液压转印用基膜
    41.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107635791A

    公开(公告)日:2018-01-26

    申请号:CN201680034753.1

    申请日:2016-06-14

    Abstract: 单层的液压转印用基膜,其中,相对于聚乙烯醇100质量份,包含平均粒径为2~14μm且长宽比为4~60的片状或针状的填料1.5~15质量份;以及,液压转印用基膜的制造方法,其具备使用制膜原液进行制膜的工序,所述制膜原液中,相对于聚乙烯醇100质量份,包含平均粒径为2~14μm且长宽比为4~60的片状或针状的填料1.5~15质量份。由此,能够提供从卷中抽出时不易断裂的液压转印用基膜及其制造方法。

    光学膜制造用初始膜
    42.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105874364A

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201480072554.0

    申请日:2014-12-17

    Abstract: 本发明提供光学膜制造用初始膜以及使用该初始膜的光学膜的制造方法,所述光学膜制造用初始膜即使不进行在硼酸水溶液中浸渍、空中高温拉伸之类的不溶化处理也可以在与水接触的步骤中抑制聚乙烯醇的溶出,可以使用通用的光学膜制造设备简便地制造光学性能优异的光学膜。光学膜制造用初始膜,其具有热塑性树脂膜层和含有硼化合物的聚乙烯醇层;以及制造方法,其是使用该光学膜制造用初始膜的光学膜的制造方法,其具有拉伸步骤。

    乙烯醇系聚合物膜
    43.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105431751A

    公开(公告)日:2016-03-23

    申请号:CN201480042973.X

    申请日:2014-08-05

    Abstract: [课题]提供可容易地制造光学特性、色相和耐久性均优异的光学膜的PVA膜,以及使用了该PVA膜的光学膜的制造方法。[解决方案]PVA膜,由自旋-自旋弛豫时间T2求出结晶成分量(a1)、约束非晶成分量(a2)和非晶成分量(a3)时,结晶成分量(a1)和约束非晶成分量(a2)的合计在结晶成分量(a1)、约束非晶成分量(a2)和非晶成分量(a3)的合计中所占的比例为10~32%,自旋-自旋弛豫时间T2是通过在60℃下处理1小时后进行脉冲NMR测定(观测核:1H)而得到的;以及,使用该PVA膜的光学膜的制造方法,该制造方法具备进行单轴拉伸的工序。

Patent Agency Ranking