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公开(公告)号：CN209364389U
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201822188637.4
申请日：2018-12-25
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
IPC: B24B53/017
Abstract: 本实用新型提供一种可调节抛光垫面型的抛光垫修整器，包括修整器本体、修整丸片以及连接件，修整器本体的圆周方向设有若干放置孔，修整丸片的侧壁下方设有外螺纹，连接件包括套管、环形凸台以及弹性脚片。本实用新型提供的可调节抛光垫面型的抛光垫修整器，可根据工艺需求将修整丸片可选择的放置在放置孔内，进而对抛光垫进行修整，可实现多种抛光面型的修整，减少不同规格的修整器投入，有效控制成本。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN209062825U
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201821740716.5
申请日：2018-10-26
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型公开了一种外台阶平面研磨机，包括安装座，在安装座上设有安装板，所述安装板上安装有驱动电机，驱动电机通过减速机与转轴的顶端连接，在转轴的底部连接有研磨盘，且转轴和研磨盘可在驱动电机的带动下做自转运动；在安装座的中心设有导向口，转轴的底端穿过导向口与研磨盘连接，所述转轴的外圆周面与侧方的导向口内壁滚动摩擦，安装板、以及安装板上的驱动电机和减速机可在滚动摩擦力的作用下以安装座的圆心为中心沿导向口的内壁做公转运动；所述研磨盘包括圆柱形主体，圆柱形主体的顶部与转轴的底端连接固定，在所述圆柱形主体的底部通过开设开口构成圆环结构，圆环结构用于研磨外台阶面。
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公开(公告)号：CN208246555U
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201820338366.3
申请日：2018-03-13
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
IPC: B24B37/00 , B24B37/005 , B24B37/34 , B24B57/00
Abstract: 一种研磨抛光机，包括，机架；置于机架上的桌面；安装在桌面上的气缸支架；垂直安装在气缸支架上的至少3个气缸；每个气缸运动部安装的压力盘；压力盘下方的桌面上，安装有可被电机驱动旋转的研磨盘；在研磨盘的边缘处至少安装有3个导轮臂；导轮臂的两端各有一个导轮；安装在机架一侧的控制显示器；桌面下方机架内用于收集研磨液的抽屉。本实用新型通过在研磨抛光机机架内设置用于收集研磨废液的抽屉，解决现有研磨抛光机收集废液费事并且不安全的问题。
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公开(公告)号：CN208084148U
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201820338634.1
申请日：2018-03-13
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
IPC: B24B53/12
Abstract: 一种抛光布修整盘，该抛光布用于研磨抛光，修整盘包括，圆形基座；多个位于圆形基座表面的形状如圆钉的丸片；丸片表面的金刚石颗粒。丸片沿着修整盘周缘至少排列成1圈。丸片采用螺栓与圆形基座固定连接。由于丸片与基座比较容易拆卸分离和替换，方便了对于修整盘的修理，对于很容易损耗的抛光布修正盘，极大降低了其使用成本。
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公开(公告)号：CN208084106U
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201820338612.5
申请日：2018-03-13
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 一种用于研磨抛光设备的修整环，该修整环包括环体和研磨体，研磨体由多个圆柱体组成，圆柱体的端面与环体的端面紧固连接，圆柱体均匀对称分布在所述环体的端面上，圆柱体采用陶瓷材料制成，环体是金属材料制成。通过为研磨抛光机提供的圆柱形陶瓷修整环，利用圆柱体与圆柱体之间的较大的圆滑空间，更加利于研磨液的研磨盘上的流动，使得研磨液在研磨盘上分布更加均匀，提高了工件平整度的研磨效果。
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公开(公告)号：CN217263212U
公开(公告)日：2022-08-23
申请号：CN202220519163.0
申请日：2022-03-09
