湿润硅胶的干燥方法
    39.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1297846A

    公开(公告)日:2001-06-06

    申请号:CN00135076.5

    申请日:2000-11-29

    CPC classification number: C01B33/16 C01B33/158

    Abstract: 本发明公开一种湿润硅胶的干燥方法,它是一种将保持有水的湿润硅胶进行干燥的方法,其特征在于,它具有(a)通过将上述湿润硅胶在水溶性溶剂中硅烷基化而使其疏水化的步骤和(b)将上述湿润硅胶在其所保持的液体的临界点以下的温度和压力条件下进行干燥的步骤。在本发明的湿润硅胶干燥方法中,不使用以往的超临界干燥方法且在疏水化处理时无需将多余的溶剂进行置换。

    片材及发光装置
    40.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103038677B

    公开(公告)日:2015-02-18

    申请号:CN200980130652.4

    申请日:2009-12-21

    CPC classification number: H01L51/5262 G02B5/3025 G09F13/22

    Abstract: 本发明提供一种片材,其按照来自发光体的光向一侧的面入射且从另一侧的面射出的方式使用,在另一侧的面具备内切最大圆直径为0.2μm以上2μm以下的多个微小区域(13),多个微小区域(13)中的每个微小区域被多个微小区域(13)中的另外的多个微小区域邻接且围绕,多个微小区域(13)由从多个微小区域(13)中以20%以上80%以下的比率所随机选择的多个微小区域(13a)和除此之外的多个微小区域(13b)构成,透过所述多个微小区域(13a)的光与透过多个微小区域(13b)的光的相位差为π。

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