗口及其制备方法，该中波红外窗口是Y2O3稳定的四方多晶氧化锆陶瓷，原料为2.5‑3.0mol％Y2O3的ZrO2纳米粉体，陶瓷平均晶粒尺寸为200‑600nm。采用放电等离子烧结(SPS)或者热等静压(HIP)烧结方法获得。本发明中波红外窗口能够在室温至300℃范围使用，3.7‑4.8μm中波红外波段的透过率不小于75％；0‑300℃范围的辐射系数不大于0.05；弯曲强度不低于1000MPa。能够用于高超音速导弹的红外整流罩，或者用于其它高温场合的中波红外窗口。
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公开(公告)号：CN113714859A
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN202111019961.3
申请日：2021-09-01
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
Abstract: 本发明涉及光学数控加工领域，具体为一种小磨头抛光机类光学平面加工非球面的方法，解决了三轴联动小磨头无法实现高精度加工非球面的问题，提升了这类小磨头抛光机的利用率。本发明主要利用被加工元件矢高较小，抛光头可贴合元件表面，再利用坐标变换将测量高点位置精确转换到类平面去除位置，实现收敛加工。经多次迭代抛光，可最终实现非球面元件的加工。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110434681B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201910671137.2
申请日：2019-07-24
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
Abstract: 一种大口径蓝宝石窗口元件的双面高精度抛光方法，本发明不仅可以满足大口径蓝宝石窗口元件的双面反射面形优于1/3λ，表面粗糙度优于0.3nm，平行度优于0.009，表面光洁度优于Ⅲ级的加工要求，而且工艺简单，可直接在单轴抛光机上应用，对设备要求低，可加工口径范围广，生产效率高，生产成本低。
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公开(公告)号：CN109676527B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201811521460.3
申请日：2018-12-13
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
Abstract: 一种小磨头抛光机专用抛光液精准自动滴加装置，包括计算机、蠕动泵、放置在磁力搅拌器上的容器，该容器盛装有抛光液；蠕动泵的软管一端置于容器内，另一端固定在所述的小磨头抛光机的抛光头上，所述的计算机与蠕动泵相连，以控制蠕动泵的转子旋转速度n，该转子旋转速度n满足如下条件：n＝k*h*V/(L+V)。本发明可精准、自动地控制抛光液滴加到被抛光表面，抛光液滴加均匀，节省人力，加工后面形收敛快，去除均匀，具有控制简单，滴加精准的优点。
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公开(公告)号：CN111190386B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202010013796.X
申请日：2020-01-07
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
Abstract: 一种磁流变抛光中最优角度路径规划与加工方法，步骤为：测量得到磁流变去除函数，同时确定加工路径的采样间距；对去除函数进行二维傅里叶变换，分析磁流变去除函数二维频谱在路径采样频率处的最低截止频率的对应角度；加工时通过调整加工路径的方向或磁流变抛光轮的姿态使得抛光轮与路径的夹角始终呈上述分析得到的角度；最终控制机床加工得到的面形中频误差将远优于传统垂直路径加工所得到的结果。本发明仅需改变去除函数与路径之间的夹角至理论分析得到的最优值，不需要任何附加成本即可获得中频误差优于传统路径5～10倍以上的加工结果；同时使得磁流变工具的无中频加工成为可能，这对加工效率提高、机床寿命延长都有着重要意义。
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公开(公告)号：CN111360638A
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN202010207033.9
申请日：2020-03-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
IPC: B24B13/00 , B24B13/005
Abstract: 一种窄长类大口径光学元件高精度面形加工方法，本发明通过拼盘抛光和规整技术的结合，可以有效地提高窄长类米级大口径光学元件反射面的条纹规则程度和面形平整度，能够制造出高精度、PV小于λ/2的窄长类米级大口径光学元件。
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公开(公告)号：CN111190386A
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：CN202010013796.X
申请日：2020-01-07
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 上海恒益光学精密机械有限公司
Abstract: 一种磁流变抛光中最优角度路径规划与加工方法，步骤为：测量得到磁流变去除函数，同时确定加工路径的采样间距；对去除函数进行二维傅里叶变换，分析磁流变去除函数二维频谱在路径采样频率处的最低截止频率的对应角度；加工时通过调整加工路径的方向或磁流变抛光轮的姿态使得抛光轮与路径的夹角始终呈上述分析得到的角度；最终控制机床加工得到的面形中频误差将远优于传统垂直路径加工所得到的结果。本发明仅需改变去除函数与路径之间的夹角至理论分析得到的最优值，不需要任何附加成本即可获得中频误差优于传统路径5～10倍以上的加工结果；同时使得磁流变工具的无中频加工成为可能，这对加工效率提高、机床寿命延长都有着重要意义。
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