公开(公告)号：CN106660318A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201580047436.9

申请日：2015-09-07

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山下恭弘 ,  中岛秀明 ,  伊藤豊

IPC: B32B9/00 ,  C23C16/42 ,  C23C16/509

CPC classification number: C23C16/32 ,  B32B9/00 ,  C23C16/401 ,  C23C16/50 ,  C23C16/509 ,  C23C16/545

Abstract: 本发明的课题是提供将不同种类的层设置于薄膜层上时耐冲击性优异的阻气性层叠膜。本发明提供一种层叠膜，其具备挠性基材和形成于上述基材的至少一侧的表面上的薄膜层，上述薄膜层含有Si、O和C，对上述薄膜层的表面进行X射线光电子能谱测定时，使用由宽扫描能谱得到的相当于Si的2p、O的1s、N的1s和C的1s的各自的结合能的峰而算出的C相对于Si的原子数比在下述式(1)的范围，对上述薄膜层表面进行红外光谱测定时，存在于950～1050cm‑1的峰强度(I1)与存在于1240～1290cm‑1的峰强度(I2)的强度比在下述式(2)的范围。0.01＜C/Si≤0.20(1) 0.01≤I2/I1＜0.05(2)。

公开(公告)号：CN104395067B

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201380020136.2

申请日：2013-04-11

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山下恭弘 ,  黑田俊也

IPC: B32B3/30 ,  B32B9/00 ,  C23C16/44

CPC classification number: B32B3/30 ,  B32B2250/02 ,  C23C16/401 ,  C23C16/545 ,  Y10T428/24355

Abstract: 本发明提供一种层叠膜，其基材的表面已平坦化，且气体阻隔性优异。在具有基材(2)和在基材(2)的表面上形成有薄膜层(3)的层叠膜(1)中，在垂直于基材(2)的表面的方向的截面上，将对基材的表面(21)的一个端部(211)和另一个端部(212)进行连结的方向设为(X)方向，并将垂直于(X)方向的方向设为(Y)方向，求出通过基材的表面(21)上的凸起部(23)的边缘(231)且平行于(X)方向的线段(x1)与通过凸起部(23)的顶点(232)且平行于(Y)方向的线段(y1)的交点(p1)，并将线段(y1)的顶点(232)与交点(p1)之间的距离设为a，且将线段(x1)的边缘(231)与交点(p1)之间的距离设为b，将凸起部(23)附近的平坦部(211)上的薄膜层(3)的厚度设为h；其中，所述截面是设定为使a/b的值成为最大的截面，所述表面(21)的所有凸起部(23)均满足由式(1)表示的关系：a/b＜0.7(a/h)‑1+0.31……(1)。

公开(公告)号：CN105848880A

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201480070996.1

申请日：2014-12-11

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山下恭弘 ,  伊藤丰 ,  中岛秀明

IPC: B32B9/00 ,  C23C16/42

CPC classification number: C23C16/50 ,  C23C16/308 ,  C23C16/325 ,  C23C16/345 ,  C23C16/507 ,  C23C16/545 ,  H01B1/04 ,  H05K1/028

Abstract: 一种层叠膜，其具有挠性基材、形成在上述基材的至少单侧的表面上的第1薄膜层和形成在第1薄膜层上的第2薄膜层，其中，上述第1薄膜层含有硅原子(Si)、氧原子(O)和碳原子(C)，上述第2薄膜层含有硅原子、氧原子和氮原子(N)，上述第1薄膜层和第2薄膜层使用辉光放电等离子体形成。

公开(公告)号：CN104395067A

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：CN201380020136.2

申请日：2013-04-11

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山下恭弘 ,  黑田俊也

IPC: B32B3/30 ,  B32B9/00 ,  C23C16/44

CPC classification number: B32B3/30 ,  B32B2250/02 ,  C23C16/401 ,  C23C16/545 ,  Y10T428/24355 ,  B32B9/045 ,  B32B2307/7242 ,  B32B2439/00 ,  B32B2439/70

Abstract: 本发明提供一种层叠膜，其基材的表面已平坦化，且气体阻隔性优异。在具有基材(2)和在基材(2)的表面上形成有薄膜层(3)的层叠膜(1)中，在垂直于基材(2)的表面的方向的截面上，将对基材的表面(21)的一个端部(211)和另一个端部(212)进行连结的方向设为(X)方向，并将垂直于(X)方向的方向设为(Y)方向，求出通过基材的表面(21)上的凸起部(23)的边缘(231)且平行于(X)方向的线段(x1)与通过凸起部(23)的顶点(232)且平行于(Y)方向的线段(y1)的交点(p1)，并将线段(y1)的顶点(232)与交点(p1)之间的距离设为a，且将线段(x1)的边缘(231)与交点(p1)之间的距离设为b，将凸起部(23)附近的平坦部(211)上的薄膜层(3)的厚度设为h；其中，所述截面是设定为使a/b的值成为最大的截面，所述表面(21)的所有凸起部(23)均满足由式(1)表示的关系：a/b＜0.7(a/h)-1+0.31……(1)。

公开(公告)号：CN101517797A

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：CN200780035075.1

申请日：2007-07-19

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 石飞昌光 ,  野殿光纪 ,  山下恭弘

IPC: H01M8/02 ,  H01B13/00 ,  H01B1/06 ,  H01M8/10

Abstract: 公开一种生产聚合物电解质膜的方法，其中能容易地获得具有优异沿厚度方向离子导电性的聚合物电解质膜。生产本发明聚合物电解质膜的优选方法是一种生产具有微相分离结构的聚合物电解质膜的方法，包括从含有具有离子导电基团的聚合物电解质的溶液中蒸发溶剂的蒸发步骤。在蒸发步骤中，从溶剂蒸发开始到结束的时间等于或小于60min。