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公开(公告)号：CN101828155A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200880111744.3
申请日：2008-10-08
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司
Inventor： 斯特凡·布施纳科斯基 , 托比亚斯·米特 , 斯文-马蒂亚斯·沙伊贝
IPC: G05B19/418
CPC classification number: G05B19/4185 , G05B2219/31083 , G05B2219/31129 , G05B2219/31211 , G05B2219/37494 , Y02P90/18
Abstract: 本发明涉及一种具有大量智能传感器(2.1……2.n)的过程自动化系统，其中每一传感器(2.1……2.n)用于确定或监控介质(6)的一个物理或化学过程变量并且各自具有一个初级侧插塞连接件(3.1……3.n)和一个带有传感元件的次级侧插塞连接件(4.1……4.n)，其中两个插塞连接件(3.1……3.n；4.1……4.n)之间通过可释放的插塞联接器(7.1……7.n)实现能量供应和数据通信，其中为每一传感器(2.1……2.n)分配一个网络服务接口(8.1……8.n)，传感器(2.1……2.n)通过该网络服务接口可连接至广域网(WAN)或局域网(LAN)，其中提供控制单元(10)或服务器，其提供至少一个用于生成虚拟变送器(VM)的软件，并且其中虚拟变送器(VM)和传感器(2.1……2.n)之间的通信是通过网络服务接口(8.1……8.n)实现的。
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公开(公告)号：CN101111760A
公开(公告)日：2008-01-23
申请号：CN200580047660.4
申请日：2005-11-25
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司
Inventor： 洛塔尔·奥尔斯瓦尔德 , 克里斯蒂安·范泽洛
IPC: G01N27/28 , G01N27/333
CPC classification number: G01N27/283 , G01N27/36
Abstract: 具有传感器轴(10)的电位传感器的适配器，在传感器轴外壳表面具有参考液体开口(9)，该适配器包括环室体(1)，该环室体具有用于容纳传感器轴的传感器开口，其中在传感器开口内安排了对于传感器轴的第一和第二密封环，参考液体开口的轴向位置位于第一和第二密封环间，其中在密封环和传感器轴间构成环室，该环室与参考液体开口相连通，并且环室体还包括延伸于环室和参考输送开口间的通道，由此其特征在于，该适配器此外还包括过程连接体(7)，该过程连接体具有过程连接开口，该过程连接开口围绕传感器轴并且它的轴对准传感器开口轴，其中过程连接体的轴向位置相对于环室体固定，并且过程连接体相对于环室体可自由转动。
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公开(公告)号：CN1882830A
公开(公告)日：2006-12-20
申请号：CN200480033227.0
申请日：2004-10-28
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司
Inventor： 沃夫冈·巴贝尔 , 托尔斯滕·佩希施泰因 , 托马斯·施特肯赖特
IPC: G01N27/414
CPC classification number: G01N27/414
Abstract: 本发明的传感器布置包括：至少两个样本腔(9)；至少两个电位测量FET传感器(10)，特别是IsFET传感器或ChemFET传感器，其各自具有敏感表面部分(2)，其中每一敏感表面部分与一个样本腔流动连接；和参考室，其具有用于提供参考电位的参考介质，其中样本腔经由电解液桥与参考介质相连。优选地，参考室具有用于提供参考电位的电位测量参考FET传感器(12)，其检测电位偏移电极的伪参考电位。相对于伪参考电位确定在样本腔中的N个FET传感器的电位Udiff1、Udiff2、……UdiffN，并且通过在相关电位和参考电位之间的差确定与测量变量相关的电位差UpH1...N＝Udiff1...N－Udiffref。
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公开(公告)号：CN104215752B
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201410317167.0
申请日：2014-05-28
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司
CPC classification number: G01N33/5308 , C12Q1/00 , C12Q3/00
Abstract: 自动确定至少两个不同过程参数的装置。本发明涉及一种用于自动确定过程尤其是生物过程的过程液体的至少两个不同过程参数的装置，包括：第一测量元件，所述第一测量元件被实现以提供依赖于过程液体的第一样品的第一过程参数的第一测量信号；第二测量元件，所述第二测量元件被实现以提供依赖于过程液体的第二样品的第二过程参数的第二测量信号；控制和评估系统，所述控制和评估系统用于监视和/或控制过程，并且被实现来接收和处理第一和第二测量信号，尤其是基于第一检测信号来确定第一过程参数的测量值以及基于第二测量信号来确定第二过程参数的测量值；其中，第一测量信号和第二测量信号在过程的监视和/或控制的环境中用于不同的功能。第一过程参数是过程的控制参数(关键过程参数CPP)，第二过程参数是过程的产品质量参数(关键质量属性CQA)。
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公开(公告)号：CN103018307B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201210350680.0
申请日：2012-09-19
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司
IPC: G01N27/40
CPC classification number: B29C47/0021 , B01D69/02 , B01D69/06 , B01D69/141 , B01D69/148 , B01D2325/48 , B29C39/00 , B29C47/065 , B29K2105/0011 , B32B27/00 , B32B27/08 , B32B27/20 , B32B27/286 , B32B27/302 , B32B27/308 , B32B27/36 , B32B27/38 , B32B27/40 , B32B2264/105 , B32B2307/7145 , B32B2307/752 , B32B2457/00 , G01N27/40 , Y10T156/10
