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公开(公告)号：CN103765555A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280042481.1
申请日：2012-07-19
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 佐藤真路
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341 , H01L21/682
Abstract: 本发明的曝光装置是通过液体以曝光用光使基板曝光。曝光装置，具备：具有曝光用光射出的射出面的光学构件、包含将基板的下面以可释放的方式加以保持的第1保持部以及用以规定可配置基板的开口且具有在基板被保持于第1保持部保持的状态下配置在基板上面周围的上面的第1构件的基板保持装置、以及至少一部分配置在基板与第1构件间的间隙且具有对液体为拨液性的上面的多孔构件。曝光装置通过多孔构件回收流入间隙的液体的至少一部分。
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