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公开(公告)号：CN105900166A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201580003860.3
申请日：2015-01-07
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: H04N9/3135 , G02B26/10 , G02B26/101 , G02B26/105 , G02B26/123 , G02B26/127 , G02B27/104 , G02B27/30 , G09G3/025 , G09G3/2003 , G09G3/346 , G09G5/395 , G09G2320/08 , H04N9/3155 , H04N9/3164 , H04N9/317
Abstract: 本发明将从光源射出的光束照射到被投影面上的准确的位置。图像投影装置(1)具有：红色激光器(11)；扫描镜部(20)，其具有反射来自红色激光器(11)的光束的扫描镜(21)，通过驱动扫描镜(21)来扫描光束，将图像投影到屏幕(30)上；以及显示控制部(60)，其控制从红色激光器(11)的光束的射出定时。显示控制部(60)基于表示光束相对于扫描镜(21)的位置偏差量、从红色激光器(11)的光束的射出定时、被照射在该射出定时从红色激光器(11)射出的光束的屏幕(30)上的照射位置之间的关系的函数，根据预先得到的位置偏差量的值、和应被照射光束的屏幕(30)上的目标照射位置，决定与目标照射位置对应的光束的射出定时。
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公开(公告)号：CN103299368A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201280004724.2
申请日：2012-01-06
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: G11B7/1263 , G11B7/005 , G11B7/007 , G11B7/126 , G11B7/1267 , G11B7/1392
CPC classification number: G11B7/1263 , G11B7/1376 , G11B7/24065 , G11B7/268 , G11B2007/0006 , G11B2007/0013
Abstract: 一种使用能够进行超分辨率再现的光盘（6）的光盘装置，该光盘装置具有：半导体激光器（1）；激光器驱动电路（21），其向半导体激光器（1）提供驱动电流；受光元件（8），其检测来自光盘（6）的返回光，取得记录数据的再现信号；以及发光光量控制单元（22），其对基于激光器驱动电路（21）的半导体激光器（1）的发光光量进行控制，使得在光盘（6）的信息记录层形成的会聚光斑的峰值强度保持在得到超分辨率效应的峰值强度以上。发光光量控制单元（22）根据光盘（1）的信息记录层处的会聚光斑的峰值强度的下降率D和得到预定再现性能的发光光量的下限值（Pld_L），对基于激光器驱动电路（21）的半导体激光器（1）的发光光量进行控制，其中，所述下降率D是根据与假定的盘片倾斜角和光盘（1）的光透射层厚度对应的彗差求出的。
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公开(公告)号：CN102483937A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201180003552.2
申请日：2011-01-17
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: G11B7/135 , G11B7/09 , G11B7/1374
CPC classification number: G11B7/0903 , G11B7/094 , G11B7/131 , G11B7/1353 , G11B7/13925 , G11B7/1395 , G11B2007/0013
Abstract: 搭载于光盘装置的光学头装置(3)具有衍射光学元件(21)和光检测器(22)。衍射光学元件(21)包含：主衍射区域(210)，其配置在反射衍射光束的0次光成分的一部分和反射衍射光束的±1次光成分入射的位置；以及副衍射区域(211A、211B)，其配置在反射衍射光束的±1次光成分不入射、反射衍射光束的0次光成分的另一部分入射的位置。光检测器(22)的主受光部(23)接收透射过主衍射区域(210)和副衍射区域(211A、211B)的透射衍射光束的0次光成分。副受光部(24、25)接收透射过副衍射区域(211A、211B)的透射衍射光束的+1次光成分和-1次光成分中的至少一方。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101256791B
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200810082217.6
申请日：2008-02-26
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: G11B7/22 , G11B7/1376 , G11B7/13925
