一种真空压力浸渗聚合物/玻璃陶瓷复合材料及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116239315A

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202310071104.0

    申请日:2023-01-17

    发明人: 王振林 张建秀

    摘要: 本发明涉及一种真空压力浸渗聚合物/玻璃陶瓷复合材料及其制备方法和应用,属于复合材料的制备技术领域。本发明制备方法的过程中具有以下特点:(1)添加造孔剂成孔并采用先预烧、再成型后烧结的两步烧结法(预烧和煅烧)来制备多孔玻璃陶瓷;(2)采用简易高效的真空/压力浸渗装置和浸渗方法制备玻璃陶瓷/聚合物复合材料,该浸渗装置中的分液漏斗、抽气瓶和真空泵构建真空系统,先让玻璃陶瓷的多孔结构达到真空状态,通过毛细管力作用吸收单体溶液进入孔隙,再通过承重注射器的增压作用将单体溶液压入玻璃陶瓷孔隙中;真空/压力浸渗通过严格流程化的浸渗液压力转换来提高浸渗效果。

    光学玻璃、预成型坯及光学元件
    55.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115991571A

    公开(公告)日:2023-04-21

    申请号:CN202211642713.9

    申请日:2018-05-09

    摘要: 本发明为光学玻璃、预成型坯及光学元件。本发明的课题在于,获得一种玻璃,其部分色散比(θg,F)与阿贝数(νd)之间,满足(‑0.00162×νd+0.625)≤(θg,F)≤(‑0.00162×νd+0.660)的关系,且耐酸性高。该玻璃,以质量%计,含有P2O5成分20.0~60.0%,BaO成分5.0~45.0%,Ln2O3成分大于0~15.0%;部分色散比(θg,F)与阿贝数(νd)之间,满足(‑0.00162×νd+0.625)≤(θg,F)≤(‑0.00162×νd+0.660)的关系;以粉末法测定的化学耐久性(耐酸性)为1~5级。

    一种透紫外线高硼硅玻璃及其制备方法

    公开(公告)号:CN115504668B

    公开(公告)日:2023-03-07

    申请号:CN202211478480.3

    申请日:2022-11-24

    发明人: 李彬

    摘要: 本发明公开了玻璃制备生产技术领域的一种透紫外线高硼硅玻璃及其制备方法,所述玻璃包括:ZrOTe:10~30份;石英砂:60~90份;硼酐:1~20份;硼酸:1~10份;碳酸钠:1~10份;氧化铝:1~5份;氧化钙:1~5份;碎玻璃:20~40份;澄清助剂:1~2份;结构助剂:0.1~2份;本发明通过制备ZrOTe可有效抑制硼的挥发,提高玻璃的力学性能,同时降低了生产成本;并且会破坏Si‑O‑Si结构和B‑O‑B结构,提高玻璃的致密度;又能使二氧化硅和二氧化硼的结构转变为[SiO3]和[BO3],使玻璃的粘度降低的同时,熔制温度也变低;本发明加入了结构助剂,提高了透紫外光的穿透力并降低断裂韧性。

    具有低介电常数和低拉丝温度的玻璃材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN115611512A

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN202110793968.4

    申请日:2021-07-14

    发明人: 林嘉佑

    IPC分类号: C03C4/00 C03C3/118

    摘要: 本发明公开一种具有低介电常数和低拉丝温度的玻璃材料,包括以下原料及重量百分比:SiO2 45‑52%、Al2O3 10‑14%、CaO 1~4%、MgO 0‑2%、CaO与MgO 1~4%、P2O5 0‑3%、B2O3 25~30%、ZnO 1‑5%、TiO2 0.25~0.8%、F20.01‑2%和Li2O+Na2O+K2O 0.01~1%;本发明还公开上述玻璃材料的制备方法。本发明通过降低SiO2的含量及降低CaO的用量和应用P2O5和ZnO的特性,达到具备更低的介电常数及低拉丝温度的玻璃性能,更具良好的电气性质。