公开(公告)号：CN102959470A

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN201180031708.8

申请日：2011-06-07

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  畑中诚

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1368

CPC classification number: G03F7/70275

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其中，形成为能够在与被曝光体的面及光掩模的面平行的面内向箭头(B)方向移动的透镜组装体(11)中，具有将多个单位透镜组装体(11A～11C)以各透镜列(16)的透镜组(15)在与箭头(B)方向交叉的方向上以固定的排列间距排列的方式排列成一列的结构，其中，该多个单位透镜组装体(11A～11C)中，在与箭头(B)方向交叉的方向上以固定的排列间距排列构成为能够将光掩模的掩模图案的等倍正立像成像到被曝光体表面上的多个透镜组(15)而形成多个透镜列(16)，且多个单位透镜组装体(11A～11C)以使各透镜列(16)的各透镜组(15)与相对于箭头(B)方向倾斜交叉的轴线(O-O)平行地排列的方式将各透镜列(16)在与箭头(B)方向交叉的方向上相互错开固定量而形成，且具有与轴线(O-O)平行地切除相互相邻的端部(11Aa、11Ba、11Bb、11Ca)的结构。由此，以高析像力进行大面积的被曝光体上的非周期性的图案的曝光。

公开(公告)号：CN102667622A

公开(公告)日：2012-09-12

申请号：CN201080057974.3

申请日：2010-12-13

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  畑中诚

IPC: G03F1/42 ,  G03F7/20 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70283 ,  G03F1/38 ,  G03F1/50

Abstract: 本发明提供一种光掩模，具有：在透明基板(4)的下表面(4a)形成有规定形状的多个掩模图案(5)的掩模基板(2)；在另一透明基板(9)的下表面(9a)形成有将多个掩模图案(5)的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜(10)，且在上表面(9b)以使光轴与投影透镜(10)的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于投影透镜(10)的多个向场透镜(11)的微型透镜阵列(3)，以使掩模图案(5)与向场透镜(11)具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合掩模基板(2)与微型透镜阵列(3)。由此，能够提高照射于被曝光体的光的利用效率。