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公开(公告)号:CN100505350C
公开(公告)日:2009-06-24
申请号:CN200710092912.6
申请日:2007-10-30
Applicant: 重庆大学
Abstract: 本发明公开了一种P型GaN上镉铟氧透明电极的制备方法,其工艺步骤为:1)在P型GaN上以物理气相沉积方式,沉积第一导电层;第一导电层厚度范围2到100埃;2)在第一导电层上以物理气相沉积方式,沉积CdIn2O4透明导电薄膜;3)进行合金化热处理;在步骤1)之后,还可以再沉积一热稳定金属薄膜所构成的第二导电层。本发明的有益技术效果是:该方法解决了CdIn2O4透明导电薄膜在P型GaN上难于获得欧姆接触的问题。
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