公开(公告)号：CN209442653U

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201920034749.6

申请日：2019-01-09

Applicant: 北京石墨烯研究院 ,  北京大学

Inventor： 刘忠范 ,  彭海琳 ,  王悦晨 ,  孙禄钊 ,  李杨立志 ,  余屹 ,  林志威

IPC: C01B32/184

Abstract: 本申请涉及石墨烯转移技术领域，具体而言，涉及一种石墨烯薄膜转移装置，用以将石墨烯薄膜转移至目标基底，其包括：壳体，所述壳体具有真空腔体；滚压机构，位于所述真空腔体内，所述滚压机构包括第一辊轴及与所述第一辊轴相对设置的第二辊轴，所述第一辊轴及所述第二辊轴中的至少一者能够转动；其中，所述第一辊轴和/或所述第二辊轴能够在转动过程中对经过所述第一辊轴和所述第二辊轴之间的石墨烯薄膜与目标基底进行滚动贴合，以将石墨烯薄膜转移至目标基底。该技术方案能够提高石墨烯薄膜转移之后的完整度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN209238603U

公开(公告)日：2019-08-13

申请号：CN201821828586.0

申请日：2018-11-07

Applicant: 北京石墨烯研究院 ,  北京大学

Inventor： 刘忠范 ,  彭海琳 ,  孙禄钊 ,  余屹 ,  李杨立志 ,  刘晓婷 ,  张金灿 ,  贾开诚

IPC: B08B7/00

Abstract: 本实用新型提供了一种带形物品清洗装置，清洗装置包括腔室以及至少一滚轮。腔室包括供带形物品进出的进料口以及出料口；至少一滚轮设置在腔室内，每一滚轮的轴线垂直于进料口和出料口的连线，每一滚轮表面设置有吸附剂；其中，在清洗过程中，带形物品与至少一滚轮表面的吸附剂接触。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN211689231U

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：CN201921931227.2

申请日：2019-11-08

Applicant: 北京石墨烯研究院 ,  北京大学

Inventor： 刘忠范 ,  彭海琳 ,  蔡阿利 ,  李杨立志 ,  孙禄钊 ,  王悦晨 ,  刘海洋 ,  陈步航

IPC: C23C16/458

Abstract: 本申请涉及用于制备二维薄膜材料的载具。该用于制备二维薄膜材料的载具用于放置于CVD设备或真空高温设备内，包括：底托，一个或多个生长板，用于承载生长衬底，所述一个或多个生长板设置在底托上。本申请的载具能够适用于多种生产设备，使用过程简单，生产效率高。

公开(公告)号：CN209242684U

公开(公告)日：2019-08-13

申请号：CN201821846250.7

申请日：2018-11-09

Applicant: 北京石墨烯研究院 ,  北京大学

Inventor： 刘忠范 ,  彭海琳 ,  孙禄钊 ,  张金灿 ,  贾开诚 ,  刘晓婷 ,  李杨立志 ,  林志威 ,  余屹

IPC: C01B32/186

Abstract: 本实用新型提供了一种利用CVD方法生长石墨烯薄膜的载具，用于放置在CVD设备的石英管内。载具包括底座、矩形底板以及多个矩形托板。矩形底板水平地设置在底座上方，且固定连接于底座；多个矩形托板用于承载石墨烯生长衬底，每一矩形托板上表面的四周设置有多个支撑体，石墨烯生长衬底容纳于多个支撑体围成的空间，多个矩形托板可层叠地放置在矩形底板上，相邻两个矩形托板之间用支撑体隔开。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN208440698U

公开(公告)日：2019-01-29

申请号：CN201820925014.8

申请日：2018-06-14

Applicant: 北京石墨烯研究院 ,  北京大学

Inventor： 刘忠范 ,  彭海琳 ,  孙禄钊 ,  刘晓婷 ,  李杨立志 ,  林立 ,  张金灿 ,  贾开诚

IPC: C23C16/56 ,  C23C16/26

Abstract: 本实用新型提供了一种石墨烯的清洁装置，包括动力系统和滚轮；所述动力系统包括动力轴；所述滚轮表面设置有吸附剂；所述滚轮能够在所述动力轴的作用下对所述石墨烯的表面进行滚压吸附处理。本实用新型一实施方式的石墨烯的清洁装置，通过具有吸附性的滚轮对石墨烯表面进行滚压处理，可以获得超洁净石墨烯。

公开(公告)号：CN210506518U

公开(公告)日：2020-05-12

申请号：CN201921373341.8

申请日：2019-08-22

Applicant: 北京石墨烯研究院 ,  北京大学

Inventor： 刘忠范 ,  彭海琳 ,  蔡阿利 ,  孙禄钊 ,  李杨立志 ,  陈步航 ,  王悦晨 ,  刘海洋

IPC: C23C16/458

Abstract: 本实用新型提供了一种利用CVD方法生长二维薄膜的载具，应用于一CVD设备，载具包括底座、底板以及多个生长板。底座具有第一限位结构；底板设于底座上，底板的下表面具有与第一限位结构配合的第二限位结构，底板的上表面具有第三限位结构；底座设置拱形支脚，便于传送；多个生长板用于承载多片生长衬底，多个生长板堆叠设置，并设于底板的上表面；多个生长板中位于最下方的生长板的下表面具有与第三限位结构配合的第四限位结构；相邻两个生长板的两个相对的表面上分别设有相互配合的第五限位结构和第六限位结构。本实用新型的载具借助第一至第六限位结构相互配合，使得连接牢固，不易发生错位或倾斜，且具有部件少，易于拆卸装配的优点。

公开(公告)号：CN209584367U

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201920153423.5

申请日：2019-01-29

Applicant: 北京石墨烯研究院 ,  北京大学

Inventor： 刘忠范 ,  彭海琳 ,  高翾 ,  张金灿 ,  刘晓婷 ,  马瑞 ,  李广亮 ,  孙禄钊 ,  贾开诚

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/458 ,  C23C16/26

Abstract: 本实用新型提供了一种化学气相沉积装置，用于制备薄膜材料，包括第一腔室、第二腔室、过渡腔室、底盘以及传送机构。第一腔室和第二腔室用于薄膜材料的生长或后处理。过渡腔室通过隔离件分别连通于第一腔室和第二腔室。底盘用于装载生长衬底。传送机构被配置为在第一腔室和过渡腔室之间传送底盘，以及在第二腔室和过渡腔室之间传送底盘。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN209442655U

公开(公告)日：2019-09-27

申请号：CN201920038866.X

申请日：2019-01-09

Applicant: 北京石墨烯研究院 ,  北京大学

Inventor： 刘忠范 ,  彭海琳 ,  刘晓婷 ,  张金灿 ,  孙禄钊 ,  贾开诚

IPC: C01B32/194

Abstract: 本实用新型提供了一种石墨烯薄膜转移装置，用以将石墨烯薄膜转移至目标基底。石墨烯薄膜转移装置包括壳体、刻蚀与清洗组件以及蠕动组件。壳体包括第一进水口和第一出水口，壳体内部形成真空腔体。刻蚀与清洗组件设于真空腔体内，包括腔室以及限位框。腔室包括第二进水口和第二出水口，分别连通于第一进水口和第一出水口。限位框悬浮于腔室内的液体，限位框形成一限域，石墨烯薄膜设于限域内，目标基底设于腔室的底部。蠕动组件用于控制液体进出的流速。其中，随着液面下移，石墨烯薄膜转移至目标基底。