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公开(公告)号：CN115717256A
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202110976414.8
申请日：2021-08-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种金属掩模版电铸母版、金属掩模版及其制备方法，其金属掩模版电铸母版用于通过电铸生成金属掩模版，包括图形化导电基板，所述图形化导电基板第一表面设有凹陷，所述第一表面非凹陷部分包含所述金属掩模版的图案，所述凹陷内填充有非导电材料。本发明提供的金属掩模版电铸母版、金属掩模版及其制备方法，通过图形化导电基板第一表面设有凹陷，采用非导电材料在凹陷内进行填充，电铸后剥离金属掩模版时，非导电材料也不会脱落，从而该电铸母版能重复多次使用，能显著降低工艺成本。
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公开(公告)号：CN113552772B
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202010325531.3
申请日：2020-04-23
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及一种变光阑数据处理方法，如下步骤：获取三维模型；沿三维模型的竖直方向将三维模型分切成M层；将分切后的每一层再沿竖直方向分切成N层，以获取若干层二维图像数据；将N层中的每层二维图像数据转换为单色位图并将其分割成若干等份单元格图像；每个单元格图像的宽度为UnitX，高度为UnitY；对N层中的若干等份单元格图像进行错位重组以形成若干个基础长条带图像数据；将M层中的若干个基础长条带图像数据拼接后形成新的长条带图像数据，并将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻；其中，M及N为正整数。本申请的方法在光刻胶曝光成三维模型的过程中，图形不受限，方向不受限，被打印的三维模型的形状也不受限，方便快捷。
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公开(公告)号：CN118588774A
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202310200716.5
申请日：2023-03-03
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种用于制作光伏电池片电极感光材料层、涂布网版及其制备方法和应用。感光材料层包括第一子层和图形化的第二子层；第一子层具有与光伏电池片电极相适配的电极区以及位于电极区周围的非电极区，第二子层覆盖第一子层的电极区，且暴露出第一子层的至少部分非电极区；第二子层在第一子层上的投影面积大于第一子层的电极区的面积。与传统的感光材料层相比，应用本发明技术方案的感光材料层，第二子层为非整面涂布，减少了暴露出第一子层的至少部分非电极区这一部分的感光材料，预计节省可高达80％以上的感光材料，大幅降低了成本和化学试剂处理废液量，有利于广泛应用。
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公开(公告)号：CN114913558B
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202110179851.7
申请日：2021-02-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及的一种微透镜阵列成像组件的制备方法，包括：S1、提供微透镜阵列组件，微透镜阵列组件包括基底和形成在基底正面的若干微透镜单元，若干微透镜单元形成微透镜阵列；S2、在基底的背面制备若干遮光部，遮光部由挡光材料形成，遮光部正对微透镜单元的位置布置；S3、在正面涂覆黑色光阻材料，黑色光阻材料为负性感光材料；S4、对背面进行紫外泛曝光；S5、溶解去除涂覆在微透镜单元上的黑色光阻材料；S6、去除遮光部。本申请通过在基底的正面涂覆黑色光阻材料、在基底的背面精准的涂覆挡光材料,并在基底的背面进行紫外泛曝光，从而制备得到在微透镜单元的间隙上精确覆盖黑色光阻材料的高效率、高精度的微透镜阵列成像组件。
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公开(公告)号：CN114519870A
公开(公告)日：2022-05-20
申请号：CN202011279520.2
申请日：2020-11-16
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州迈塔光电科技有限公司
Abstract: 本发明涉及一种光学图像采集单元、其制作方法、光学图像采集器件及电子设备。该光学图像采集单元通过上层遮光区和下层遮光区的配合，使其在结构上无需设置挡墙，与现有技术相比，整体厚度更小，结构相对简单；另外，通过下层遮光区还可以进一步减小散光的干扰，上层遮光区及下层遮光区结合可避免杂散光干扰，提高图像采集精度。该光学图像采集单元的制备方法通过制作上层遮光区和下层遮光区来实现挡光的作用，并且，下层遮光区的下开口直接通过激光结合微透镜即可实现，与现有技术相比，制作简单。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113552772A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202010325531.3
