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公开(公告)号：CN101864247A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN201010231307.4
申请日：2010-07-20
申请人： 南京航空航天大学
IPC分类号： C09G1/04
摘要： 一种硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液，其特征在于它是由腐蚀剂0.5%-40%，腐蚀抑制剂0.5%-20%，表面活性剂0.5%-15%，pH调节剂0.1%-10%以及去离子水组成。无磨料抛光液不含任何磨料，对被抛光材料表面损伤小，可以获得无损伤超光滑表面，而且不会产生沉淀，能够长时间的保存和使用。其次，无磨料抛光液稳定性好，不易挥发，流动性好，易清洗，对设备腐蚀小。本发明是专门针对硬脆材料化学机械抛光而制备的一种无磨料抛光液，不但兼具无磨料抛光液的优点，还针对硬脆材料有较大的去除率，能得到更高的表面质量，并且成本低，方法简便易行。
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公开(公告)号：CN100445037C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200710132281.6
申请日：2007-09-21
申请人： 南京航空航天大学
摘要： 本发明针对传统抛光垫在抛光加工过程中效率低、成本高、均匀性和可靠性差、工艺控制能力不强以及多次装夹工件致使工件的加工定位基准发生改变，从而影响最终的加工精度和效率等缺点，提出了一种用于化学机械抛光的分层冷冻磨料抛光垫及其制备方法，以适应目前抛光精加工的需求。本发明利用液体作为粘结剂，通过分层冷冻分别将去离子水、纳米磨料及微米磨料粘结形成抛光垫，可用于抛光加工各种薄形工件，尤其适于加工热敏性材料、软材料、晶体材料等。本发明具有制造简单、加工成本低、加工效率和加工精度高、工艺控制能力强、绿色环保等优点。
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公开(公告)号：CN1824444A
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN200610037902.8
申请日：2006-01-20
申请人： 南京航空航天大学
摘要： 一种超声电解复合微细加工方法及装置，属于复合微细加工领域。它将超声、电解两种加工方法有机复合，完成微器件加工，即将微器件与阴极浸入含有微细磨料的钝化性电解液中，因微电压电解使微器件表面生成钝化膜，阻止电解作用持续进行。而超声振动冲击波使电解液及磨料产生对加工面的抛磨及负压空化作用，消除电解钝化膜并将加工产物及时从加工区排除，使得电解加工持续进行。通过调制方式还可使电解电压与阴极振动相位有序同步，实现加工过程与产物排除及电解液更新交替进行。装置中包括电解装置、超声波振动驱动装置、工作台、微压力调节与Z向自动进给测量装置、电解电流测量分析装置。本方法具有精度、效率高、成本低及表面质量好的优点。
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公开(公告)号：CN110355674B
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN201910800164.5
申请日：2019-08-28
申请人： 南京航空航天大学
摘要： 一种抛光盘自调整抛光装置，包括支座、调节模块、润滑模块、限位模块、驱动模块和控制器，支座水平布置；驱动模块贯穿支座内部；调节模块位于支座内部，且与驱动模块相连接；润滑模块位于驱动模块的右上方，且润滑模块放置在支座上；限位模块安放在润滑模块上方；控制器用于控制各模块的工作。本发明通过调节模块、润滑模块和限位模块的相互配合工作能够实现工件的高效精密加工；同时，本发明结构简单，操作方便，便于使用。
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公开(公告)号：CN111808572A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN202010674243.9
申请日：2020-07-14
申请人： 南京航空航天大学
IPC分类号： C09K3/14
摘要： 一种自锐性的混合粒径聚集体磨料及其制备方法，其特征在于所述的混合粒径聚集体磨料由较粗粒径磨粒、细/超细粒径磨粒、陶瓷（玻璃）结合剂以及脆性添加剂组成，具体制备方法如下：步骤一，将较粗粒径的磨粒、细/超细粒径的磨粒、陶瓷（玻璃）结合剂、脆性添加剂按比例称料、混合；步骤二，将混合均匀的料称量，制粒，并烘干；步骤三，脱水、脱气，并进行烧结；步骤四，筛分，得到所需尺度的混合粒径的聚集体磨粒。本发明具有材料去除效率高，磨粒自锐性好，加工稳稳定好、使用寿命长等优点，可广泛适用于精密磨削、珩磨、研磨、抛光等加工技术用树脂砂轮、珩磨油石、丸片、固结磨料研抛垫、抛光垫、抛光块等固结磨具。
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公开(公告)号：CN111100599A
