阴极射线管中的框架
    41.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1178266C

    公开(公告)日:2004-12-01

    申请号:CN01119606.8

    申请日:2001-04-30

    Inventor: 金成大

    CPC classification number: H01J29/073 H01J2229/0722

    Abstract: 本发明涉及阴极射线管中的框架,特别涉及用于支撑荫罩的张力罩型装置的框架,以向阴极射线管中的荫罩施加张力。阴极射线管中的框架包括用于固定荫罩的主框架,和用于支撑主框架的副框架,借此以作用其上的张力支撑荫罩,其中副框架有向荫罩突出的部分,以使荫罩上的张力引起的主框架的变形最小,副框架相对于副框架的中心在左右方向对称。

    一次性写入光学记录介质及其缺陷管理信息的管理方法

    公开(公告)号:CN101261867A

    公开(公告)日:2008-09-10

    申请号:CN200810083209.3

    申请日:2003-10-01

    Inventor: 朴容彻 金成大

    CPC classification number: G11B20/1883 G11B2020/1873 G11B2220/20

    Abstract: 本发明提供了一次性写入光学记录介质,用于分配所述一次性写入光学记录介质的缺陷管理区的方法,以及用于分配所述一次性写入光学记录介质的备用区的方法。这里提供的具有至少一个记录层的一次性写入光学记录介质上的缺陷的管理方法包括下列步骤:分别分配至少一个具有固定大小的临时缺陷管理区和至少一个具有可变大小的临时缺陷管理区至所述光学记录介质,将缺陷管理信息记录在所述至少一个具有固定大小的临时缺陷管理区和所述至少一个具有可变大小的临时缺陷管理区上;以及使用所述至少一个具有固定大小的临时缺陷管理区和所述至少一个具有可变大小的临时缺陷管理区。

    一次性写入光学记录介质及其缺陷管理信息的管理方法

    公开(公告)号:CN1754206A

    公开(公告)日:2006-03-29

    申请号:CN200380109904.8

    申请日:2003-10-01

    Inventor: 朴容彻 金成大

    CPC classification number: G11B20/1883 G11B2020/1873 G11B2220/20

    Abstract: 本发明提供了一次性写入光学记录介质,用于分配所述一次性写入光学记录介质的缺陷管理区的方法,以及用于分配所述一次性写入光学记录介质的备用区的方法。这里提供的具有至少一个记录层的一次性写入光学记录介质上的缺陷的管理方法包括下列步骤:分别分配至少一个具有固定大小的临时缺陷管理区和至少一个具有可变大小的临时缺陷管理区至所述光学记录介质,将缺陷管理信息记录在所述至少一个具有固定大小的临时缺陷管理区和所述至少一个具有可变大小的临时缺陷管理区上;以及使用所述至少一个具有固定大小的临时缺陷管理区和所述至少一个具有可变大小的临时缺陷管理区。

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