一种近眼显示镜片、及近眼显示装置

    公开(公告)号:CN109870809A

    公开(公告)日:2019-06-11

    申请号:CN201711254538.5

    申请日:2017-12-01

    Abstract: 本发明公开了一种具有光学屈光度的近眼显示镜片、一种用于近眼显示设备的视力矫正装置及近眼显示装置,至少包含一层光栅结构,所述光栅结构的参数中的一个、两个或多个以改变光场相位为目的随位置变化,且所述光栅结构具有成像、屈光矫正功能。本发明创造性的通过光栅的整体结构设计,使光栅结构同时具备虚拟3D景物的显示及视力矫正的功能,使得具有视力缺陷的人士可以无需佩戴眼镜就可以直接使用近眼显示设备,体验的舒适性和便利性大大提高,具有较高的商业价值和社会价值。

    一种菲涅尔器件的制作方法及制作装置

    公开(公告)号:CN106646691B

    公开(公告)日:2019-02-22

    申请号:CN201611125124.8

    申请日:2016-12-09

    Abstract: 本发明提供了一种菲涅尔器件的制作方法,其包括以下步骤:1)图像3D建模;2)将建模后的3D图,按照菲涅尔的变化规律进行量化处理;3)通过等高投影或等宽投影进行像素微结构模拟;4)像素化拼接;5)通过光刻工艺至整个图像光刻完成;6)通过转移工艺将模板转移到应用材料上。本发明还提供了一种菲涅尔器件的制作装置。本发明与现有技术相比,可以实现任意形状的菲涅尔器件;且尺寸不受限制,通过拼版等工艺,可以做大尺寸的菲涅尔器件;且该方法降低了成本。

    偏振不敏感电磁吸收结构及制备方法

    公开(公告)号:CN108333655A

    公开(公告)日:2018-07-27

    申请号:CN201810385935.4

    申请日:2018-04-26

    CPC classification number: G02B5/003

    Abstract: 本发明涉及一种偏振不敏感电磁吸收结构及制备方法,该偏振不敏感电磁吸收结构包括:金属光栅层,具有光栅凹槽;非金属填充介质,设置于所述光栅凹槽内;该制备方法包括如下步骤:S1:提供在其上形成有金属平面层的基底;S2:在所述金属平面层上形成光栅凹槽;S3:在所述光栅凹槽内填充非金属填充介质。本发明的偏振不敏感电磁吸收结构及制备方法通过在金属光栅层上形成光栅凹槽,并在光栅凹槽内设置非金属填充介质,从而使其结构更为简单,提高了吸收效率,且针对不同偏振光的入射情况,均有较好的吸收效果。

    基片的预对准方法
    57.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107908086A

    公开(公告)日:2018-04-13

    申请号:CN201711122043.7

    申请日:2017-11-14

    Abstract: 本发明涉及一种基片的预对准方法,该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标,并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标,最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准,实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。

    一种三维成型装置及方法
    58.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105619819B

    公开(公告)日:2017-12-29

    申请号:CN201610090876.9

    申请日:2016-02-18

    Abstract: 本发明提出一种基于基底层的三维成型装置,包括基底层以及基材成型机构、曝光机构、支撑机构及剥离机构,基材成型机构包括分离液喷射装置及用于盛放感光材料的容置槽,分离液喷射装置喷射分离液至基底层下方表面以形成分离型涂层,之后涂覆感光材料层,基底层、分离型涂层与感光材料层依次成型形成基材,基材被反复依次运送至基材成型机构、支撑机构及剥离机构,控制基材成型机构、曝光机构与剥离机构的对应位置,可以使得三维成型装置同时进行基材成型、曝光、剥离中的两个或三个步骤,基材成型、曝光与剥离动作同时反复进行,提升了工作效率,适用于三维实体的大幅面、高效率、高精度和低成本等制作要求。

Patent Agency Ranking