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公开(公告)号：CN104808410B
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201510264725.6
申请日：2015-05-22
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1362 , H01L27/32
CPC分类号： G02F1/133512 , G02F2201/52 , G06F3/147 , H01L27/1292 , H01L27/3218 , H01L27/3272 , H01L51/5284
摘要： 本发明公开了一种显示面板和显示装置，属于显示技术领域。所述显示面板包括像素阵列基板和对向基板，所述像素阵列基板包括像素阵列和基板，所述像素阵列设置在所述基板上；所述像素阵列包括多列子像素，任意两列相邻的子像素之间设置有遮光墙；所述遮光墙的第一长度小于所述像素阵列基板与所述对向基板之间的间距，所述第一长度是指沿垂直于所述基板的方向的长度。本发明通过在像素阵列基板上任意两列相邻的子像素之间设置遮光墙，该遮光墙能对子像素进行遮挡，减小显示面板的可视范围，达到防窥的目的。遮光墙沿垂直于基板方向的第一长度小于像素阵列基板与对向基板之间的间距，设置遮光墙不会增加显示面板的厚度，也不会增加显示设备的厚度。
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公开(公告)号：CN108417612A
公开(公告)日：2018-08-17
申请号：CN201810438540.6
申请日：2018-05-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明实施例提供一种显示装置及其制备方法，涉及显示技术领域，可在降低外界环境光反射的基础上，减小显示装置的厚度。一种显示装置，包括衬底和设置在所述衬底上的发光层，所述发光层包括多个子像素，还包括设置于所述发光层靠近显示面一侧的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括多个色阻单元，所述多个色阻单元中的每个在所述发光层上的正投影覆盖所述多个子像素中的一个；其中，所述多个色阻单元中的每个色阻单元从其边缘到中心，沿垂直于所述衬底所在面的方向，厚度逐渐增大。
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公开(公告)号：CN107731754A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201710993440.5
申请日：2017-10-23
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种有机电致发光显示面板及制备方法、显示装置，本发明提供的有机电致发光显示面板，通过在衬底基板与多个显示器件之间设置至少包括上窄下宽的凸起部的刻蚀层，该凸起部的上表面位于衬底基板显示区内，位于衬底基板显示区边缘的所有显示器件均延伸出凸起部，并且设置无机膜在延伸出凸起部的显示器件的尖端处断开，这样可以阻止OLED显示面板切割时或者搬送过程中产生的裂纹传导至显示区，从而避免显示器件受水氧影响而失效，提高产品的信赖性。
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公开(公告)号：CN107564854A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201710735718.9
申请日：2017-08-24
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开一种OLED背板制作方法，其包括以下步骤，在玻璃基板上形成半导体层并进行图案化工艺；在半导体层上依次形成栅极绝缘层、栅极层、层间绝缘层、源漏金属层和平坦层；对层间绝缘层的位于源漏金属层覆盖范围之外且位于平坦层覆盖范围之外的部分进行刻蚀，并在层间绝缘层的对应于位于平坦层覆盖范围之外的源漏金属层边缘的部分刻蚀形成底切结构；在平坦层以及位于平坦层覆盖范围之外的层间绝缘层和源漏金属层上形成像素电极，像素电极的位于平坦层覆盖范围之外的部分被底切结构断开；进行光刻工艺；进行光刻胶剥离。本发明能够改善现有OLED产品制作工艺中因银残留而导致的显示不良，同时具备与现有OLED产品的其他工艺的较佳的兼容性。
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公开(公告)号：CN104538356B
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201510007956.9
申请日：2015-01-07
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L21/77 , H01L21/28 , H01L21/768 , H01L27/12
摘要： 本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，用以简化制作工艺，降低生产成本。所述方法包括在衬底基板上制作栅极、栅极绝缘层、有源层、源漏极、钝化层和有机绝缘层，该方法还包括：在有机绝缘层上沉积多层金属层；在多层金属层上涂覆光刻胶，使用掩膜板对光刻胶曝光、显影，形成光刻胶完全去除区、光刻胶部分保留区以及光刻胶完全保留区；光刻胶部分保留区对应形成阵列基板周边引线的区域，光刻胶完全保留区对应形成像素电极的区域；对光刻胶完全去除区、光刻胶部分保留区以及光刻胶完全保留区进行刻蚀，形成像素电极和阵列基板周边引线。
