公开(公告)号：CN101295135A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200810127707.3

申请日：2008-04-14

Applicant: 三星电子株式会社 ,  东进瑟弥侃株式会社

Inventor： 朴廷敏 ,  郑斗喜 ,  李羲国 ,  尹赫敏 ,  丘冀赫

IPC: G03F7/021 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L21/84

CPC classification number: G03F7/0382 ,  H01L21/312 ,  H01L27/1214 ,  H01L27/1288

Abstract: 本发明涉及光刻胶组合物和使用其制造薄膜晶体管基底的方法。在一实例中，光刻胶组合物包括约1到约70重量份的含有由右面化学式1代表的重复单元的第一粘合剂树脂、约1到约70重量份的含有由右面化学式2代表的重复单元的第二粘合剂树脂、约0.5到约10重量份的光致产酸剂、约1到约20重量份的交联剂和约10到约200重量份的溶剂，在式中R1和R2独立地代表具有1到5个碳原子的烷基，n和m独立地代表自然数。该光刻胶组合物可改善光刻胶图案的耐热性和粘附能力。