一种图形化精细导电薄膜及其制作方法

    公开(公告)号:CN106448825A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201610917067.0

    申请日:2016-10-21

    Abstract: 本发明公开了一种图形化精细导电薄膜,其包括基底和图形化精细电极,图形化精细电极放置于基底上或嵌入到基底中,图形化精细电极的电极的宽度在50nm-10μm之间,高度在10nm-10μm之间,表面粗糙度在0.1nm到100nm之间。本发明同时还公开了一种图形化精细导电薄膜的制作方法。本发明实现具有精细、高透过率、低方阻、高绕曲性能的图案化电极;不存在刻蚀工艺,绿色环保,电极分辨率能达到100nm,操作简单,适合大面积、低成本生产,可以用于触控屏,太阳能电池,LCD显示,OLED显示,QLED显示等应用领域。

    一种波导器件及三维显示装置

    公开(公告)号:CN106443867A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201610996894.3

    申请日:2016-11-09

    Abstract: 本发明公开了一种波导器件,包括至少一个波导器件单元,每个波导器件单元均包括波导本体,所述波导本体为矩形横截面的平板波导或条形波导或曲面波导,所述波导本体的上表面为出光面,在所述出光面表面或波导本体内部设置有成组的纳米光栅,所述纳米光栅对光具有会聚作用,将通过波导本体全反射而来的光会聚于出光面上方空间中,形成至少一个视点。采用本发明的技术方案,则可以构筑由多层波导器件单元叠加为多层(两层及两层以上)复合型指向性导光板,进而采用分频控制各层依次照明的方式,通过提高显示频率的方法增加显示信息量,提升的显示信息量可以用于多视角的视差三维显示,亦可用于多焦点多景深的深度三维显示,还可用于多视角多焦点混合的真三维显示领域。并由此构建裸眼3D显示装置。

    实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统

    公开(公告)号:CN105511074A

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201610004778.9

    申请日:2016-01-06

    Applicant: 苏州大学

    CPC classification number: G02B27/00 G03F7/7045

    Abstract: 本申请公开了一种实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统,该光场调制系统包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组,4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件,光波调制光学元器件组设置于第一光学组件和第二光学组件之间,该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制,在系统的后焦面产生图案及结构参数可调的光场分布。本发明通过子元件实现对子波面的分立、实时调控,通过改变子元件组合方式可实现不同微纳米图案的实时输出,通过子元件的位置或子元件间相对位置变化可实现结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中,实现变参量微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。

    一种投影式裸眼3D显示装置及其彩色化显示装置

    公开(公告)号:CN105425409A

    公开(公告)日:2016-03-23

    申请号:CN201610034105.8

    申请日:2016-01-19

    Abstract: 本发明公开了一种投影式裸眼3D显示装置及其彩色化显示装置,该3D显示装置包括指向性光源,包括矩形导光板和光源组,光源组设置于所述矩形导光板的至少一个侧面上;投影装置,包括显示芯片和投影镜头,显示芯片将获取的光源与多视角图像信号调制后由投影镜头放大;指向性投影屏幕,其设置于投影镜头的出光端,将入射的视角图像信号进行位相调制后在指向性投影屏幕的正前方形成会聚视点,获得裸眼3D显示。本发明相较于现有技术,指向性投影屏幕提供空间位相调制,液晶芯片提供视角图像振幅调制,二者结合,具备了全息显示的全部信息,不易产生视觉疲劳,也没有距离限制,而且通过投影镜头放大成型,实现大幅面的裸眼3D显示。

    一种并行激光直写系统及光刻方法

    公开(公告)号:CN103777474B

    公开(公告)日:2016-03-23

    申请号:CN201410076822.8

    申请日:2014-03-04

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 一种并行激光直写系统及光刻方法,通过设置两个或多个图形发生器,将不同的图形发生器按不同的角度放置,使得每个角度的斜线都能通过对应图形发生器中的水平或垂直直线像素进行显示,从而消除了原有的斜线上的锯齿现象,并保证了直线和斜线之间的线宽相等,提高了图形的线宽均匀性,使得光刻工艺的精度和品质得到改善。

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