公开(公告)号：CN111118599B

公开(公告)日：2021-04-20

申请号：CN201911379934.X

申请日：2019-12-27

Applicant: 季华实验室

Inventor： 胡强 ,  胡琅 ,  冯杰 ,  徐平 ,  侯立涛 ,  方威 ,  黄星星

IPC: C30B25/12 ,  C30B29/36

Abstract: 本发明提供了一种用于碳化硅外延生长设备载盘的涂层制备方法，包括步骤：A.制备SiC凝胶溶胶；B.把SiC凝胶溶胶装入喷机中预热至150℃～250℃；C.将SiC凝胶溶胶喷射到石墨载盘所有表面并自然干燥24小时；D.将石墨载盘装入烧结炉中在1600℃～1800℃、压力550托～650托、氢气环境中烧结2小时，然后自然冷却到室温；E.将石墨载盘表面的SiC涂层进行整形、打磨；F.按预设次数重复执行步骤B～E。该方法制得的SiC涂层的抗热震能力强、使用寿命长，且制备成本低。

公开(公告)号：CN111182767A

公开(公告)日：2020-05-19

申请号：CN201911426098.6

申请日：2019-12-31

Applicant: 季华实验室

Inventor： 黄星星 ,  徐平 ,  胡琅 ,  侯立涛 ,  吴猛 ,  冯杰 ,  胡强

IPC: H05K7/20

Abstract: 本发明公开了一种散热器，该散热器包括壳体、传动机构以及散热基板，壳体形成有进液口、出液口及连通进液口和出液口的冷却剂通道，传动机构设于壳体内，用于在动作时带动进液口的冷却剂沿冷却剂通道向出液口流动，散热基板供发热元件安装，散热基板贴靠安装于壳体位于进液口和出液口之间的外壁上。本发明的散热器改进了散热结构，提高了散热能力，满足了高热流密度元件散热要求，并实现了散热器低负载下的节能降耗。

公开(公告)号：CN111074342A

公开(公告)日：2020-04-28

申请号：CN201911379924.6

申请日：2019-12-27

Applicant: 季华实验室

Inventor： 胡强 ,  徐平 ,  胡琅 ,  侯立涛 ,  冯杰 ,  侯少毅 ,  黄星星

IPC: C30B25/12 ,  C30B29/36 ,  C23C16/32

Abstract: 本发明提供了一种利用碳化硅外延生长设备制备载盘涂层的方法，包括步骤：A.把石墨载盘放入碳化硅外延生长设备的外延生长室；B.把石墨载盘升温至第一预设温度，保持外延生长室压力为第一预设压力，以氢气为载气通入硅源和碳源，使之在石墨载盘上发生化合反应并沉积形成SiC涂层；第一预设温度为1550℃～1750℃，第一预设压力为150托～250托；C.保持通入氢气并关闭硅源和碳源，将温度降低至第二预设温度，该第二预设温度为600℃～800℃；D.重复预设次数的步骤B、C；E.将温度降至第二预设温度以下时关闭氢气，继续降温至室温；F.取出石墨载盘。该方法可降低涂层的制备成本并提高石墨载盘的使用寿命。