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公开(公告)号：CN111210713B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202010070641.X
申请日：2020-01-21
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明涉及微纳光学及光学防伪技术领域，公开了一种基于防伪底纹与图像复用的防伪超表面的设计方法，包括如下步骤：构建纳米砖阵列，纳米砖阵列包括多个纳米砖结构单元，优化获得功能等效为微纳起偏器、具有不同光谱响应的至少两组纳米砖结构单元的备选尺寸参数，且各组备选尺寸的纳米砖结构在波长λ0处的响应特性相同；确定超表面需要进行复用的连续灰度图像、防伪底纹图像以及双色图像；根据进行复用的图像来排列纳米砖单元结构的尺寸和纳米砖转向角，构成超表面材料。本发明设计的超表面在不同偏振方向的线偏振光入射下能显示灰度图像或防伪底纹图像，在白光照明下显示双色图像，其具有算法复杂程度低、安全性高以及隐蔽性强等优点。
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公开(公告)号：CN112882140A
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN202110112364.9
申请日：2021-01-27
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明属于微纳光学技术领域，公开了实现彩色纳米印刷和全息的双功能超表面及其设计方法。超表面由若干个纳米砖结构单元构成，纳米砖结构单元包括基底和纳米砖；不同组类的纳米砖结构单元在白光入射下具有不同的反射光谱响应，呈现不同的结构色；每个纳米砖单元结构作为一个像素单元，根据彩色纳米印刷图像的颜色对多个组类的纳米砖结构单元进行排布；根据远场全息图像对应计算的全息振幅分布对每个纳米砖的转向角进行排布；以非偏振白光入射至超表面，反射光在超表面所在平面上显示彩色印刷图像；以线偏振光入射至超表面，出射光经过检偏器在夫琅禾费衍射区显示远场全息图像。本发明能够通过一片超表面实现彩色纳米印刷和远场全息复用。
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公开(公告)号：CN112147721A
公开(公告)日：2020-12-29
申请号：CN202010951978.1
申请日：2020-09-11
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明提供一种偏振阶数可调且可连续变焦的柱矢量光束透镜，包括两片级联的超表面阵列，每片超表面阵列包括多个纳米砖结构单元，纳米砖结构单元包括工作面以及设置在工作面上的纳米砖；用线偏振光入射级联的两片超表面阵列时产生柱矢量光束；以线偏振光入射时，固定第一片超表面阵列，绕光轴旋转第二片超表面阵列，实现出射柱矢量光束的偏振阶数连续调节和连续变焦；本发明还提供上述柱矢量光束透镜的构造方法，该方法根据偏振阶数调节范围确定纳米砖转向角排布，根据焦距调节范围和精度确定纳米砖尺寸参数的排布。本发明可以实现任意阶数柱矢量光束的产生和连续变焦，解决目前柱矢量光束生成中光学系统复杂、难以连续变焦等问题。
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公开(公告)号：CN111210713A
公开(公告)日：2020-05-29
申请号：CN202010070641.X
申请日：2020-01-21
Applicant: 武汉大学
Abstract: 本发明涉及微纳光学及光学防伪技术领域，公开了一种基于防伪底纹与图像复用的防伪超表面的设计方法，包括如下步骤：构建纳米砖阵列，纳米砖阵列包括多个纳米砖结构单元，优化获得功能等效为微纳起偏器、具有不同光谱响应的至少两组纳米砖结构单元的备选尺寸参数，且各组备选尺寸的纳米砖结构在波长λ0处的响应特性相同；确定超表面需要进行复用的连续灰度图像、防伪底纹图像以及双色图像；根据进行复用的图像来排列纳米砖单元结构的尺寸和纳米砖转向角，构成超表面材料。本发明设计的超表面在不同偏振方向的线偏振光入射下能显示灰度图像或防伪底纹图像，在白光照明下显示双色图像，其具有算法复杂程度低、安全性高以及隐蔽性强等优点。
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