制冷装置
    43.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1934397A

    公开(公告)日:2007-03-21

    申请号:CN200580008658.6

    申请日:2005-03-09

    Abstract: 将基准运转条件下的制冷循环的低压和放热器出口处的制冷剂温度分别设为基准低压和基准制冷剂温度,将在基准运转状态下制冷循环的性能系数最高时的制冷循环的高压设为基准高压。另外,将基准低压下的饱和气体制冷剂的密度设为ρ1,将基准高压及基准制冷剂温度下的制冷剂的密度设为ρ2,将使基准高压及基准制冷剂温度下的制冷剂绝热膨胀至基准低压后的制冷剂的密度设为ρ3,将压缩机的压缩室刚与吸入侧隔断后该压缩室的容积设为v1,将压缩机与膨胀机的转速比设为r。在膨胀机(60)中,刚与流入侧隔断后第一流体室(72)的容积v2设定为v2=ρ1·v1·r/ρ2,即将与流出侧连通时第二流体室(82)的容积v3设定为v3=ρ2·v2/ρ3。

    涡旋流体机械
    44.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1898472A

    公开(公告)日:2007-01-17

    申请号:CN200480034936.0

    申请日:2004-11-29

    Abstract: 本发明公开了一种涡旋流体机械。包括将涡旋状涡卷(24)设置在镜板(23)的固定涡旋盘(21)及可动涡旋盘(22)。在涡卷(24)前端的凹部设置有调整涡卷(24)和镜板(23)之间的间隙量的高分子调节器(40)。高分子调节器(40)通过在涡卷(24)的高度方向上发生形状变化来调整间隙量。高分子调节器(40)兼作镜板(23)和涡卷(24)之间的密封部件。另一方面,将凹部形成为凹部和涡卷(24)的内周面的厚度、与凹部和涡卷(24)的外周面的厚度不同。

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