公开(公告)号：CN114381754A

公开(公告)日：2022-04-22

申请号：CN202111656163.1

申请日：2018-03-22

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 船川明恭 ,  角佳典 ,  蜂谷敏德 ,  古池润

IPC: C25B9/23 ,  C25B9/05 ,  C25B13/08 ,  C25B11/052 ,  C25B11/031 ,  C25B9/65 ,  C25B13/02 ,  G01D21/02 ,  G01N3/08 ,  G01N9/24 ,  G01N23/223

Abstract: 本发明涉及层积体。一种层积体，其具备电解用电极和与所述电解用电极接触的隔膜或供电体，对于所述隔膜或供电体，所述电解用电极的每单位质量·单位面积所施加的力小于1.5N/mg·cm2。

公开(公告)号：CN110938835B

公开(公告)日：2022-03-22

申请号：CN201910880528.5

申请日：2019-09-18

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 船川明恭 ,  角佳典

IPC: C25B11/00

Abstract: 本发明所要解决的技术问题在于提供一种电极的制造方法，该制造方法可降低在电解槽中进行电极更新时的成本、并且可提高作业效率，进而还能够维持修补后的电解性能。一种电极的制造方法，其是用于通过对既有电极的表面进行修补而制造出新电极的方法，其中，该方法具有：在上述既有电极的表面的至少一个区域固定厚度为315μm以下的电解用电极的工序(A)。

公开(公告)号：CN110291227B

公开(公告)日：2021-05-14

申请号：CN201880011842.3

申请日：2018-03-13

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 船川明恭 ,  蜂谷敏德

IPC: C25B9/19 ,  C25B11/00 ,  C25B11/052 ,  C25B11/061 ,  C25B15/00 ,  C25B1/46

Abstract: 本发明的电解池为具备阴极室的电解池，该阴极室包含阴极、以及与所述阴极对置地配置且具有基材和逆电流吸收体的逆电流吸收部件，其中，上述阴极与上述逆电流吸收体被电连接；设上述阴极室的下端的高度为0、设上述阴极室的上端的高度为h时，在对应于h/2以上h以下的高度的位置I存在的逆电流吸收体的面积S3与对应于上述位置I的上述基材的阴极对置面的面积SA之比为0.20≦S3/SA

公开(公告)号：CN112313366A

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN201980039746.4

申请日：2019-07-05

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 甲斐直幸 ,  饭山宗平 ,  船川明恭 ,  角佳典

IPC: C25B1/46 ,  C25B9/19 ,  C25B9/63 ,  C25B11/031 ,  C25B11/061 ,  C25B11/075

Abstract: 一种电极结构体，其具备：电极、与上述电极对置的集电板、位于上述电极与上述集电板之间且具有导电性的弹性体、以及位于上述弹性体与上述集电板之间的电极固定用部件，上述电极的周边部的至少一部分被固定在上述电极固定用部件与上述集电板之间。

公开(公告)号：CN110938835A

公开(公告)日：2020-03-31

申请号：CN201910880528.5

申请日：2019-09-18

Applicant: 旭化成株式会社

Inventor： 船川明恭 ,  角佳典

IPC: C25B11/00

Abstract: 本发明所要解决的技术问题在于提供一种电极的制造方法，该制造方法可降低在电解槽中进行电极更新时的成本、并且可提高作业效率，进而还能够维持修补后的电解性能。一种电极的制造方法，其是用于通过对既有电极的表面进行修补而制造出新电极的方法，其中，该方法具有：在上述既有电极的表面的至少一个区域固定厚度为315μm以下的电解用电极的工序(A)。