-
公开(公告)号:CN1596461A
公开(公告)日:2005-03-16
申请号:CN03801601.X
申请日:2003-09-11
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67034 , H01L21/02052
Abstract: 本发明提供一种旋转式硅晶片清洗装置,通过使以药物和纯水进行清洗处理后的硅晶片的氢气终端进行得更为完全,可使硅晶片的稳定性得到进一步提高。为此,本申请发明作为一种箱壳内设置有硅晶片的支持·旋转驱动装置,对经过药物清洗后的硅晶片以纯水进行清洗的旋转式硅晶片清洗装置,设置有硅晶片干燥装置,该硅晶片干燥装置由,附设在箱壳中的供给由含有0.05Vol%以上的氢气的氢气与惰性气体的混合气体的气体供给板块、一端连接在上述气体供给板块的气体混合器上的混合气体供给管、对上述混合气体供给管内的混合气体进行加热的混合气体加热装置、在与经上述混合气体加热装置加热的高温混合气体接触的部位具有可形成氢自由基的白金涂覆被膜的氢自由基生成装置等构成,通过将含有由上述氢自由基生成装置生成的氢自由基的混合气体,喷射到清洗后的进行旋转的硅晶片上,对硅晶片的外表面进行干燥和氢封端处理。
-
公开(公告)号:CN1160562C
公开(公告)日:2004-08-04
申请号:CN00809901.4
申请日:2000-06-05
CPC classification number: G01N25/32 , G01N33/0013
Abstract: 本发明的主要目的是简化气体检测传感器的构造,并且在有H2O和O2存在的条件下,可高精度地检测被检测气体内的可燃性气体的浓度和含有可燃性气体的被检测气体内的氧气的浓度。为了达到上述目的,本发明的气体检测传感器是通过可燃性气体的接触反应而使传感器发热,通过该发热而发出可燃性气体的检测信号的气体检测传感器,由以下部分构成:膜片,该膜中在被检测气体所接触的接气面上具有白金镀层薄膜;第1检测传感器,该检测传感器由两种不同金属的一端分别接近上述膜片的非接气面地固定的热电偶构成,通过可燃性气体的接触反应而被加热;具有与被检测气体相接触的接气面的膜片;对被检测气体的温度进行检测的第2检测传感器,该传感器由两种不同金属的一端分别接近上述膜片的非接气面地固定的热电偶构成。
-
公开(公告)号:CN1516235A
公开(公告)日:2004-07-28
申请号:CN200410003341.0
申请日:2000-07-21
IPC: H01L21/00
CPC classification number: B01J3/006 , B01J7/00 , B01J12/007 , C01B5/00
Abstract: 本发明的目的是提供一种安全的减压型水分发生供给装置,该装置减压供给水分气体,较高地保持水分发生用反应炉的内压,这样,可防止氢的自燃,本发明的另一目的是提供一种水分发生用反应炉,是通过对水分发生用反应炉高效率地进行冷却,便可在不增大反应炉尺寸的情况下使水分发生量大幅度增加的水分发生用反应炉。因此,其特征在于:由水分发生用反应炉和减压机构构成,其中水分发生用反应炉是由氢和氧通过催化剂反应而发生水分气体;减压机构设在该水分发生用反应炉的下流侧,水分气体通过该减压机构减压后供给下流侧,与此同时较高地保持反应炉内的内压。
-
公开(公告)号:CN1503904A
公开(公告)日:2004-06-09
申请号:CN02808689.9
申请日:2002-11-22
Applicant: 株式会社富士金 , 东京毅力科创株式会社 , 大见忠弘
CPC classification number: G05D7/0635 , G01D3/022 , G01F1/50 , G01F15/046 , G01L9/025