Abstract: 提供一种光拾波器装置的调节方法和制造方法、及可以使这些方法实现的光拾波器调节用光盘，可以将准直透镜的光轴方向之外的方向的位移对光检测器的检测信号的影响控制在允许范围内。作为解决手段，光拾波器调节用光盘(30)具有：保护基板(31)；和光拾波器调节用的中间深度信息记录层(32mid)，其形成为光盘标准规定的最大深度信息记录层的深度Dmax和最小深度信息记录层的深度Dmin的中间的深度Dmid。光拾波器装置的调节方法如下，光拾波器装置(10)隔着保护基板(31)向光拾波器调节用光盘(30)的中间深度信息记录层(32mid)照射激光L1，并检测反射激光L2，调节装置(20)根据反射激光L2的检测结果，调节光拾波器装置(10)的光检测器(16)的位置。
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公开(公告)号：CN101828226A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200880111993.2
申请日：2008-08-22
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor： 中井贤也
CPC classification number: G11B7/1369 , G11B7/0909 , G11B7/094 , G11B7/131 , G11B7/1365 , G11B7/1381 , G11B2007/0013
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种能够以简单结构分离提取信号光和杂散光的提取光学系统以及具有该提取光学系统的光学头装置。相位板(20a)和相位板(21a)为+λ/4相位板，相位板(20b)和相位板(21b)为-λ/4相位板。焦线(Fi_L0)表示杂散光(Rs_L0)的焦线，焦线(Fi_L1)表示再现光(R_L1)的焦线，焦线(Fi_L2)表示杂散光(Rs_L2)的焦线。再现光(R_L1)的全部光束在透射相位元件(21)后，成为偏振方向旋转了90度的状态。杂散光(Rs_L0、Rs_L2)的全部光束与再现光(R_L1)的全部光束不同，即使在透射相位元件(21)后，偏振方向也不旋转。
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公开(公告)号：CN101111890B
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200580047610.6
申请日：2005-12-26
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor： 中井贤也
CPC classification number: G11B7/0941 , G11B7/0909 , G11B7/094 , G11B7/0943 , G11B7/131
Abstract: 本发明提供光学装置和使用该光学装置的光盘装置。在基于利用现有的像散法的焦点误差信号的对焦伺服控制中，由于光检测器的受光面上的受光光束的位置偏移、或者因返回光的强度分布的非对称引起的偏差而使焦点误差信号产生误差，存在不能正确地进行对焦伺服动作的课题。本发明利用因返回光的强度分布的非对称引起的偏差来校正根据在光检测器(12)上的切线方向上产生的受光面与受光光束的位置偏移量和物镜(7)的透镜移动量的关系而导出的信号，求出与规定的常数的乘积值，根据从现有的像散法的运算式中减去该运算值所得到的焦点误差信号来进行对焦伺服控制。
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公开(公告)号：CN100375173C
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200410100026.X
申请日：2002-11-29
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: G11B7/1275 , G11B7/082 , G11B7/22 , H01S5/02212 , H01S5/02268 , H01S5/02296 , H01S5/4031 , H01S5/4087
Abstract: 一种半导体激光器单元包括：在激光器束发射方向上被彼此相互平行设置的多个半导体激光器元件；以及一个用于定位且固定所述多个半导体激光器元件的底座。所述多个半导体激光器元件被如此设置，以便于从所述多个半导体激光器元件中象散最大的半导体激光器元件发射的激光束的轴与所述底座的参考轴重合。在所述半导体激光器单元被设置在光学头装置上的情况下，所述多个激光束的聚焦特征可以得到改善。
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公开(公告)号：CN1203599C
公开(公告)日：2005-05-25
申请号：CN02152960.4
申请日：2002-11-29
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: H01S5/40
CPC classification number: G11B7/1275 , G11B7/082 , G11B7/22 , H01S5/02212 , H01S5/02268 , H01S5/02296 , H01S5/4031 , H01S5/4087
Abstract: 一种半导体激光器单元包括：在激光器束发射方向上被彼此相互平行设置的多个半导体激光器元件；以及一个用于定位且固定所述多个半导体激光器元件的底座。所述多个半导体激光器元件被如此设置，以便于从所述多个半导体激光器元件中象散最大的半导体激光器元件发射的激光束的轴与所述底座的参考轴重合。在所述半导体激光器单元被设置在光学头装置上的情况下，所述多个激光束的聚焦特征可以得到改善。
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