投影仪系统
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108632586A

    公开(公告)日:2018-10-09

    申请号:CN201810209136.1

    申请日:2018-03-14

    Inventor: 大谷信

    Abstract: 本发明提供一种投影仪系统,能够将从摄像图像取得视差信息而进行的位置检测维持为高精度,并且抑制摄像部间的距离的增大。能够利用作为构成摄像系统(50)的4个摄像部的照相机(50a、50b、50c、50d)根据摄像范围不同的2组视差图像来取得视差信息,由此,将视差信息设为使得各照相机间的距离的更短的视差信息而取得。利用所取得的视差信息来检测作为投射画面的被照射区域(PLa)上的指示体(OB),实现交互图像投射。

    显示装置
    32.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105705996A

    公开(公告)日:2016-06-22

    申请号:CN201480061447.8

    申请日:2014-11-21

    Abstract: 提供一种所显示的图像的端部的明亮度的下降得到抑制的显示装置。具备:光调制装置,其具有排列有多个像素的图像形成区域(40A),对入射的光进行调制;以及照明装置,其对图像形成区域(40A)进行照明,照明装置具有有效调光区域(30A),该有效调光区域(30A)中排列有能够分别调整对图像形成区域(40A)进行照明的光的光量的多个调光部(30a),由从多个调光部(30a)中的、相邻的调光部(30a)射出的光进行照明的照明区域(40L)局部地重叠,光入射至光调制装置,从位于有效调光区域(30A)的最外侧的调光部(30a)射出的光的强度分布的峰值(Lp1)的位置处于图像形成区域(40A)的外缘上或者图像形成区域(40A)的外侧。

    投影机
    33.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104635407A

    公开(公告)日:2015-05-20

    申请号:CN201410640302.5

    申请日:2014-11-13

    Inventor: 大谷信

    Abstract: 本发明提供关于位置精度提高容许性、使图像的对比度提高、且在投影的图像的画面内使得亮部与暗部的边界不显著地进行控制例如可以对波纹的产生进行抑制而能够提供良好的图像的投影机。在中继光学系统(40)中,通过具有光偏转构件(OC),相对于所通过的光线束,表现使光偏转的作用,由此能够调整为,成为在色调制光阀(50g、50r、50b)中的成像位置处光线束剖面具有适当的大小(扩展)的状态,即成为不完全地成像的模糊存在的状态。由此,能够对波纹进行抑制而使良好的图像形成。

    投影机
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104570561A

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN201410561603.9

    申请日:2014-10-21

    Inventor: 大谷信

    Abstract: 本发明提供一种投影机,该投影机具有作为在光路上串联配置的2个空间调制元件的第1像素矩阵和第2像素矩阵,小型、远心性好、且能够高性能地维持成像状态。通过在中继光学系统(40)中具有双高斯透镜(41g、41r、41b)和配置成分别向双高斯透镜(41g、41r、41b)侧凸出的1对凹凸透镜(42g、43g、42r、43r、42b、43b),能够充分抑制从调光光阀(30g、30r、30b)到色调制光阀(50g、50r、50b)之间的像差的发生,高性能地维持成像状态,进而能够使图像形成良好。

    投影光学系统及具备该投影光学系统的投影机

    公开(公告)号:CN102902046B

    公开(公告)日:2014-12-17

    申请号:CN201210265523.X

    申请日:2012-07-27

    CPC classification number: G02B13/12 G03B21/142

    Abstract: 提供平衡性好地提高光的利用效率的投影光学系统及组装其的投影机。光调制元件侧透镜组20b在液晶面板18G(18R、18B)的纵方向和横方向有不同的放大率,所以作为投影光学系统20的全体系统,在纵横方向有不同的焦点距离,纵横方向的放大倍率也变为不同,液晶面板18G(18R、18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比可不同。也就是说,通过本投影光学系统20,可以变换宽度和高度的比即横纵比。这时,光圈70和光调制元件侧透镜组20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p和距离p’满足预定的条件式,所以在第1工作状态和第2工作状态的双方可确保一定以上的远心性。

    激光投影机
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104181758A

    公开(公告)日:2014-12-03

    申请号:CN201410219388.4

    申请日:2014-05-22

    Inventor: 大谷信

    Abstract: 本发明提供能够一边维持光源的输出和/或可靠性一边实现高解析度化的激光投影机。该激光投影机具备:光源;将从所述光源出射的光进行二维扫描的扫描单元;通过将来自于所述扫描单元的光按预定的聚光角度聚光而形成中间像的聚光光学系统;和将所述中间像投影到被投影面上的投影透镜,所述聚光角度比从所述光源出射的光的发散角度大。

    投影光学系统及具备该投影光学系统的投影机

    公开(公告)号:CN102866483B

    公开(公告)日:2014-11-12

    申请号:CN201210229321.X

    申请日:2012-07-03

    Abstract: 提供使光的利用效率很好地平衡和提高的投影光学系统及组装其的投影机。光调制元件侧透镜群20b在液晶面板18G(18R、18B)的纵方向和横方向具有不同的放大率,所以作为投影光学系统20的全系,在纵横方向具有不同的焦点距离,纵横方向的放大倍率也变为不同,所以液晶面板18G(18R、18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比也可不同。也就是说,通过本投影光学系统20,可以变换宽度和高度的比即横纵比。这时,各焦点、光圈70和光调制元件侧透镜群20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p满足预定的条件式,所以在第1工作状态和第2工作状态的双方可确保一定以上的远心性。

    投影光学系统及具备该投影光学系统的投影机

    公开(公告)号:CN102866483A

    公开(公告)日:2013-01-09

    申请号:CN201210229321.X

    申请日:2012-07-03

    Abstract: 提供使光的利用效率很好地平衡和提高的投影光学系统及组装其的投影机。光调制元件侧透镜群20b在液晶面板18G(18R、18B)的纵方向和横方向具有不同的放大率,所以作为投影光学系统20的全系,在纵横方向具有不同的焦点距离,纵横方向的放大倍率也变为不同,所以液晶面板18G(18R、18B)的图像的横纵比和在屏幕SC上投影的图像的横纵比也可不同。也就是说,通过本投影光学系统20,可以变换宽度和高度的比即横纵比。这时,各焦点、光圈70和光调制元件侧透镜群20b的屏幕SC侧的最端面20f的距离p满足预定的条件式,所以在第1工作状态和第2工作状态的双方可确保一定以上的远心性。

    投影光学系统以及具备该投影光学系统的投影仪

    公开(公告)号:CN203054329U

    公开(公告)日:2013-07-10

    申请号:CN201220447740.6

    申请日:2012-09-04

    Abstract: 本实用新型公开了一种投影光学系统以及具备该投影光学系统的投影仪。第二组(40)在液晶面板(18G(18R、18B))的纵向与横向具有不同的放大倍数,因此,投影光学系统(20)的整个系统也在纵横方向具有不同的焦距且纵横方向的放大倍率也不同,能使液晶面板(18G(18R、18B))的图像的横纵比与投射到投影屏(SC)上的图像的横纵比不同。即,能利用本投影光学系统(20)进行宽度与高度之比即长宽比的转换。此时,通过第一组(30)与第二组(40)的进退动作联动地变更位置,能调整成像位置,因此,通过在第一动作状态以及第二动作状态中任一种状态下均将成像面保持在同一位置,能够与投影屏(SC)的配置适应。

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