Abstract: 开发一种压力传感器、压力控制装置及流量控制装置,可以自动地修正压力传感器的温度漂移,且即使温度变动,仍可正确地检测出压力。本发明的压力式流量控制装置的温度漂移修正装置是在压力式流量控制装置上使用的温度漂移修正装置,该压力式流量控制装置在节流装置4与控制阀22之间设有检测上游侧压力P1用的上游侧压力传感器10,在根据上游侧压力P1运算通过节流装置4的流量的同时,还通过控制阀22的开闭来控制通过节流装置4的流量,该压力式流量控制装置的温度漂移修正装置由测定流体温度的温度传感器14、存储流体温度T与上游侧压力传感器10的输出漂移的关系的存储机构64、以及温度漂移修正机构构成,其中,温度漂移修正机构是在流体温度T发生变化的情况下,根据存储机构64的数据运算上游侧压力传感器10的输出漂移量,根据该运算输出漂移量消除上游侧压力传感器10的输出漂移,从而修正温度漂移。利用该结构,可自动地修正压力传感器的温度漂移,进行正确的流量控制。
-
公开(公告)号:CN1494672A
公开(公告)日:2004-05-05
申请号:CN02805589.6
申请日:2002-11-22
Applicant: 株式会社富士金 , 大见忠弘 , 东京毅力科创株式会社
IPC: G05D7/06
CPC classification number: G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
Abstract: 本发明的解决手段在于提供一种改良型压力式流量控制装置,其以Qc=KP2m(P1-P2)n表示非临界领域(非音速域)中压缩性流体的实验流量式,以此Qc=KP2m(P1-P2)n(K为比例常数,m及n为常数)计算通过孔口4的流体流量,可正确且高速地将流量控制于指定流量。又提供一种改良型压力式流量控制装置,其经常将上游侧压力P1及下游侧压力P2所得压力比P2/P1=r与临界值rc比较,在临界条件(r≤rc)下以Qc=KP1,在非临界条件(r>rc)下以Qc=KP2m(P1-P2)n运算流量,可一面对应流体的所有条件,一面正确且高速地将流量控制于指定流量。
-
公开(公告)号:CN1114847C
公开(公告)日:2003-07-16
申请号:CN99801434.6
申请日:1999-08-09
Applicant: 株式会社富士金 , 大见忠弘 , 东京毅力科创株式会社
IPC: G05D7/06
CPC classification number: G05D7/0635 , Y10T137/0396 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/8326
Abstract: 对于使用孔板的流量控制装置,可不必拆解配管而通过检测上游压力判断孔板是否堵塞,可使流量控制装置的寿命延长、安全性得到提高。具体地说就是,在上游压力P1保持为下游压力P2的约2倍以上、以QC=KP1(K:常数)进行下游流量QC的计算、利用该计算流量QC与设定流量QS二者的差信号QY对控制阀CV的开闭进行控制的流量控制装置FCS中,其堵塞检测装置由:储存有孔板2无堵塞的条件下从高设定流量QSH切换到低设定流量QSL而测定的上游压力P1的基准压力衰减数据Y(t)的存储装置M,在孔板2的实际条件下从高设定流量QSH切换到低设定流量QSL以对上游压力P1的压力衰减数据P(t)进行测定的压力检测器14,对压力衰减数据P(t)与基准压力衰减数据Y(t)二者进行对比运算的中央运算处理装置CPU,以及当压力衰减数据P(t)偏离基准压力衰减数据Y(t)达到既定程度以上时报知堵塞的报警电路46等构成。
-
公开(公告)号:CN1356961A
公开(公告)日:2002-07-03
申请号:CN00801205.9
申请日:2000-06-05
IPC: C01B5/00
Abstract: 本发明的主要目的为,更彻底地防止水分发生用反应炉体内部中氢气着火或气体供给源一侧回火的发生以及镀铂触媒层的剥离,进一步提高水分发生用反应炉的安全性,同时减少反应炉体的内部空间的未利用空间,使反应炉体进一步小型化。为此,在本发明中,有气体供给口1a的入口侧炉体构件1和有水汽出口2a的出口侧炉体构件2对置状组装,通过将两者焊接形成反应炉体A,其内部空间V内设有反射体的同时在前述出口侧炉体构件2的内壁面形成镀铂触媒层8,从气体供给口1a供给反应炉体A的内部空间V内的氢气与氧气与镀铂保护膜8b接触使其活性化反应,从而使氢气与氧气在非燃烧状态下反应,产生水。