申请日：2020-04-23
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及一种变光阑数据处理方法，如下步骤：获取三维模型；沿三维模型的竖直方向将三维模型分切成M层；将分切后的每一层再沿竖直方向分切成N层，以获取若干层二维图像数据；将N层中的每层二维图像数据转换为单色位图并将其分割成若干等份单元格图像；每个单元格图像的宽度为UnitX，高度为UnitY；对N层中的若干等份单元格图像进行错位重组以形成若干个基础长条带图像数据；将M层中的若干个基础长条带图像数据拼接后形成新的长条带图像数据，并将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻；其中，M及N为正整数。本申请的方法在光刻胶曝光成三维模型的过程中，图形不受限，方向不受限，被打印的三维模型的形状也不受限，方便快捷。
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公开(公告)号：CN113269842A
公开(公告)日：2021-08-17
申请号：CN202010096447.9
申请日：2020-02-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及一种图形光栅化方法、装置及存储介质，属于图像处理技术领域，该方法包括：获取待光栅化目标；确定待光栅化目标中重复个数大于或等于预设个数的目标图形；对目标图形进行光栅化处理得到光栅化图形；对光栅化目标进行裁切得到多个裁切区域；对于每个裁切区域，在裁切区域包括目标图形时读取目标图形对应的光栅化图形；可以解决对重复的目标图形均进行一次光栅化会浪费电子设备的资源，降低图形光栅化效率的问题；解决同一文件中相同图形一致性问题，使得线宽一致性得到了保证。由于对于重复的目标图形只需要进行一次光栅化过程，后续只需要调用光栅化图形即可，因此可以提高光栅化效率，节省设备资源。
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公开(公告)号：CN112946800A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN201911261583.2
申请日：2019-12-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种防伪结构，包括基底、光栅层和保护层，光栅层设置在基底上，保护层设置在光栅层上，光栅层上设有用于产生非对称性衍射的光栅结构。本发明的防伪结构能实现在对称入射角度的情况下，衍射光的出射位置相同、亮度不同，具备明暗差别对比效果，起到防伪功效，并且结构简单、易于批量制造，成本较低。本发明还涉及一种防伪方法。
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公开(公告)号：CN118474330A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202310085843.5
申请日：2023-02-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: H04N13/305
Abstract: 本申请涉及印刷技术领域，具体公开一种3D集成成像装置及其制备方法。3D集成成像装置包括立体结构层、间隔层及微透镜阵列，间隔层具有预设厚度，立体结构层设置于所述间隔层的一侧表面，所述立体结构层包括复数个微纳结构单元，微透镜阵列设置于所述间隔层远离所述立体结构层的一侧表面，微透镜阵列包括复数个微透镜，所述微纳结构单元与所述微透镜一一对应，所述微纳结构单元的正视图案为目标立体图像分层后，每层图像根据不同景深在所述微透镜下成像的图像的叠加。通过控制间隔层的厚度可以控制微透镜阵列的顶点到立体结构层之间的距离，进而控制像的景深，具有调节再现像的景深效果的功能。
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公开(公告)号：CN114913558A
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN202110179851.7
申请日：2021-02-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及的一种微透镜阵列成像组件的制备方法，包括：S1、提供微透镜阵列组件，微透镜阵列组件包括基底和形成在基底正面的若干微透镜单元，若干微透镜单元形成微透镜阵列；S2、在基底的背面制备若干遮光部，遮光部由挡光材料形成，遮光部正对微透镜单元的位置布置；S3、在正面涂覆黑色光阻材料，黑色光阻材料为负性感光材料；S4、对背面进行紫外泛曝光；S5、溶解去除涂覆在微透镜单元上的黑色光阻材料；S6、去除遮光部。本申请通过在基底的正面涂覆黑色光阻材料、在基底的背面精准的涂覆挡光材料,并在基底的背面进行紫外泛曝光，从而制备得到在微透镜单元的间隙上精确覆盖黑色光阻材料的高效率、高精度的微透镜阵列成像组件。
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