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公开(公告)号:CN110596888B
公开(公告)日:2022-04-01
申请号:CN201910841697.8
申请日:2016-03-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G02B26/12 , G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/027
Abstract: 本发明的光束扫描装置(MD),是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描,其具备:射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系统(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系统(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40),该照射中心轴相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。
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公开(公告)号:CN110596887B
公开(公告)日:2022-04-01
申请号:CN201910841678.5
申请日:2016-03-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G02B26/12 , G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及图案描绘装置及图案描绘方法,其中光束扫描装置(MD),是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描,其具备:射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40),该照射中心轴系相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。
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公开(公告)号:CN110596886B
公开(公告)日:2021-12-07
申请号:CN201910836809.0
申请日:2016-03-18
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G02B26/12 , G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/027
Abstract: 本发明的光束扫描装置(MD),是一边将光束(LB)的点光(SP)投射于对象物(FS)的被照射面、一边进行该点光(SP)于该被照射面上沿扫描线(SLn)的一维扫描,其具备:射入光束(LB)的入射光学构件(M10)、将来自入射光学构件(M10)的光束(LB)为进行扫描而加以偏向的扫描用偏向构件(PM)、射入经偏向的光束(LB)后投射于被照射面的投射光学系(FT)、以及支承入射光学构件(M10)、扫描用偏向构件(PM)及投射光学系(FT)、可绕与照射中心轴(Le)在既定容许范围内成同轴的第1旋转中心轴(Mrp)旋转的支承架(40),该照射中心轴系相对该被照射面垂直通过以该点光(SP)的扫描在该被照射面上形成的扫描线(SLn)的中点。
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公开(公告)号:CN110794651B
公开(公告)日:2021-07-09
申请号:CN201911069205.4
申请日:2016-02-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种基板处理装置,具备:旋转圆筒DR,以既定速度往与基板P宽度方向交叉的搬送方向搬送;描绘装置11,具有多个描绘模块UW1~UW5,将投射于基板P的描绘光束沿着基板P的描绘线扫描以将既定图案描绘于基板P上,以通过多个描绘模块UW1~UW5的各个而描绘于基板P上的图案彼此在宽度方向相接合的方式,将彼此在宽度方向相邻的描绘线于搬送方向配置成相隔既定间隔;调整机构24,调整描绘线相对于基板P宽度方向的倾斜;以及旋转位置检测机构,检测出基板P的搬送速度;根据以旋转位置检测机构检测出的搬送速度,通过旋转机构24调整描绘线的相对倾斜。
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公开(公告)号:CN108885337B
公开(公告)日:2021-06-04
申请号:CN201780022102.5
申请日:2017-03-28
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 本发明的将通过反射面的角度会变化的多面镜(PM)而偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的扫描单元(Un)具备:再反射光学系统(CY2、M10),其反射最初于多面镜(PM)反射的第1反射光束(LBn)而产生朝向多面镜(PM)的第2反射光束(LBn),并且于与多面镜(PM)的偏向方向交叉的非偏向方向上使第2反射光束(LBn)收敛;及扫描用光学系统(FT、CY3),其入射第2反射光束(LBn)于多面镜(PM)再次反射所得的第3反射光束(LBn)并朝向基板(P)射出。
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公开(公告)号:CN107272353B
公开(公告)日:2019-06-14
申请号:CN201710536857.9
申请日:2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式,沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息,并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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公开(公告)号:CN108919607A
公开(公告)日:2018-11-30
申请号:CN201810608818.X
申请日:2014-06-25
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及基板处理装置,目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动,通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有:设在设置面(E)上的减振台(131);设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121);和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
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公开(公告)号:CN105752686B
公开(公告)日:2018-09-21
申请号:CN201610210419.9
申请日:2012-11-01
Applicant: 株式会社尼康
Inventor: 铃木智也
IPC: B65G49/06
Abstract: 一种搬运基板的搬运装置,具有:支承构件,具有支承基板的一方的面的支承面,形成有贯通支承面和所述支承面的背面的多个贯通孔;保持机构,其具有气体吸引部,该气体吸引部与支承构件的背面中的、包含多个孔的第一区域相对配置;和气体供给部,该气体供给部与支承构件的背面中的第二区域相对配置,其中,第二区域是与第一区域不同的区域,所述保持机构通过相对于支承构件的背面进行气体的供给及吸引,以非接触状态保持支承构件的背面,并且经由多个贯通孔使基板吸附在支承面上。
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公开(公告)号:CN107272353A
公开(公告)日:2017-10-20
申请号:CN201710536857.9
申请日:2015-03-31
Applicant: 株式会社尼康
Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式,沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息,并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
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