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公开(公告)号：CN101546004B
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN200910031267.6
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：所述彩色滤光层为级联亚微米光栅，由二维亚微米级介质光栅和金属光栅级联构成，所述介质光栅位于近基板侧，介质材料的折射率大于1.65，所述金属光栅位于远离基板侧，同一位置的上、下两种光栅除光栅深度外的结构参数相同；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明的彩色滤光片TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，提高输出光的纯度，能进行超大幅面的制造，便于批量化生产，且便于设计为柔性可控的彩色滤光片。
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公开(公告)号：CN102096318B
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110009205.2
申请日：2011-01-17
Abstract: 一种激光直写技术制备多级结构微阵列的方法，属于激光微加工领域。阵列制备过程中，平面几何结构由输入计算机的平面图形决定，分辨率取决于光路中的缩微镜头倍数和纳米电机的精度，可达到0.3μm；基于实验得出的曝光深度与曝光时间的关系，显影深度与显影时间的关系，通过曝光时间和显影时间的调控来控制加工尺寸的深度。本发明无需掩膜，也无需光刻制模，大大降低了阵列的制备成本，本发明具有制备多级结构的可行性，且效率高，适合于工业化生产普及。
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公开(公告)号：CN102418302A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201110323728.4
申请日：2011-10-21
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: D21H21/48
Abstract: 一种光学隐形水印安全纸。该安全纸利用亚波长光栅作为水印图像的像素点，使水印图像只有在掠射光入射时，才能在特殊的掠射角度下被观察到，既实现了反射性的光学水印、提高了光学水印的制作门槛，使水印图像的仿制难度大大增加，又简化了水印图像的可观察性，不需要使用额外的特殊工具就能在普通光源下看到。因此，本发明提出的具有光学隐形水印的安全纸具有广泛的应用领域。
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公开(公告)号：CN101737707B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200810235232.X
申请日：2008-11-12
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 苏州大学
IPC: F21V5/00 , F21V5/04 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种背光模组用光扩散膜的制作方法，包括下列步骤：(1)在一基板的一侧表面制备具有粘性的固定层；(2)将微纳米结构尺寸的颗粒经所述固定层排布固定于所述基板表面；(3)将步骤(2)获得的带有表面微结构的基板作为电铸模板进行精密电铸，将微结构转移至电铸金属板上；(4)用步骤(3)获得的金属电铸片作为压印模板，经热压印或紫外压印至光扩散片材料上，制作获得光扩散片。本发明利用微纳米压印技术，在透明基材上压印微透镜结构，方法简单便捷，降低了扩散膜片制作成本，且特别适合制作超薄型结构，能有效减少背光模组的厚度，且具有良好的光学性能。
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公开(公告)号：CN102096318A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201110009205.2
申请日：2011-01-17
Abstract: 一种激光直写技术制备多级结构微阵列的方法，属于激光微加工领域。阵列制备过程中，平面几何结构由输入计算机的平面图形决定，分辨率取决于光路中的缩微镜头倍数和纳米电机的精度，可达到0.3μm；基于实验得出的曝光深度与曝光时间的关系，显影深度与显影时间的关系，通过曝光时间和显影时间的调控来控制加工尺寸的深度。本发明无需掩膜，也无需光刻制模，大大降低了阵列的制备成本，本发明具有制备多级结构的可行性，且效率高，适合于工业化生产普及。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102009517A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN201010287422.3
申请日：2010-09-20
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B41C3/08
Abstract: 本发明是一种金属母板的制作方法，该金属母板由至少两片金属子板拼接而成，各该金属子板上具有镭射图像的纹路，该方法主要采用电铸的方式，将至少两块金属子板间的拼缝进行填补，其中在该各片金属子板的拼接边上设有凹凸结构，相邻子板间的凹凸结构相互配合。通过该凹凸结构，既增加了金属子板间的电铸强度，又可以实现简单准确的对位，增加了金属母板的成品质量。
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公开(公告)号：CN101937115A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN201010224529.3
申请日：2010-07-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B32B38/06 , B29C59/04 , B32B37/203 , B32B2551/00 , B32B2590/00 , G02B6/0036 , G02B6/0065
Abstract: 一种导光膜制作装置，用于制作卷积筒状的导光膜，包括放料辊、收料辊、分离装置、压印装置和复合装置，其中该导光膜先经分离装置将保护层和基材层分离，然后通过该压印装置在该基材层的待加工面上压印出导光网点，再经过复合装置将剥离的保护层重新复合到基材层上，最后经收料辊回收形成完整的导光膜。本发明的导光膜制作装置，具有产量高、制作尺寸大以及成本低廉的特点。
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公开(公告)号：CN101930207A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010238377.2
申请日：2010-07-28
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种微光栅亚像素三维光学图像，由排列于平面上的像素阵列结构构成，含有多个视角的分视角图像信息，其特征在于：每一像素由多个亚像素构成，每一亚像素对应于一个视角在该像素处的图像，每一亚像素为一光栅状图像单元，光栅状图像的条纹取向对应于视角，条纹的周期代表颜色信息。其制作方法包括如下步骤：设计三维衍射光学图像数据；设计具有亚像素体视结构的模板图像；根据图像数据和模板，生成体像素图像；微缩光刻亚像素体视图像单元，得到由亚像素体视单元构成的三维衍射光学图像。本发明可以数字化地输出立体图像。
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公开(公告)号：CN101551482B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200910028285.9
申请日：2009-01-24
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长光栅结构彩色滤光片及其制作方法，滤光片包括：透明基底、位于该基底上的三色像素阵列，其特征在于：所述三色像素阵列由光栅阵列构成，所述光栅阵列由介质层和金属层构成，金属层位于介质层的外面，每一光栅的周期与其滤光的颜色相对应，三种周期的光栅分别用于对入射光中的红、绿、蓝三色进行滤光。其制作是在透明基底上依次涂布介质层和金属层，并且使该介质层和金属层形成凹凸的光栅结构。本发明只需改变光栅的周期，就可获得针对R、G、B三色的透射光谱，降低了加工彩色滤光片的难度；获得的滤光片具有合适的透射光谱，色纯度好；偏振光透过率高。
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公开(公告)号：CN101546003A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910031264.2
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开了一种光栅结构彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：在所述基板上覆盖有介质膜层，该介质膜材料的折射率大于1.65，所述彩色滤光层为亚微米埋入式光栅结构，光栅由金属层和低折射率介质层构成，所述金属层位于近基板侧，所述低折射率介质层位于远离基板侧，介质材料的折射率小于1.65；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明基于亚微米埋入式金属光栅结构，其TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，输出光的纯度高，能进行超大幅面的制造。
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