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公开(公告)号:CN101415554A
公开(公告)日:2009-04-22
申请号:CN200780011615.2
申请日:2007-03-16
Applicant: 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: B29C39/18 , B29C39/20 , B29C2035/0833
Abstract: 提供能够再利用支撑膜、进一步实现树脂基板的高品质化、并且能够廉价地制造具有平坦且平滑表面的树脂基板的连续制造方法。一种树脂基板的连续制造方法,其包括:向传送的下部支撑膜上供给光固化性组合物[I]的工序、在该光固化性组合物[I]上层压与下部支撑膜在相同的方向上传送的上部支撑膜的工序、以及向光固化性组合物[I]照射活性能量射线使其固化的工序,其特征在于,下部支撑膜和上部支撑膜中的至少1个是将光固化性组合物[II]进行固化而得到。
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公开(公告)号:CN101091128A
公开(公告)日:2007-12-19
申请号:CN200580045153.7
申请日:2005-12-19
Applicant: 日本合成化学工业株式会社
CPC classification number: C08J5/18 , C08J2329/04 , G02B5/3033 , Y10T428/24942 , Y10T428/261 , Y10T428/2969 , Y10T428/31725
Abstract: 本发明提供相关长度为200nm或以下的聚乙烯醇薄膜,相关长度由使用波长为633nm的He-Ne激光器作为光源的光散射测量结果得到。
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