用于滤色片的二向色染料、包含该染料的用于滤色片的组合物以及由该组合物制备的滤色片阵列

    公开(公告)号:CN101501145A

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200780029808.0

    申请日:2007-11-23

    Inventor: 赵镛一 金信英

    Abstract: 本发明提供了一种新的具有液晶性质、二向色性质和可聚合活性的二向色染料;一种包含所述二向色染料的用于滤色片的组合物;一种由所述组合物制备的滤色片阵列板(上板)以及一种包括所述滤色片阵列板的液晶显示器,所述二向色染料用于形成具有极佳的如二色性比、耐热性、耐久性、高对比度和偏振性的物理性质的滤色片层。所述二向色染料具有R1-L1-M-L2-D的结构(其中,D为二向色结构,M为具有液晶性质的结构,R1为活性末端官能团,以及L1和L2为连接R1、M和D的连接结构),并且所述用于形成滤色片层的组合物包含所述二向色染料。而且,本发明提供了包括由本发明的组合物形成的滤色片层的滤色片阵列板以及包括所述滤色片阵列板而不需要上取向膜和/或偏振板的液晶显示器。所述滤色片阵列板和包括该阵列板的液晶显示器具有极佳的如耐久性、偏振度、分辨率和对比度的物理性质。

    掩模和包括该掩模的滤光器制造设备

    公开(公告)号:CN103703418B

    公开(公告)日:2017-05-24

    申请号:CN201280036229.X

    申请日:2012-07-23

    CPC classification number: G03F1/38 G03F1/50 G03F7/24

    Abstract: 提供一种掩模以及包括该掩模的滤光器制造设备。一种用于在基膜中形成图案的卷对卷工艺的掩模,所述基膜被配置成沿弯曲表面移动,所述掩模包括掩模体,所述掩模体具有被设置成与所述基膜所缠绕的辊相对的弯曲表面以及与所述弯曲表面的相反侧相对应的平表面。所述掩模体的所述弯曲表面被设置成与所述辊的弯曲表面相距预定距离。所述掩模和滤光器制造设备能够实现在所述基膜上形成均匀图案,以提高产品的质量,并精确地获得所述基膜的性质。

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