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公开(公告)号：CN104854491A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201380065330.2
申请日：2013-12-09
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B5/30 , B32B27/30 , G02B1/14 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B1/14 , B32B3/30 , B32B27/08 , B32B27/308 , B32B2255/10 , B32B2307/306 , B32B2307/42 , B32B2457/20 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/16 , G02B1/18 , G02B5/3033 , G02F1/13338 , G02F1/133528 , Y10T428/24355 , G02B5/305
Abstract: 本发明提供一种在丙烯酸类基材上具有树脂层的光学层叠体、以及有效地制造该光学层叠体的方法，所述光学层叠体可抑制干涉条纹的产生，并且提高丙烯酸类基材与树脂层之间的密合性。本发明的光学层叠体是在丙烯酸类基材的一面上具有树脂层的光学层叠体，其中，在该光学层叠体的厚度方向的剖面，丙烯酸类基材-树脂层界面显示具有峰部及谷部的脊线，在与上述光学层叠体的厚度方向垂直的方向所取的基准长度30μm中，上述脊线的长度为31～45μm。
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公开(公告)号：CN102985498B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201180033863.3
申请日：2011-08-04
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: C09D7/1275 , B32B23/08 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C09D7/61 , C09D7/68 , G02B5/30 , G02B5/3033
Abstract: 本发明提供一种硬度较高、具有充分的耐粘连性、雾度较低、且全光线透射率也较高的HC薄膜。本发明涉及一种硬涂层用固化性树脂组合物，其特征为含有：(A)于粒子表面上具有光固化性基，且平均1次粒径为10～100nm的反应性二氧化硅微粒；(B)平均1次粒径为100～300nm的易滑剂；(C)含有该易滑剂(B)，且平均2次粒径为500nm～2000nm的2次粒子；(D)于1分子中具有2个以上的具有与上述反应性二氧化硅微粒(A)的光固化性基的交联反应性的反应性官能基，且分子量为1000以下的多官能单体；以及(E)溶剂；并且不含有平均2次粒径大于2000nm的2次粒子，且相对于该反应性二氧化硅微粒(A)及多官能单体(D)的合计质量，含有该易滑剂(B)0.2～8质量％。
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公开(公告)号：CN102958963B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201180031473.2
申请日：2011-07-12
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B5/305 , B32B23/20 , B32B27/18 , B32B27/30 , B32B2307/21 , B32B2307/418 , B32B2307/42 , B32B2307/732 , B32B2551/00 , C08F290/067 , C08L2201/04 , C09D151/08 , G02B2207/121
Abstract: 本发明提供一种可形成抗静电性充分、且与邻接的HC层的密接性优异的抗静电层的抗静电层用固化性树脂组合物及具有该抗静电层的光学薄膜。本发明公开一种抗静电层用固化性树脂组合物，其特征在于包含(A)抗静电剂；(B)在1个分子中具有2个以上的光固化性基，且分子量为900以下的多官能单体；以及(C)在1个分子中具有6个以上的(甲基)丙烯酰基，且重均分子量为1000～11000的聚氨酯丙烯酸酯；所述(A)相对于该(A)、(B)及(C)的总量的比例为1～30质量％，且所述(C)相对于该(B)及(C)的总量的比例为1～40质量％。另外，本发明公开一种光学薄膜，其在TAC基材的一侧，从TAC基材侧开始设置由该抗静电层用固化性树脂组合物的固化物形成的膜厚为1～5μm的抗静电层及硬涂层。
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公开(公告)号：CN103460079A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201280017337.2
申请日：2012-04-12
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B1/111 , G02B2207/107
Abstract: 本发明的目的在于提供一种防反射膜，其具有充分的表面硬度与均匀的表面，同时还具备低折射率层的折射率足够低的低折射率层，具有优异的防反射性能。本发明的防反射膜为在透光性基材之上形成了硬涂层、在上述硬涂层之上形成了低折射率层的防反射膜，该防反射膜的特征在于：上述低折射率层含有(甲基)丙烯酸类树脂、中空二氧化硅微粒、反应性二氧化硅微粒和防污剂；并且上述低折射率层中的反应性二氧化硅微粒偏在于上述硬涂层侧的界面附近和/或与上述硬涂层相反的一侧的界面附近。
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公开(公告)号：CN103299217A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201280004568.X
申请日：2012-01-16
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/111 , C03C21/002 , C08J5/18 , C08J5/24 , C08J2300/20 , C08J2333/08 , C08K5/523 , C08L1/10 , C08L63/00 , C08L2205/02 , G02B1/04 , G02B5/3033 , G02B5/305 , G02B27/0006 , G02F1/1335 , G02F1/133502
