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公开(公告)号：CN112987501A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201911303595.7
申请日：2019-12-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种直写光刻系统和直写光刻方法，其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置；运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描，并用于发出参考点的位置数据；中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据；光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光；投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑，并在运动机构的带动下沿预设路径扫描，在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化，形成预设的可控变形光斑。本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻，并提高了光刻精度和光刻效率。
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公开(公告)号：CN110531526B
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN201810513870.7
申请日：2018-05-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/26
Abstract: 本发明涉及显示技术，特别涉及用于实现裸眼三维图像的大视场角三维显示的装置。按照本发明一个方面的大视场角三维显示装置包含：背光板，其配置为将光源发出的光束转换为第一准直光束；位于所述第一准直光束传播方向上的空间光调制器，其配置为通过振幅调制方式将多视角混合图像信息加载到所述第一准直光束上以形成第二准直光束；以及位于所述第二准直光束传播方向上的位相板，其具有衍射结构，所述衍射结构配置为将所述第二准直光束所承载图像中的每个视角的图像投射至各自对应的一组观察位置。
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公开(公告)号：CN119493268A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202311039282.1
申请日：2023-08-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏大维格(盐城)光电科技有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种微透镜阵列离散型放大图像的制作方法及光学成像薄膜，包括：确定图文层中各图文的初始中心点位置及各图文的初始周期；对光学成像薄膜所要呈现的立体图像进行建模，得到立体模型；根据立体模型各点的高度确定立体模型各点的周期；根据各图文的目标周期及各图文的初始中心点位置，对各图文的中心点位置进行调整，获得各图文的目标中心位置；根据各图文的目标周期和微透镜的周期，获得各图文的放大率；制作图文的基准图形，根据预期各显示图形的大小，及对应的各图文的放大率，获得各图文的目标图形；将各图文的目标图形设置在目标中心位置，以形成图文层。
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公开(公告)号：CN118474330A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202310085843.5
申请日：2023-02-07
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: H04N13/305
Abstract: 本申请涉及印刷技术领域，具体公开一种3D集成成像装置及其制备方法。3D集成成像装置包括立体结构层、间隔层及微透镜阵列，间隔层具有预设厚度，立体结构层设置于所述间隔层的一侧表面，所述立体结构层包括复数个微纳结构单元，微透镜阵列设置于所述间隔层远离所述立体结构层的一侧表面，微透镜阵列包括复数个微透镜，所述微纳结构单元与所述微透镜一一对应，所述微纳结构单元的正视图案为目标立体图像分层后，每层图像根据不同景深在所述微透镜下成像的图像的叠加。通过控制间隔层的厚度可以控制微透镜阵列的顶点到立体结构层之间的距离，进而控制像的景深，具有调节再现像的景深效果的功能。
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公开(公告)号：CN114815489A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202110062212.2
申请日：2021-01-18
Applicant: 维业达科技(江苏)有限公司 , 苏州维业达触控科技有限公司 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G03B21/602 , G03B21/60 , G02B3/08 , G02B27/00 , G03F7/00
Abstract: 本发明提供一种投影幕布。所述投影幕布至少包括着色层、扩散层、菲涅尔透镜层中的一层、以及反射层；其中，菲涅尔透镜层为球面菲涅尔透镜层或非球面菲涅尔透镜层，菲涅尔透镜层包括沿着一平面突起的若干环状凸起，所述若干环状凸起以环带排列，且沿着垂直于所述平面的截面，每个环状凸起的截面形状为三角形或多台阶形或自由面形，每个截面形状平行于所述平面的边宽度渐变，截面形状及其宽度的渐变，决定球面菲涅尔透镜层或非球面菲涅尔透镜层的聚光特性；每个环状凸起表面具有散点微结构，反射层为金属层或金属合金层，且其采用电镀、蒸镀、溅射或涂布工艺制备。本发明提供的投影幕布表现出比现有投影幕布具有更高的亮度、以及更大的视角。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113492530A
公开(公告)日：2021-10-12
申请号：CN202010191218.5
申请日：2020-03-18
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本申请涉及一种多材料三维打印清洗装置及方法，与控制器信号连接，包括：清洗机，对目标物进行清洗；输送机构，将清洗剂输送至清洗机；加热风扇，设置在清洗机的一侧；移动机构，与清洗机或基片控制台连接，以驱动清洗机和基片控制台的其中一个可相对于另一个移动；至少一层目标物打印完成后，移动机构驱动清洗机或基片控制台移动以使得清洗剂与目标物接触并对目标物清洗。本发明的多材料三维打印清洗装置与控制器信号连接，无需人工手动清洗，避免人为操作的安全隐患，提高清洗效率；通过设置有输送机构及清洗机，当目标物打印完成后，即刻对目标物进行清洗，避免上层打印材料粘附物体表面对下层材料固化的影响。
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公开(公告)号：CN112799286A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201911115238.8
申请日：2019-11-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台，数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间，旋转工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。
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公开(公告)号：CN112388968A
公开(公告)日：2021-02-23
申请号：CN201910740832.X
申请日：2019-08-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/106 , B29C64/20 , B29C64/264 , B29C64/255 , B29C64/386 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/00
Abstract: 本发明涉及一种3D打印系统及3D打印方法，包括3D打印设备及与3D打印设备信号连接的数据处理装置，数据处理装置向3D打印设备发送图案信息，3D打印设备包括：树脂槽，用以盛放树脂液体；载物台，可伸入至在树脂槽内；移动机构，驱动载物台相对树脂槽移动；光学机构，发出光线以将载物台上方的树脂液体固化成型；其中，光学机构包括光源、DMD光调制器和微缩镜筒，光源发出光线至DMD光调制器，DMD光调制器接收图案信息并调制接收到的光线，微缩镜筒将DMD光调制器调制后的光线缩放并投影至树脂槽内以将载物台上方的树脂液体固化成型。本发明通过数据处理装置、DMD光调制器及微缩镜筒三者之间的配合，可实现高精度的小尺寸模型的快速打印，快捷方便。
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公开(公告)号：CN108790150B
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201710282261.0
申请日：2017-04-26
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/129 , B29C64/321 , B29C64/214 , B29C64/245 , B29C64/264 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 一种3D打印系统，包括进料装置、打印平台和成像装置，进料装置包括透明传送带、第一供料罐和第一刮刀，第一供料罐可将打印材料排放在透明传送带上，第一刮刀的刀刃与透明传送带相对设置，第一刮刀可将打印材料涂刮平整，透明传送带可将打印材料运送至打印平台的表面，成像装置可产生照射打印材料的图案光，使打印材料在打印平台上固化为打印实体。本发明的3D打印系统能逐层涂覆打印材料，能实现多种材料混合打印，对生物应用具有极其重大的意义。本发明还涉及一种3D打印方法。
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公开(公告)号：CN111427238A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201910024774.0
申请日：2019-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种激光直写系统，包括服务器及第一终端，所述服务器上部署有数据处理模块，所述第一终端上部署有用户主程序、套刻对准模块、运动控制模块、曝光计量控制模块及图形发生模块，所述服务器与所述第一终端通过局域网络进行通信连接，所述用户主程序分别与所述套刻对准模块、所述运动控制模块、所述曝光计量控制模块、所述图形发生模块及所述数据处理模块通信连接，且将所述服务器中的数据处理模块的存储硬盘通过局域网络映射到所述第一终端上，以作为所述服务器与所述第一终端的共用存储盘。本发明提供的一种激光直写系统，能够降低软件后期维护的复杂性，并降低数据处理程序过于占用资源的影响，提升用户主程序流畅度。
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