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公开(公告)号：CN108728790A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201710263831.1
申请日：2017-04-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种AMOLED用金属掩膜板的制造方法，包括步骤：选取导电基板；在导电基板的表面涂布一层光刻胶；使光刻胶光刻出与金属掩膜板的蒸镀孔相对应的光刻胶图形，但光刻出的光刻胶图形的尺寸大于金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸；在带有光刻胶图形的导电基板上进行电铸过生长，使金属材料的生长厚度大于光刻胶图形的厚度，金属材料同时将光刻胶图形的四周边缘覆盖，直至光刻胶图形未被金属材料覆盖的开口区域的尺寸与金属掩膜板的蒸镀孔的设计尺寸一致；去除导电基板上残留的光刻胶。上述金属掩膜板的制造方法只需要一次图形光刻和电铸工艺便可加工成型，工艺简单，成本低廉，而且是通过在带有光刻胶图形的导电基板上电铸过生长出金属掩膜板，因此精度更高。
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公开(公告)号：CN106681106B
公开(公告)日：2018-10-19
申请号：CN201710206374.2
申请日：2017-03-31
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70383 , G03F7/70408 , G03F7/7045
Abstract: 一种混合光刻系统，包括光源、光束整形器、光场调制器、反射镜、成像光学系统和位相器件，光束整形器用于整形光源发出的光束；光场调制器用于将整形后的光束生成图形光；成像光学系统和反射镜用于将光场传递至待曝光的光刻件表面实现直写光刻；位相器件用于在光刻件的表面形成干涉曝光场实现干涉光刻。本发明的混合光刻系统具有直写光刻和干涉光刻两种功能，可进行混合光刻，提高了纳米光刻效率，推动微纳结构相关的器件和材料应用具有重要意义。本发明还涉及一种的混合光刻方法。
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公开(公告)号：CN106646884A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611270016.X
申请日：2016-12-30
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种大视场投影物镜，包括分光器件、中继透镜组、分光组件。所述中继透镜组包含：非球面透镜组和一片纳米透镜，本发明在光学系统中引入设有衍射面的纳米透镜，用纳米透镜代替双胶合透镜可降低系统的重量。将本发明设计的投影物镜，与DMD、LCD或LCOS显示器件以及相应照明光源配合使用，将显示器件反射的光束收集在出瞳处，出瞳在投影结构外部，和后续的纳米波导镜片匹配，构建的三维显示装置，特别是近眼三维显示装置，具有显示大视场、高像质、光利用效率高特点。
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公开(公告)号：CN106646691A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611125124.8
申请日：2016-12-09
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供了一种菲涅尔器件的制作方法，其包括以下步骤：1)图像3D建模；2)将建模后的3D图，按照菲涅尔的变化规律进行量化处理；3)通过等高投影或等宽投影进行像素微结构模拟；4)像素化拼接；5)通过光刻工艺至整个图像光刻完成；6)通过转移工艺将模板转移到应用材料上。本发明还提供了一种菲涅尔器件的制作装置。本发明与现有技术相比，可以实现任意形状的菲涅尔器件；且尺寸不受限制，通过拼版等工艺，可以做大尺寸的菲涅尔器件；且该方法降低了成本。
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公开(公告)号：CN105959672A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201610280819.7
申请日：2016-05-03
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H04N13/04
Abstract: 本发明公开了一种基于主动发光型显示技术的裸眼三维显示装置，其包括：主动发光的显示单元，其包括光强可调的发光阵列，该发光阵列通过电路控制系统依照多视角叠加图像对光场振幅进行调制；指向性位相板，其像素含有纳米光栅像素结构，分别对应于各视角图像的亚像素，该纳米光栅像素结构含有按照全息原理设计的纳米光栅组合，主动发光的显示单元的出射光线照射到指向性位相板上后，纳米光栅像素结构对入射的视角图像进行波前转换，将平行照明光在主动发光的显示单元的前方或者侧面的空间上形成会聚视点。本发明相较于现有技术可同时兼顾个人消费电子市场和工业及户外显示市场需求，实现超薄、轻便、大面积、高亮度、低成本的裸眼3D显示。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105619819A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610090876.9
申请日：2016-02-18
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提出一种基于基底层的三维成型装置，包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构，基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽，分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层，之后涂覆感光材料层，基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材，基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构，控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置，可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤，基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行，提升了工作效率，适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。
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公开(公告)号：CN105489784A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201510906030.3
申请日：2015-12-09
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种柔性导电电极的制备方法及该方法制备的电极及其应用，制备方法包括以下步骤：(1)光掩膜版制备：将导电线栅光刻到光掩膜上；(2)电沉积模具制备：然后将线栅型光掩膜版进行紫外曝光，形成图形化线栅沟槽；(3)电沉积工艺：将金属基板放置于电铸沉积槽中，生成电沉积层；(4)生成柔性导电电极：将金属基板上涂布一层固化胶，柔性衬底覆盖于固化胶上，经过紫外固化后脱模，获得柔性导电电极。本发明制备的柔性导电电极的表面平整度只取决于所用金属基板材料的表面平整度，具有较高平整表面，制备的OLED装置不会因透明电极的表面起伏较大，引起背电极与基底相接触，造成短路而损毁，大大提升了使用寿命。
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公开(公告)号：CN105405752A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201510932682.4
申请日：2015-12-15
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: H01L21/28 , H01L21/283 , H01L29/423
Abstract: 本发明公开了一种柔性纳米线栅型透明导电电极的制作方法，与已有技术相比，本发明制作的柔性透明电极的导电线栅结构，有选择性电沉积过程生长而成，最小线宽可达几十纳米。但电沉积形成的纳米线栅本身电导率较高，即便线栅宽度和厚度仅为几十纳米，仍然能保证较低的方阻值。本发明提出的柔性透明电极的制作方法，不仅可以制作单一功能电极，更可以通过在纳米转印模具表面沉积不同的材料层，经过多次转印过程制作多层复合电极、或者制作具有不同导电功能区的透明电极。
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公开(公告)号：CN103317229B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201310291009.8
申请日：2013-07-11
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: B23K26/064 , G02B3/00
Abstract: 一种标签签注方法和签注系统，通过在原有的激光签注光路和记录材料之间增设一块会聚透镜，依赖会聚透镜对光线角度的改变，只需将会聚透镜物面侧的签注图像进行平移，就能在像面侧得到不同入射角度下的成像效果。不仅控制简单、成像效果好，而且能够利用该签注方法实现多种形式的签注，为个性化激光签注带来了新的应用。
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公开(公告)号：CN105225644A
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201510745306.4
申请日：2015-11-05
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种高分辨率激光显示装置，其具有微腔激光阵列，微腔激光器阵列由多组RGB微腔激光器排列形成，每组RGB微腔激光器由三个微腔激光器构成，采用单个光源作为激发源，激发激光阵列得到RGB激光，并利用匹配的透射式液晶屏对RGB像素激光进行混色，实现整个像素的灰度控制，且RGB微腔出射光为激光，保留了激光显示广色域、高饱和度的优点，显示装置中显示像素没有经过投影放大，便于实现高清画质图像。另外，由于每个微腔激光器相互独立，出射光之间不会产生相干叠加，因此不再需要复杂的消激光散斑装置。
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