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201911335624.8
申请日：2019-12-23
申请人： 南京航空航天大学
摘要： 一种具有高微破碎特性的超硬聚集体磨料及其制备方法，其特征在于所述超硬聚集体磨粒由超硬磨粒金刚石（或立方氮化硼）、高脆性结合剂和脆性调节剂组成；制备方法包括如下步骤：（1）将超硬磨料、高脆性结合剂和调节剂按比例配好，混合均匀；（2）在上述混合物中加入粘结剂制坯；（3）装入真空炉后，进行中温除胶和高温烧结；（4）进行破碎和分级，即可获得具有高微破碎特性的超硬聚集体磨粒。本发明的超硬聚集体磨料具有很高的微破碎性。在不易自锐的加工条件下能稳定加工效率，提高被加工工件表面的质量。
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公开(公告)号：CN109396966A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201811417146.0
申请日：2018-11-26
申请人： 南京航空航天大学
摘要： 一种多磁铁排布环形磁流变抛光工具加工小口径凹球冠或凹球环面零件的方法，其特征是它法包括依据零件尺寸，预制平面等效抛光工具及实验确定主要工艺参数，根据工艺参数及零件结构形状设计永磁体、装配成环形磁流变抛光工具。利用Matlab软件进行轨迹仿真确定可实现轴向及周向均匀去除的转速系列。将零件与环形抛光工具进行球心定位安装，并调整零件轴线与工具轴线倾斜角度α。依据主要工艺参数值，启动机床工件轴及工具轴，持续向加工区域供给磁流变抛光液对凹球冠（或凹球环面）零件进行抛光加工。本发明能使表面粗糙度达到纳米级超光滑面，并对零件的面形精度（球度）起到较好的修正作用。
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公开(公告)号：CN104400619B
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201410556164.2
申请日：2014-10-20
申请人： 南京航空航天大学
IPC分类号： B24B37/04 , B24B37/005 , C09G1/04
摘要： 一种固结磨料化学机械抛光钽（Ta）的加工方法，其特征是包括：采用氧化铈固结磨料抛光垫对钽或钽膜进行抛光加工，加工过程中控制抛光压力在10~100 kpa之间，抛光盘的转速控制在50~150 rpm之间，抛光液为不含磨料的去离子水、表面活性剂、络合剂和pH调节剂组成，抛光液的pH值调节在8~11之间，抛光液的温度控制在20~30℃范围内，抛光液流速在80~150 ml/min之间，可获得纳米级精度的表面粗糙度，表面质量优。本发明提高了钽的加工效率和表面质量，成品合格率高，不会造成环境污染，清洗容易，成本低。
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公开(公告)号：CN103017713B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201210509908.6
申请日：2012-12-03
申请人： 南京航空航天大学
摘要： 本发明涉及光学精密测量技术领域，特别是一种测量硬脆性光学材料亚表面损伤层厚度的方法，它利用了HF酸的腐蚀性，对加工样件和基体样件（指已完全消除了亚表面损伤的工件）在相同条件下腐蚀，同时，将腐蚀时间及腐蚀操作次序分段标记。第n+1时间段开始，加工样件和基体样件的腐蚀速率相等，则可认为在n时间段，加工样件已被腐蚀到基体，为了有效减小因为实验环境因素及多步重复操作引起的实验积累误差，引入了修正系数Ki，n时间段所对应的积累腐蚀深度为其亚表面损伤层深度。本发明方法测量过程简单快捷，测试精度高，对测试设备要求低。
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公开(公告)号：CN104400619A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201410556164.2
申请日：2014-10-20
申请人： 南京航空航天大学
IPC分类号： B24B37/04 , B24B37/005 , C09G1/04
CPC分类号： B24B37/04 , B24B37/245 , C09G1/04
摘要： 一种固结磨料化学机械抛光钽（Ta）的加工方法，其特征是包括：采用氧化铈固结磨料抛光垫对钽或钽膜进行抛光加工，加工过程中控制抛光压力在10~100kpa之间，抛光盘的转速控制在50~150rpm之间，抛光液为不含磨料的去离子水、表面活性剂、络合剂和pH调节剂组成，抛光液的pH值调节在8~11之间，抛光液的温度控制在20~30℃范围内，抛光液流速在80~150ml/min之间，可获得纳米级精度的表面粗糙度，表面质量优。本发明提高了钽的加工效率和表面质量，成品合格率高，不会造成环境污染，清洗容易，成本低。
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