用于测量波前像差的方法和波前像差测量设备

    公开(公告)号:CN105258922A

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201510626614.5

    申请日:2010-10-19

    Inventor: 田中一政

    CPC classification number: G01M11/0257 Y10T29/49764

    Abstract: 本发明公开了一种波像差测量方法,其中通过将从光源发射的光施加到所要测试的镜头上并且通过检测透射通过所要测试的镜头的光而以提高的测量准确度测量波像差。该方法包括在所要测试的镜头的光圈打开时测量波像差的步骤;在所要测试的镜头的光圈关闭时测量所要测试的镜头的光瞳的中心位置的步骤;和使用光瞳的中心位置作为原点利用多项式展开波像差的步骤。还公开了一种波像差测量设备。

    变焦镜头系统和光学设备
    42.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102193175B

    公开(公告)日:2016-01-20

    申请号:CN201110058604.8

    申请日:2011-03-08

    CPC classification number: G02B15/16 G02B15/14 G02B15/173 Y10T29/49826

    Abstract: 以从物体侧起的顺序包括:第一透镜组(G1),具有正折射光焦度;第二透镜组(G2),具有负折射光焦度;第三透镜组(G3),具有正折射光焦度;第四透镜组(G4),具有负折射光焦度;以及,第五透镜组(G5),具有正折射光焦度,孔径光阑被布置到第二透镜组的图像侧,在从广角端状态向远摄端状态变焦时,在第一透镜组和第二透镜组之间的距离增大,在第二透镜组和第三透镜组之间的距离减小,在第三透镜组和第四透镜组之间的距离改变,并且在第四透镜组和第五透镜组之间的距离改变,并且满足给定的条件,由此提供一种通过抑制在像差上的改变而具有高光学性能的变焦镜头系统、配备了其的光学设备和用于制造该变焦镜头系统的方法。

    曝光设备和器件制造法
    43.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101872135B

    公开(公告)日:2013-07-31

    申请号:CN201010214662.0

    申请日:2003-12-08

    CPC classification number: G03F7/709 G03F7/70341 G03F7/70716

    Abstract: 本发明涉及曝光设备和器件制造法。具体地,本发明提供了一种曝光设备,它用能量束照射图案并且经投影光学系统把所述图案转印到基片上,所述曝光设备包括:一个基片台,基片台上安装着所述基片,所述基片台在保持所述基片的二维平面内移动;一个干涉仪,它测量所述基片台的位置;一个供应机构,它把液体供应到所述投影光学系统和所述基片台上的所述基片之间的空间;一个回收机构,它回收所述液体;和一个空气调节机构,它在所述投影光学系统和所述基片之间的所述液体的周围执行空气调节。

    用于测量波前像差的方法和波前像差测量设备

    公开(公告)号:CN102667439A

    公开(公告)日:2012-09-12

    申请号:CN201080052301.9

    申请日:2010-10-19

    Inventor: 田中一政

    CPC classification number: G01M11/0257 Y10T29/49764

    Abstract: 本发明公开了一种波像差测量方法,其中通过将从光源发射的光施加到所要测试的镜头上并且通过检测透射通过所要测试的镜头的光而以提高的测量准确度测量波像差。该方法包括在所要测试的镜头的光圈打开时测量波像差的步骤;在所要测试的镜头的光圈关闭时测量所要测试的镜头的光瞳的中心位置的步骤;和使用光瞳的中心位置作为原点利用多项式展开波像差的步骤。还公开了一种波像差测量设备。

    成像镜头、配备有该成像镜头的光学设备和用于制造成像镜头的方法

    公开(公告)号:CN102411196A

    公开(公告)日:2012-04-11

    申请号:CN201110294136.4

    申请日:2011-09-21

    Abstract: 本发明提供了一种成像镜头、一种配备有该成像镜头的光学设备,和一种用于制造该成像镜头的方法。该成像镜头包括被设置到最物侧的、具有负折射光焦度的前透镜组和被设置到前透镜组的像侧并且沿着包括基本与光轴垂直的分量的方向移动其至少一部分的、具有负折射光焦度的后透镜组。后透镜组包括具有负折射光焦度的G3a、具有负折射光焦度的G3b和具有正折射光焦度的G3c。G3b被设置在G3a和G3c之间。G3a的G3b侧透镜表面是面向G3b的凹形表面。G3b是具有面向G3a的凹形表面的负弯月形透镜形状。在G3a、G3b和G3c的光学表面中的至少一个透镜表面是非球面。

    成像镜头、配备其的光学设备和用于制造成像镜头的方法

    公开(公告)号:CN102129113A

    公开(公告)日:2011-07-20

    申请号:CN201110025220.6

    申请日:2011-01-20

    CPC classification number: G02B13/02 G02B1/113 Y10T29/49982

    Abstract: 提供一种成像镜头、一种光学设备和用一种于制造成像镜头的方法。一种成像镜头(SL)以从物体侧起的顺序包括:第一组(G1),其具有正折射光焦度;孔径光阑(S);第二组(G2),其具有正折射光焦度;以及,第三组(G3),其具有负折射光焦度;在从无限远到近物体聚焦时,沿着光轴独立地向物体侧移动第一组和第二组,该第一组以从物体侧起的顺序包括具有负折射光焦度的前组和具有正折射光焦度的后组,该前组以从物体侧起的顺序由正透镜和负透镜构成,由此,提供一种成像镜头、一种光学设备和用一种于制造成像镜头的方法,该成像镜头能够在从无限远到近物体聚焦时获得极好的光学性能,并且以简单的透镜构造减小光学系统的尺寸。

    曝光设备和器件制造法
    48.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100446179C

    公开(公告)日:2008-12-24

    申请号:CN200380105467.2

    申请日:2003-12-08

    CPC classification number: G03F7/709 G03F7/70341 G03F7/70716

    Abstract: 利用供应机构(72)经透镜(42)一侧的供应喷嘴(36)把液体供应到透镜(42)和晶片(W)之间的空间,利用回收机构(74)经透镜(42)另一侧的回收管(52)回收液体。当同时执行液体的供应和回收时,预定量的液体就保持(随时处于交换状态)在透镜(42)和台上晶片(W)之间。因此,当在这种状态下执行曝光(图案转印到基片上)时,就应用了浸液方法,并且以很高的精度把图案转印到基片上。另外,如果液体从周壁(32g)下沿下面漏出,辅助回收机构(76)就经狭缝(32h3或32h4)回收不能回收的液体。并且通过这种操作,就不会有残留液体留在基片上。

    衍射光学元件及其制造方法

    公开(公告)号:CN100420968C

    公开(公告)日:2008-09-24

    申请号:CN200510062513.6

    申请日:2005-03-30

    Inventor: 田中一政

    CPC classification number: G02B5/1852 Y10S359/90

    Abstract: 提供一种由材质相互各异的第1要素(10)和第2要素(20)紧密结合,并在第1要素(10)和第2要素(20)的边界面上形成了衍射光栅槽(30)的衍射光学元件(1),在该衍射光学元件(1)中,至少第2要素(20)是光硬化树脂,第2要素(20)是利用通过第1要素(10)的光使之硬化而形成的,为了使基于因第1要素(10)的表面形成的衍射光栅槽(30)的凹凸导致的光的强度差而产生的第2要素(20)中的硬化收缩量的差在不降低衍射光学元件的要求性能的范围之内,上述衍射光学元件被设定为包括相对于上述光的第1要素(10)的内部透过率T1和第2要素(20)的内部透过率T2相等的值在内的预定范围的值。

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