-
公开(公告)号:CN1319075A
公开(公告)日:2001-10-24
申请号:CN00801626.7
申请日:2000-07-21
IPC: C01B5/00
CPC classification number: B01J3/006 , B01J7/00 , B01J12/007 , C01B5/00
Abstract: 本发明的目的是提供一种安全的减压型水分发生供给装置,该装置减压供给(例如数托)水分气体,较高地保持水分发生用反应炉的内压,这样,可防止氢的自燃,本发明的另一目的是提供一种水分发生用反应炉,是通过对水分发生用反应炉高效率地进行冷却,便可在不增大反应炉尺寸的情况下使水分发生量大幅度增加的水分发生用反应炉。因此,本发明的减压型水分发生供给装置的特征在于:由水分发生用反应炉和减压机构构成,其中水分发生用反应炉是由氢和氧通过催化剂反应而发生水分气体;减压机构设在该水分发生用反应炉的下流侧,水分气体通过该减压机构减压后供给下流侧,与此同时较高地保持反应炉内的内压。本发明的散热式水分发生用反应炉由将入口侧炉主体部件和出口侧炉主体部件组合起来而形成有内部空间的反应炉主体、和贴紧在上述各炉子主体部件的外壁面上的散热片底板、及立设在该散热片底板上的多个散热用散热片构成,利用上述散热用散热片对发生的热量进行强制性辐射,使反应炉的温度降低。并且,对散热用散热片进行氧化铝膜加工,使热辐射率大幅度提高,而使散热效率进一步提高。
-
公开(公告)号:CN1255981A
公开(公告)日:2000-06-07
申请号:CN99800002.7
申请日:1999-01-11
Applicant: 株式会社富士金 , 大见忠弘 , 东京毅力科创株式会社
IPC: G05D7/06
CPC classification number: G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
Abstract: 一种供如半导体制造设备中气体供给系统用的流体供给设备,它使得有可能在开始供给流体或流体转换时高精度控制流体流速而不产生流体的瞬时过冲现象。本发明的流体供给设备包括:压力流量控制器,用来调节流体的流率;流体转换阀,用来打开和关闭压力流量控制器次级侧的流体通道;以及流体供给控制单元,用来控制压力流量控制器和流体转换阀的操作;压力流量控制器包括:注流孔5;设置在注流孔5上游侧的控制阀1;设置在控制阀1和注流孔5之间的压力检测器3;以及计算控制单元6,它把流率信号Qc和流率指定信号Qs之间的差值作为控制信号Qy输入到控制阀1的驱动器2,流率信号Qc是利用流率Qc=KP1( K=常数)、根据由压力检测器3检测到的压力P1计算的;其中,通过借助打开和关闭控制阀1来调节注流孔上游侧的压力P1而控制注流孔5下游侧的流率。
-
公开(公告)号:CN100480656C
公开(公告)日:2009-04-22
申请号:CN200480017295.8
申请日:2004-06-10
CPC classification number: G01L19/02 , G01L9/065 , G01L19/0023 , G05D7/0635
Abstract: 本发明提供一种对压力传感器的时效零点漂移进行自动修正,能够不限于其工作期间对压力进行准确检测的压力传感器、使用该压力传感器的压力控制装置以及流量控制装置。具体地说,作为一种采用对流体压力进行测定的半导体压敏元件的压力传感器,将来自压力传感器的传感器输出电压通过放大器向外部输出,并将所述传感器输出电压通过D/A转换器输入给压力传感器时效零点漂移修正机构,在该时效零点漂移修正机构的传感器输出判定机构中判定所述传感器输出电压是否大于设定值,对压力传感器的动作条件进行判定,当所述传感器输出电压大于设定值时,将压力传感器的时效零点漂移消除。
-
-
-
-
-
-
-
-
-