Abstract: 本发明涉及膜和具有膜的传感器。具体地，本发明涉及一种膜，尤其是用于传感器中的应用的膜，所述膜具有杀生物效果。所述膜含有一种或多种如下组分：封装在两亲性壳核结构中的银纳米粒子、抗菌性硅烷、具有抗菌端基的聚合物、具有改性端基的聚季铵盐和杀生物作用的嵌段共聚物。所述膜对侵蚀剂具有耐性，如在消毒情况下、在高压蒸气情况下、在热负荷情况下和/或在机械负荷情况下对腐蚀性或氧化性清洁剂具有耐性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102971622B
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201180033263.7
申请日：2011-06-20
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司
IPC: G01N27/403
CPC classification number: G01N27/4161 , G01N27/36 , G01N27/4035
Abstract: 本发明涉及一种用于测量容纳在容器中、特别是可丢弃生物反应器内的介质的测量变量的电位探针，包括：壳体（1）；该壳体（1）包括第一腔室（5），在第一腔室（5）内形成参比半电池，所述电池借助设置在壳体（1）的壁中的电解质接触点（7）与壳体（1）周围的介质连接，其中壳体（1）包括第二腔室（9），在第二腔室（9）内形成测量半电池，其中第二腔室（9）在一端由测量膜（11）封闭，使得测量膜的背向第二腔室（9）的表面与围绕壳体（1）的介质接触，并且其中测量半电池包括在测量膜（11）与在与测量膜（11）相对放置的一侧上界定测量半电池的封闭元件（18）之间的纵向延伸，其特征在于，测量膜（11）距封闭元件（18）的间距（h）与壳体（1）的外直径（rA）的商小于5，特别是小于2。
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公开(公告)号：CN102313572B
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：CN201110180080.X
申请日：2011-06-24
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司
Inventor： 托马斯·施特肯赖特 , 汉斯-彼得·勒斯勒尔
Abstract: 本发明涉及一种用于调整过程分析技术中的测量设备的方法，其中，测量设备(1)局部地远离执行参考测量的参考测量设备(6)，其中比较测量设备(1)的测量值与参考测量设备(6)的参考值，并且由该比较推导出至少一个用于测量设备(1)的调整变量。为了能够非常快速且不中断测量设备工作过程地执行调整方法，测量设备(1)的测量值和参考测量设备(6)的参考测量值在中央数据采集和处理软件(4)中结合，由中央数据采集和处理软件(4)测定调整值并随后将调整变量从中央数据采集和处理软件(4)传送到测量设备(1)以调整测量值。
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公开(公告)号：CN105973295A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201610136188.1
申请日：2016-03-10
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司
IPC: G01D21/02
CPC classification number: G01F9/001 , G01F1/6847 , G01F1/69 , G01N21/00 , G01N27/4166 , G01D21/02
Abstract: 管线内测量装置。一种用于捕获流过过程容器的测量介质尤其是测量流体的至少两个被测变量的管线内测量装置，包括：第一测量传感器，集成到过程容器中并被设计为产生第一测量信号，该第一测量信号依赖于流量被测变量、尤其是测量介质的体积流量和/或质量流量；第二测量传感器，其集成到过程容器中并被设计为产生第二测量信号，该第二测量信号依赖于分析被测变量、尤其是依赖于在测量介质中的至少一种分析物的浓度；以及测量电子设备，其与第一测量传感器和第二测量传感器连接，其中测量电子设备被设计为接收和处理第一测量信号和第二测量信号。
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公开(公告)号：CN105892419A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201511036020.5
申请日：2015-12-03
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司
IPC: G05B19/418
CPC classification number: G05B19/05 , G05B19/0423 , G05B2219/1134 , H04W4/80 , G05B19/4185 , G05B2219/31124
Abstract: 本发明涉及用于自动化技术中的系统。用于自动化技术中的系统(1)，包括：现场设备(2)，其用于测量和/或控制过程变量；服务器(3)，其与现场设备(2)连接，所述服务器(3)保持关于与服务器(3)连接的现场设备(2)的使用清单(4a)，其中使用清单(4a)包含建立与现场设备(2)连接所要求的关于现场设备(2)的信息(5)；操作员设备(6)，其带有不少于一个第一通信接口(7)；其中第一通信接口(7)可用于建立与服务器(3)的连接，以便检索使用清单(4a)和建立在操作员设备(6)上的连接所需的信息(5)，使得能够根据信息(5)建立在操作员设备(6)和使用清单(4a)中所列的现场设备(2)之间数据连接。
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公开(公告)号：CN102346049B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201110161156.4
申请日：2011-06-09
Applicant: 恩德莱斯和豪瑟尔测量及调节技术分析仪表两合公司
CPC classification number: G05B19/401 , G05B2219/35481 , G05B2219/37008 , G05B2219/37085
Abstract: 本发明涉及一种用于在自动化技术，特别是在过程分析技术中安全地校准和/或调整测量设备的测量变量的方法，在应用这种方法时校准结果或调整值被测定并显示在显示器(3)上。为了保证测量设备的测量变量的可靠调整或者校准，校准结果或调整值将多次显示在显示器(3)的随机位置上，其中在所有显示的校准结果或调整值一致的时候由测量设备(1)的使用者进行确认。
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