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
IPC: B65G47/91
Abstract: 本实用新型提供一种真空吸附转接垫片，其结构包括：主体和晶圆，主体与真空吸盘为一体化结构，转接垫片安装于真空吸盘上端；本实用新型由转接垫片进一步改进后可通过使用转接垫片时，可直接更换转接垫片后即可进行使用更换后的垫片与真空吸盘进行相互配合，从而通过达到更换垫片即可使一个真空吸盘完成对各种尺寸晶圆的吸附，同时外层所装有的辅助软体效果能够有效的减缓晶圆的滑动性能，并且根据吸头与真空吸盘的相互配合下能够同一时间进行运行，使在抽气过程中保持平衡效果，进而达到均匀吸气的效果，从而能够有效的解决了光滑晶圆在转接垫片上产生的容易打滑现象，并且能够均匀的将晶圆进行吸气，防止抽气不平衡导致的晶圆受损。
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公开(公告)号：CN215046938U
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202120444316.5
申请日：2021-03-02
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
IPC: B65G49/07 , B24B37/34 , B24B29/02 , H01L21/304
Abstract: 本实用新型适用于半导体加工技术领域，提供了一种带定位槽设计的真空吸盘及上下料托盘，包括真空吸盘以及与所述真空吸盘相卡接配合的用于上下料的托盘，所述托盘上设置有定位柱与所述真空吸盘上的槽口相对应用于两者卡接时的定位，所述真空吸盘与所述托盘均设置按照等边三角形分布有三个用于晶片吸附的位置；通过设置真空吸盘上加工有用于定位的槽口与托盘上加工有用于定位的定位柱相插接配合，实现真空吸附区域和晶片的准确定位，实现整盘晶片的精确定位的上料或下料操作；真空吸盘与托盘均设置按照等边三角形分布有三个用于晶片吸附的位置，可以在使用真空吸盘吸附加工晶片时，对多个晶片进行操作，实现多个晶片的上下料，提高了工作效率。
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公开(公告)号：CN212886983U
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN202021717381.2
申请日：2020-08-15
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型公开了一种工件可以完成整周转动的单面研磨工装，包括支撑座、中心杆、研磨盘、左铰杆、限位杆、右铰杆、滚轮、上盖和行星齿轮驱动机构，所述支撑座顶端装设有研磨盘，所述支撑座中心设有中心杆，所述左铰杆铰接安装于限位杆上，本实用新型通过优化设置了行星齿轮驱动机构，将上盖取下，并将相应零件置于行星齿轮驱动机构上的零件槽上，在工装上方对应位置设置摩擦位，在工装内利用行星齿轮驱动的装置周边为齿轮状，与零件接触产生摩擦力带动零件的旋转，使用效果好。
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公开(公告)号：CN210849869U
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201921720227.8
申请日：2019-10-11
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
IPC: B24D13/02
Abstract: 本实用新型公开了一种抛光机的陶瓷抛光盘，包括侧包边环、紧固口、隔空腔、防护外体、嵌环、防护内体、转体和抛光盘外体，该抛光机的陶瓷抛光盘，通过在抛光盘外体内部优化设置了防护内体，内部设置防护内体，由第一倾斜缓件、第二倾斜缓件、竖直缓件等间距设置于内部，包体受力主要传递给软壳，软壳进而内收通过衔接块挤压弹簧，弹簧杆插入支撑T件配合缓压，多个同第二倾斜缓件相同结构的第一倾斜缓件、竖直缓件在抛光盘转动的过程中均布压力，内部受力均匀，增强打磨抛光接触效果。
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公开(公告)号：CN210849812U
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201921721815.3
申请日：2019-10-11
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型公开了一种抛光机的陶瓷抛光盘水冷基座，包括基座体、边口、抛光盘、进水管、出水管、第一水冷槽、水冷回路、第一接管、分回路、第二水冷槽、第二接管、第三回路和第三水冷槽，该抛光机的陶瓷抛光盘水冷基座通过优化整体结构，第一水冷槽上设置了水冷回路进行循环冷却，水冷回路与分回路结构相同，固定脚用于固定安装架设，回路主体与第一增环、第二增环、第三增环形成完整连续回路进行循环降温，基座体为陶瓷制成，受热变形小，优化整体容易因温度产生较大形变的缺点，提升整体使用效果，水冷基座整体的水冷降温效果好。
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