Abstract: 本发明涉及一种防反射膜，其为在透光性基材之上具有硬涂层与低折射率层的防反射膜，该防反射膜的特征在于：上述低折射率层含有(甲基)丙烯酸类树脂、中空二氧化硅微粒、反应性二氧化硅微粒和两种防污剂；上述中空二氧化硅微粒的平均粒径为40nm～80nm，相对于上述(甲基)丙烯酸类树脂的配比(中空二氧化硅微粒的含量/(甲基)丙烯酸类树脂的含量)为0.9～1.4；相对于上述(甲基)丙烯酸类树脂100质量份，上述反应性二氧化硅的含量为5质量份～60质量份；上述防污剂含有由氟系化合物形成的防污剂与由氟-硅酮系化合物形成的防污剂。
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公开(公告)号：CN103080778A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180040154.8
申请日：2011-09-21
Applicant: 大日本印刷株式会社
Inventor： 堀尾智之
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B1/18 , G02B27/0006 , G02B2207/101 , Y10T428/259
Abstract: 本发明涉及光学层叠体，其为在透光性基材上形成有硬涂层的光学层叠体，该光学层叠体的特征在于：上述硬涂层含有反应性异形二氧化硅微粒与粘合剂树脂；上述反应性异形二氧化硅微粒偏在于上述硬涂层的靠近上述透光性基材侧；自上述透光性基材侧界面起将上述硬涂层厚度方向的截面3等分，分别记为区域(1)、区域(2)和区域(3)，此时，上述区域(1)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率为30%～90%、上述区域(2)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率为25%～80%、上述区域(3)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率为10%～35%，且区域(1)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率≥区域(2)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率＞区域(3)中的反应性异形二氧化硅微粒的面积率。
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公开(公告)号：CN101410729B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200780011351.0
申请日：2007-03-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/16 , G02B1/18 , Y10T428/24983 , Y10T428/31507 , Y10T428/31551 , Y10T428/31721 , Y10T428/31725 , Y10T428/31786 , Y10T428/31855
Abstract: 本发明提供一种光学层积体，该光学层积体能够有效抑制或防止干涉条纹的产生，同时显示出较高的表面硬度。该光学层积体是在透光性基材上至少形成(1)与上述基材邻接的硬膜层A和(2)硬膜层B而构成的层积体，其特征在于，上述基材和硬膜层A之间实质上不存在界面。
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公开(公告)号：CN101738651A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200910222030.6
申请日：2009-11-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/10 , C09D201/00 , C09D7/12
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , Y10T428/24364 , Y10T428/24372 , Y10T428/24421
Abstract: 本发明提供具有优异的耐擦伤性及硬度的光学片及该光学片的制造方法。本发明的光学片是在基材的一面侧设置了硬涂层的光学片，其特征在于，所述硬涂层包含含有反应性无机微粒及粘合剂成分的硬涂层用固化性树脂组合物的固化物，并且在所述硬涂层的与基材相反一侧的界面存在与平行于硬涂层的假想平面所成的最小角度为锐角的微细突起。本发明的光学片的制造方法的特征在于，包括：在基材的一面侧涂布含有反应性异形二氧化硅微粒及粘合剂成分的硬涂层用固化性树脂组合物，对于涂膜，在抑制反应性异形二氧化硅微粒的长轴沿假想平面的平面方向取向的同时，或在所述抑制之后，使涂膜固化形成硬涂层及微细突起的工序。
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公开(公告)号：CN101506693A
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200780030764.3
申请日：2007-08-16
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02F1/133502 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B5/02 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明涉及光学层积体、偏振片及图像显示装置。本发明提供具有作为光学层积体的充分硬度且发挥良好的防眩性的光学层积体。该光学层积体为具有透光性基材和设置在上述透光性基材上的硬膜层的光学层积体，其特征在于，上述硬膜层包括透明硬膜层A和硬膜层B这两层，上述硬膜层B的最表面具有凹凸形状，当将凹凸的平均间隔设为Sm、凹凸部的平均倾斜角设为θa、凹凸的平均粗糙度设为Rz、Ψ设为Rz/Sm时，0.0010≤Ψ≤0.14、0.25≤θa≤5.0，并且上述透明硬膜层A与透光性基材之间实质上不存在界面。
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公开(公告)号：CN101454151A
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200780019808.2
申请日：2007-03-28
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/16 , B32B3/30 , B32B27/28 , G02B1/10 , G02B1/11 , G02F1/133502 , G02F2202/22 , Y10T428/24612
Abstract: 本发明公开了一种防静电光学叠层体。本发明是至少具有透光性基材和在该透光性基材上的防静电层的光学叠层体，所述防静电层作为防静电剂含有导电性聚合物，所述防静电层的表面具有凹凸形状，所述防静电层的凸部的高度为40nm～300nm。
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