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公开(公告)号：CN103562755A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201180071287.1
申请日：2011-05-31
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B5/26
CPC classification number: G02B5/26
Abstract: 一种反射式彩色滤光片，包括介质光栅层（220）、金属层（230）和第一介质层（240）。金属层设置于介质光栅层的脊部、至少一个侧部和部分沟槽部之上。反射外部光线的第一介质层设置于介质光栅层和金属层上。由于部分介质光栅层通过金属层在沟槽部上的缺口露出，降低了共振输出的角度敏感性，减少了光线入射角度对共振条件的影响。从而在较宽的角度范围内都能实现反射滤光。
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公开(公告)号：CN102798918A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201110136699.0
申请日：2011-05-25
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明涉及一种反射式彩色滤光片。基底、高反金属层、共振腔层以及半反半透金属层。其中，共振腔层和半反半透金属层的交界面处为线栅结构，半反半透金属层覆盖在该线栅结构上，形成金属光栅，该金属光栅的周期小于400nm。通过调整线栅共振腔的厚度、线栅的占宽比、反射层2的厚度和覆盖层的厚度等参数，可以获得低角敏、带宽合适且旁带反射率低的反射式彩色滤光片，且可实现不同颜色的反射滤波。
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公开(公告)号：CN102789021A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201210319494.0
申请日：2012-08-31
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/26
Abstract: 一种反射式彩色滤光片，包括三种颜色的像素阵列，每种颜色的像素结构包括基底、位于基底之上的金属层、位于金属层上的介质层以及位于介质层上的二维金属光栅层，所述金属层的厚度大于可见光在该金顺层内的趋肤深度，所述像素结构的表面等离子体共振频率为该像素颜色的补色光频率。该反射式滤光片基于减色原理进行滤光，不仅具有高光能利用率、低的角度敏感性，同时具有对偏振不敏感的特点。
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公开(公告)号：CN101546004B
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN200910031267.6
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：所述彩色滤光层为级联亚微米光栅，由二维亚微米级介质光栅和金属光栅级联构成，所述介质光栅位于近基板侧，介质材料的折射率大于1.65，所述金属光栅位于远离基板侧，同一位置的上、下两种光栅除光栅深度外的结构参数相同；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明的彩色滤光片TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，提高输出光的纯度，能进行超大幅面的制造，便于批量化生产，且便于设计为柔性可控的彩色滤光片。
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公开(公告)号：CN101551482B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200910028285.9
申请日：2009-01-24
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长光栅结构彩色滤光片及其制作方法，滤光片包括：透明基底、位于该基底上的三色像素阵列，其特征在于：所述三色像素阵列由光栅阵列构成，所述光栅阵列由介质层和金属层构成，金属层位于介质层的外面，每一光栅的周期与其滤光的颜色相对应，三种周期的光栅分别用于对入射光中的红、绿、蓝三色进行滤光。其制作是在透明基底上依次涂布介质层和金属层，并且使该介质层和金属层形成凹凸的光栅结构。本发明只需改变光栅的周期，就可获得针对R、G、B三色的透射光谱，降低了加工彩色滤光片的难度；获得的滤光片具有合适的透射光谱，色纯度好；偏振光透过率高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101546003A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910031264.2
申请日：2009-04-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开了一种光栅结构彩色滤光片，主要由基板、黑色矩阵、彩色滤光层、保护膜和ITO导电膜组成，其特征在于：在所述基板上覆盖有介质膜层，该介质膜材料的折射率大于1.65，所述彩色滤光层为亚微米埋入式光栅结构，光栅由金属层和低折射率介质层构成，所述金属层位于近基板侧，所述低折射率介质层位于远离基板侧，介质材料的折射率小于1.65；通过不同的光栅结构参数获得不同颜色的光栅单元。本发明基于亚微米埋入式金属光栅结构，其TE、TM偏振光下的透射光谱特性相同，光能利用率高，输出光的纯度高，能进行超大幅面的制造。
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公开(公告)号：CN101017218A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710020411.7
申请日：2007-02-14
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G02B6/00 , G02B6/124 , G02B6/34 , G02B1/10 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种衍射光栅光导薄膜，在薄膜的一侧表面，设有平铺的光栅像素单元，其特征在于：所述光栅像素单元由亚像素结构组成，每一亚像素内的衍射光栅取向、空间频率、槽型深度根据导出光线的方向与光强确定。其制作方法包括下列步骤：(1)设计导光图样的衍射结构分布；(2)将导光图样按照像素结构分布排列成不同序列，每一个单元像素由亚像素构成，每个亚像素内的衍射光栅的取向、空间频率均可以改变；(3)光刻；(4)通过电铸制成金属镍板，对涂布有涂层的PET或PC薄膜进行卷对卷的压印。本发明改进了导光均匀性，提高了导光效果，其制作方法便捷可靠。
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公开(公告)号：CN208041755U
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201721715255.1
申请日：2017-12-11
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本实用新型提供了一种线光源的聚光结构和光源系统，该光源系统包括光源体模块以及聚光单元模块，所述光源体模块为线光源，所述聚光单元模块包括沿线光源的光路方向依次设置的第一狭缝、毛玻璃、第二狭缝和聚光透镜，所述第二狭缝和聚光透镜之间的距离大于聚光透镜的焦距，且小于聚光透镜的二倍焦距。本实用新型可以为待测目标提供优质的视场照明环境，改善所获取图像的质量，从而提高机器视觉检测系统的识别效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN211479095U
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202020567367.2
申请日：2020-04-16
Applicant: 苏州大学
IPC: G06F3/042
Abstract: 本实用新型提供一种触摸屏和大尺寸红外多点触控系统，该触摸屏其触摸区域定义有网格化的多个探测区域，每个所述探测区域在所述触摸屏的边缘分别对应有多个发射二极管和接收二极管，所述发射二极管和接收二极管一一对应构成对射矩阵，每个所述探测区域的扫描独立可控。本实用新型通过将触摸区域划分成网格状的多个探测区域，并实现每个探测区域的扫描独立可控，可以解决尺寸增加带来的算法复杂度提高的问题，并使系统能够快速实现多点识别定位及轨迹跟踪。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN207301512U
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：CN201720872270.0
申请日：2017-07-18
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B27/09
Abstract: 本申请公开了一种微纳米光场实时构建调制系统，该系统包括光源、空间过滤单元、4F光学系统和光波调制单元，所述4F光学系统包括沿光路依次设置的第一透镜(组)和第二透镜(组)，本实用新型通过位相元件或位相元件组实现对入射波面实时的调控，通过空间过滤单元实现对入射光子波面、光波调制光学元器件像素选择、像素有效区域、成像面光场空间滤波等参数调控，最终利用空间滤波/空间分时滤波和/或位相元件的相对位置变化，实现图案、图案分布区域以及图案的空频、取向、占空比以及相位或相移量等结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中，实现任意微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。
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