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公开(公告)号：CN104600030B
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201510053343.9
申请日：2015-02-02
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，所述阵列基板包括依次设置在衬底基板上方的第一图案层和第二图案层，所述第一图案层和所述第二图案层之间设置有有机绝缘层；所述第一图案层包括薄膜晶体管的栅极、栅线、以及数据线，所述栅极与所述栅线相连，所述数据线被所述栅线断开，且所述数据线与所述栅线绝缘间隔；所述第二图案层包括所述薄膜晶体管的源极和漏极、以及连接部，所述源极与所述数据线相连，每条所述数据线均对应有所述连接部，每个所述连接部均用于连接所述数据线位于所述栅线两侧的部分。本发明能够减小源漏极与栅极的寄生电容、减小栅线和数据线的交叠电容，从而减小信号延迟，降低功耗，改善残像现象。
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公开(公告)号：CN106681564A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201710011266.X
申请日：2017-01-06
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G06F3/041
CPC分类号： G06F3/0414
摘要： 本申请公开了一种压力触控装置及显示装置，用以应用摩擦发电原理实现压力触控，从而可以不采用力度传感器实现压力触控，简化产品结构、节省成本，并且能提高压力触控灵敏度。该装置包括相对设置的下基板和上基板，上基板包括第一金属电极和高分子绝缘层，下基板包括第二金属电极，第二金属电极与高分子绝缘层相对设置，下基板和上基板之间设置有弹性支撑柱，在对下基板和上基板施加压力时，弹性支撑柱发生形变，使得高分子绝缘层和第二金属电极相接触，在不受外力的状态下，弹性支撑柱恢复正常形状，使得高分子绝缘层和第二金属电极之间不接触，第一金属电极和第二金属电极中的一金属电极接地，另一金属电极通过导线连接集成电路IC。
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公开(公告)号：CN106206429A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610804271.1
申请日：2016-09-05
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明提供了一种阵列基板的制备方法，在基板上形成有源区材料层；在有源区材料层上形成源漏极材料层；采用灰阶掩膜板执行一次构图工艺，使源漏极材料层形成包括数据线的图形以及使有源区材料层形成位于源漏极材料层形成的图形下方的第一区域和位于第一区域外侧的第二区域；在形成有数据线、第一区域和第二区域的基板上形成栅绝缘层；在栅绝缘层上形成栅极材料层，采用一次构图工艺使成栅极材料层形成栅极的图形，且使栅极与第二区域的作为有源区的部分相对应；使第二区域的位于栅极两侧的区域导体化，用以将有源区分别与数据线、像素电极电连接；在形成有栅极的基板上形成像素电极。可减少一次掩膜工艺，使得工艺简单且降低生产成本。
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公开(公告)号：CN105068343A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201510271565.8
申请日：2015-05-25
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1335
CPC分类号： G02F1/136209 , G02F1/133514 , G02F1/136286
摘要： 本发明公开了一种显示基板和显示装置，其中该显示基板包括：衬底基板，衬底基板上方形成有薄膜晶体管，薄膜晶体管的上方形成有黑矩阵图形，黑矩阵图形限定出红色子发光区域、绿色发光区域和蓝色发光区域；红色发光区域内形成有红色色转换图形和位于红色色转换图形上方的红色滤光图形；绿色发光区域内形成有绿色色转换图形和位于绿色色转换图形上方的绿色滤光图形。本发明的技术方案可最大程度的减少在滤光过程中背光亮度的损耗，实现低功耗彩色显示。此外，本发明的技术方案通过在黑矩阵与薄膜晶体管和信号走线之间分别形成支撑图形，从而可减小黑矩阵对薄膜晶体管和信号走线的影响。
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公开(公告)号：CN104659108A
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201510122620.7
申请日：2015-03-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/336 , H01L27/12 , H01L21/77
摘要： 本发明公开了一种薄膜晶体管及制作方法、阵列基板、显示面板、显示装置，用以增加薄膜晶体管的宽长比，提高开口率。所述薄膜晶体管包括衬底基板、位于所述衬底基板上的栅极、栅极绝缘层、半导体有源层和源极、漏极，其中，所述衬底基板为具有突起的衬底基板，所述突起的位置与需要制作半导体有源层的位置对应。
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