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公开(公告)号:CN104040654A
公开(公告)日:2014-09-10
申请号:CN201380004680.8
申请日:2013-01-17
Applicant: 日立金属株式会社
IPC: H01F41/02 , B22F3/02 , B22F3/24 , B22F9/04 , C22C28/00 , C22C33/02 , C22C38/00 , H01F1/057 , H01F1/08
CPC classification number: H01F1/0536 , B22F3/003 , B22F3/24 , B22F3/26 , B22F9/023 , B22F2003/248 , B22F2207/01 , B22F2207/20 , C22C28/00 , C22C30/00 , C22C38/00 , C22C38/001 , C22C38/002 , C22C38/005 , C22C38/06 , C22C38/10 , C22C38/16 , C22C2202/02 , H01F1/0577 , H01F7/02 , H01F41/0293
Abstract: 本发明的R-T-B系烧结磁体的制造方法包括:准备R-T-B系烧结磁石体的工序,上述R-T-B系烧结磁石体由稀土元素的含量定义的R量为31质量%以上、37质量%以下;准备RH扩散源的工序,上述RH扩散源含有重稀土元素RH和30质量%以上、80质量%以下的Fe,重稀土元素RH为Dy和Tb中的至少一种;使上述烧结磁石体和上述RH扩散源能够相对移动并且能够接近或者接触地装入处理室内的工序;和一边使上述烧结磁石体和上述RH扩散源在上述处理室内连续或者间断地移动,一边将上述烧结磁石体和上述RH扩散源加热到700℃以上、1000℃以下的处理温度的RH扩散工序。
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公开(公告)号:CN101981634B
公开(公告)日:2013-06-12
申请号:CN200980111185.0
申请日:2009-03-30
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: C22C38/16 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , C22C33/0278 , C22C38/001 , C22C38/002 , C22C38/005 , C22C38/10 , C22C2202/02 , H01F1/0571 , H01F1/0573 , H01F1/0577 , H01F41/0273 , B22F9/04 , B22F3/02 , B22F3/10 , B22F2202/05
Abstract: 本发明的R-T-B系烧结磁体具有R:27.3质量%以上29.5质量%以下、B:0.92质量%以上1质量%以下、Cu:0.05质量%以上0.3质量%以下、M:0.02质量%以上0.5质量%以下、T:剩余部分、氧含量0.02质量%以上0.2质量%以下的组成。烧结磁体的主相是R2T14B型化合物,主相的结晶粒径以相当于圆的直径计为8μm以下,并且4μm以下的结晶颗粒所占的面积率为主相整体的80%以上。
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